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公开(公告)号：CN118874932B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411187198.9
申请日：2024-08-28
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种针对半导体化学气相沉积喷淋头的清洗方法，包括将喷淋头放置于含有甲缩醛、双氧水、丙酮清洗液中浸泡、氧气等离子清洗、氮气等离子清洗、超微纳米气泡工艺清洗、纯水超声处理等步骤。本发明采用化学等离子结合超微纳米气泡工艺的方式，对半导体化学气相沉积设备进行清洗。这种方法能够对产品表面和孔洞内部进行深层次清洗，有效去除表面和孔洞的污染物，提高清洗效果和产品质量；本发明方法不仅能够对产品表面和孔洞内部进行深层次清洗，同时，因为不涉及酸碱化学品，因此对母材的损伤较小，这一优势将大大提高半导体制造设备的清洗效率和质量，从而提高半导体产品的整体性能和使用寿命。
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公开(公告)号：CN118086815A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202410143752.7
申请日：2024-02-01
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种悬浮液等离子喷涂浆料及其制备方法与应用，涉及耐等离子刻蚀陶瓷涂层领域。方法包括以下步骤：S1、对基体进行前处理；S2、对前处理后的基体进行热处理；S3、将预处理后的喷涂浆料用APS喷涂到S2处理后的基体表面；S4、将预处理后的喷涂浆料用SPS喷涂到S3所得涂层表面；其中，S4中预处理后的喷涂浆料，预处理方法包括：将喷涂浆料搅拌升温至173‑190℃，保持10‑30min，继续升温至220‑240℃，保持10‑30min。本发明通过对基体表面、喷涂浆料以及涂层进行多步特定预处理或热处理步骤，进一步提升了氧化钇涂层的结合强度，降低了孔隙率和表面粗糙度，所得涂层各项性能优越。
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公开(公告)号：CN115985822A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310275057.1
申请日：2023-03-21
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
IPC: H01L21/67 , G06T7/00 , G06T3/40 , G01N27/06 , G01N27/626
Abstract: 本发明公开了一种集成电路芯片高精密表面质量控制系统，包括识别模块、分配模块、多个检测模块、预测模块、提醒模块、显示模块、多个酸液槽设有酸液，多个检测模块对多个酸液槽内酸液的导电率进行检测，识别模块对待清洗产品的类型进行识别，分配模块按照类型为待清洗产品分配的酸液槽，预测模块根据导电率预估换酸时间；在预设时间段内提醒电感耦合等离子体质谱仪ICP‑MS测试酸液中的所有金属元素含量，测试结果超过清洗限度值阈值时需更换酸液；能够提高酸液的利用程度，有利于对多个酸液槽进行时间同步管理，降低检测成本，提高控制的智能化程度。
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公开(公告)号：CN115829963A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211503717.9
申请日：2022-11-28
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种等离子喷涂图像数据识别分析方法和系统，用于生成待喷涂产品的算法模板，包括图像采集模块，图像分析模块，图像空间处理模块，算法处理模块，算法模板数据库，数据存储器，算法输出端口。当算法模板数据库中没有待喷涂产品的算法模板，所述算法处理模块基于三维模型、约束条件和预设策略生成待喷涂产品的喷涂算法，并保存为待喷涂产品的几何构型对应的算法模板。通过对等离子喷涂图像数据的识别和分析，分析后规划输出的数据，准确度高，喷涂作业的路径规划更加准确，降低了生产的错误喷涂率，提高了整体喷涂效率和喷涂质量；同时图像识别准确度高，大大提高了工作效率，降低了人工作业的成本。
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公开(公告)号：CN113970880A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202111391021.7
申请日：2021-11-23
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明公开了一种用于半导体光刻胶的清洗方法，第一步：拆卸机台涂胶部件，在光刻胶周边区域铺上防渗漏高分子材料；第二步：将光刻胶剥离液倒入防渗漏材料圈起范围内以浸润光刻胶，软化表面；第三步：将表面软化的光刻胶去除；第四步：继续软化胶体；第五步：再次将软化的下层光刻胶去除；第六步：使用十六烷基二甲基苄基铵溶液将最底层的光刻胶浸泡擦除；第七步：使用超纯水去除残留化学品；第八步：使用高纯氮气吹扫整个热板部件。本发明主要解决热板上的残留光刻胶的清洗，可将涂胶部件从设备机台拆卸下来，针对涂胶部件上热板区域局部的光刻胶采取化学品浸泡。而无需将氧化铝陶瓷热板完全从涂胶部件拆卸，增加热板部件安装错误的风险。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119819652A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510154376.6
