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公开(公告)号：CN117207091A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202311406486.4
申请日：2023-10-27
IPC: B24D18/00
Abstract: 本发明的能用于制造不同尺寸、表面形状的磨抛盘的成型模具包括容腔、永磁吸盘和成型组件；所述容腔用于填装压制粉末，其包括弧形主体、伸缩件、调节件和扩容升降板；调节件用于控制伸缩件的展开与伸缩，以改变容腔的内径；扩容升降板用于在填装粉末时上移，增加容腔高度，便于填装更多粉末；所述成型组件包括配套使用的多个合页和多个连接件，使用时可以通过将合页与连接件拼接组合成不同形状的成型组件，以使在磨抛盘上形成符合设计要求的表面形状；所述永磁吸盘用于吸附成型组件，并对容腔内的粉末进行压制。本发明的成型模具可以根据需要压制不同尺寸的磨抛盘，通用性好，而且在磨抛盘压制成型时，还会直接在表面上形成所需要的表面形状。
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公开(公告)号：CN119282899A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202411699802.6
申请日：2024-11-26
Abstract: 本发明公开了用于单轴抛光机高精度平面零件加工的可调夹具，包括转盘、滑槽盘、延长杆以及固定块，所述转盘和滑槽盘同轴设置，且可以相对转动；所述转盘上设有安装紧定螺钉的螺钉孔；所述滑槽盘上沿径向开设有滑槽，对应的，所述转盘上开设有圆弧槽，所述圆弧槽和滑槽成对设置，形成复合轨迹槽，所述复合轨迹槽在周向上成组设置；所述延长杆设于滑槽内，其外端设有固定块，所述固定块与延长杆之间转动连接；所述延长杆的内端设有圆柱杆，所述圆柱杆与圆弧槽相互配合。本发明的夹具能够适应不同尺寸、不同形状工件的加工要求，操作简单。本发明在加工过程中能够达到无压抛光的效果，同时，能够控制工件在磨盘上的运动轨迹，有利于调整加工工艺。
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公开(公告)号：CN116657232A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310801892.4
申请日：2023-06-30
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明涉及半导体研磨加工技术领域，具体地涉及一种碳化硅晶圆电化学研磨盘，研磨盘的研磨面上开设若干间隔设置的反应槽，反应槽内设置放电电极，放电电极通电在研磨晶圆时对晶圆表面进行放电。通过设置于研磨盘中的电极间放电，释放出高能离子与瞬间高温，产生大量等离子体、氢基、羟基、自由基等。利用放电生成的高氧化性物质加速碳化硅表面的氧化，在碳化硅基板表面产生化学反应，生成氧化层。然后再用研磨面配合研磨液内的磨料去除氧化层。
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公开(公告)号：CN110407582B
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN201910716729.1
申请日：2019-08-05
Applicant: 衢州学院
IPC: C04B35/565 , B01J19/00 , C04B35/634
Abstract: 本发明公开了一种基于凝胶成型的碳化硅微反应器制备方法，其特征包括：(1)制备碳化硅浓悬浮液；(2)制备聚乙烯醇和水溶性酚醛树脂混合胶水；(3)将混合胶水加入到碳化硅浓悬浮液中混合得到浆料；(4)将浆料倒入模具中，冷冻物理凝胶，解冻后自然干燥，放入烘箱中烘干，冷等静压，低温烧结，酚醛树脂固化；(5)坯体表面修形；(6)坯体排胶；(7)坯体在烧结炉中埋入硅粉进行反应烧结；(8)烧结后，对装配面精加工，两块碳化硅板高温键合，制备得到碳化硅微反应器。本发明中，通过聚乙烯醇物理凝胶固化，各组分分布均匀，引入的酚醛树脂烧结后残碳率达到60～70％，与硅液反应生成碳化硅，降低碳化硅中游离硅，致密性好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110340787B
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN201910744794.5
申请日：2019-08-09
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明涉及蓝宝石打磨设备技术领域，提供一种蓝宝石切片立式双面研磨设备，所述蓝宝石切片立式双面研磨设备，包括：第一研磨盘和第二研磨盘，所述第一研磨盘和所述第二研磨盘平行设置，且所述第一研磨盘和所述第二研磨盘能够在不与地面垂直的第一状态和垂直地面的第二状态之间转换。本发明的蓝宝石切片立式双面研磨设备通过设置两个相互平行的研磨盘，在放置待研磨的蓝宝石切片时，研磨盘处于第一状态，在对蓝宝石切片研磨时，研磨盘处于第一状态，垂直地面设置，以消除蓝宝石切片自身重力对去除量的影响，避免蓝宝石切片报废。
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公开(公告)号：CN110328607B
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN201910716725.3
申请日：2019-08-05
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明公开了一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法，制造高介电常数真空吸盘和高介电常数抛光盘，在抛光盘和基盘的非工作端面涂上高温银浆，接上电极，绝缘处理；将锗平面镜真空吸附在多孔陶瓷基盘上，采用化学抛光液进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用高介电常数陶瓷抛光盘，在抛光盘和真空吸附陶瓷基盘接上电极后，在抛光区域产生强电场，氢离子或氢氧根离子向工件表面移动，增强了工件表面酸碱度，提高了抛光液对工件表面的腐蚀性，在液动压流体的剪切作用下，对工件表面进行化学非接触抛光。本方法通过电场实现对工件表面的PH值可控，化学非接触抛光提高了工件表面质量，避免表面磨损。
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公开(公告)号：CN110983020A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201911344144.8
申请日：2019-12-24
Applicant: 浙江环宇轴承有限公司 , 衢州学院
Abstract: 本发明公开了一种轴承加工用内外圈热处理装置，包括支撑架，所述支撑架的中间设置有旋转机构，所述旋转机构上设置有载料台，所述载料台的上下两面四周均开设有卡位台，所述载料台的上下两面上均匀的固定连接有产品放置台，所述产品放置台上放置有轴承外圈，所述卡位台上卡接有正火箱，所述正火箱位于载料台的上侧，所述正火箱的外侧顶端固定连接有气缸，所述气缸的活塞杆端部固定有推料板，所述推料板位于正火箱的内部，所述推料板的下侧均匀的固定有与产品放置台相适配的加热桶，所述加热桶卡接在产品放置台的外侧，所述正火箱的上侧设置有升降机构，实现产品的正火和淬火处理，工作效率高，设备成本低，无需人工转料，安全性好。
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公开(公告)号：CN110421481A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201910732814.7
申请日：2019-08-09
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明涉及研磨设备技术领域，提供一种蓝宝石切片游离磨料研磨装置，所述蓝宝石切片游离磨料研磨装置，包括：研磨盘，所述研磨盘的上表面设置有多个直径不同的环形凹槽；每个所述环形凹槽都连接有排液孔，所述排液孔的一端连接所述环形凹槽，另一端连接所述研磨盘的周面；止流环，所述止流环能够与所述排液孔的一端接触或非接触；供液管，所述供液管设置在所述研磨盘的上方，所述供液管上间隔设有多个供液孔。本发明通过在研磨盘的上表面设置环形凹槽，利用环形凹槽储存研磨液，避免研磨液的损失；在研磨液通过排液孔排出后，通过供