申请日：2025-02-12
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
IPC: B08B7/00
Abstract: 本发明提供一种异形零部件激光自动清洗轨迹规划方法及系统，涉及机器人控制领域，方法包括：对异形零部件进行视觉扫描；根据零部件三维模型的表面上的点云坐标，以减少机械臂的运行时间、能耗、冲击以及加速度为目标，进行清洗轨迹规划；对确定的清洗轨迹上的轨迹点进行干扰检测并消除干扰；通过机械臂运动学模型，将清洗轨迹上的轨迹点坐标转换为机械臂各关节的旋转角度；以减少机械臂末端与清洗轨迹上的轨迹点之间的差异为目标，使用雅可比矩阵结合迭代求解，对机械臂各关节的旋转角度进行优化；按照清洗轨迹上的轨迹点与机械臂各关节的旋转角度之间的映射关系，控制机械臂移动，并使用激光进行异形零部件的自动清洗。
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公开(公告)号：CN118086815B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410143752.7
申请日：2024-02-01
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种悬浮液等离子喷涂浆料及其制备方法与应用，涉及耐等离子刻蚀陶瓷涂层领域。方法包括以下步骤：S1、对基体进行前处理；S2、对前处理后的基体进行热处理；S3、将预处理后的喷涂浆料用APS喷涂到S2处理后的基体表面；S4、将预处理后的喷涂浆料用SPS喷涂到S3所得涂层表面；其中，S4中预处理后的喷涂浆料，预处理方法包括：将喷涂浆料搅拌升温至173‑190℃，保持10‑30min，继续升温至220‑240℃，保持10‑30min。本发明通过对基体表面、喷涂浆料以及涂层进行多步特定预处理或热处理步骤，进一步提升了氧化钇涂层的结合强度，降低了孔隙率和表面粗糙度，所得涂层各项性能优越。
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公开(公告)号：CN119028795A
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202411357433.2
申请日：2024-09-27
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种上电极的清洗方法，属于半导体制造技术领域，包括上电极激光清洗步骤：在第一功率下，利用激光束对上电极表面进行激光清洗；氧气等离子清洗：在第二功率下，通入含有氧气的第一混合气体，对表面残留污染物进行氧化生成无害气体；氮气等离子清洗步骤：在第三功率下，通入含有氮气的第二混合气体，去除部件表面残留惰性污染物；二氧化碳干冰工艺清洗步骤；纯水超声步骤，然后吹干；烘干冷却步骤：纯水超声步骤处理后进行烘干、冷却，得清洗后的上电极。本发明刻蚀腔上电极的非接触式清洗方法，通过非接触式清洗步骤和降低环境造成污染，同时降低对母材和环境和人体的潜在危害。
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公开(公告)号：CN117418185A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311742925.9
申请日：2023-12-18
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
IPC: C23C4/134 , C23C4/02 , C23C4/11 , G06T7/60 , G06N3/0464 , G06N3/08 , G06T7/00 , G06T7/11 , G06T7/13 , G06T7/136 , G06V10/26 , G06V10/30 , G06V10/44 , G06V10/764 , G06V10/82 , G06V20/69 , G06T5/00
Abstract: 本发明公开了一种等离子喷涂方法和系统，所述方法包括以下步骤：步骤1，未喷涂区域进行非喷涂区域保护；步骤2，选择白刚玉或氧化铝作为喷砂材料，通过机械手臂自动喷涂；步骤3，将喷砂后的石英进行干冰清洗和纯水超声波震荡清洗；步骤4，在喷涂处理的步骤中，利用图像识别系统确定粉末的直径范围，根据粉末的材料特性确定第一阶段的喷涂厚度，确定第一阶段的喷涂时间和第二阶段的喷涂时间；步骤5，喷涂完成后，去除遮挡保护，进行表面处理和清洗；步骤6，烘箱保温；本发明提出的等离子喷涂方法，通过智能化图像识别系统的运用，对喷涂数据进行分析处理识别，提高了涂层的质量和性能。
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公开(公告)号：CN117415091A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202310623786.1
申请日：2023-05-30
Applicant: 江苏凯威特斯半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种半导体设备真空腔体静电吸盘清洗方法，包括以下步骤：对静电吸盘表面及孔洞内部进行吹扫；对静电吸盘反复擦拭；检查静电吸盘表面侧面背面及孔道内部；测量孔道的孔径；对静电吸盘进行一次化学清洗；对静电吸盘进行二次化学清洗；对静电吸盘表面及孔洞内部进行吹扫；用纯水对静电吸盘表面进行冲洗，并用洁净海绵进行擦拭；将纯水冲入气流孔和提拉孔内，反复冲洗三次；进行吹干处理；对产品进行加热干燥处理；对产品进行最终检查。该方法使用稳定性较好、不仅对产品母材没有腐蚀，而且整个清洗过程可去除产品表面残留的微量金属离子，达到完全清洁的作用，满足28nm制程的静电吸盘清洗工艺。
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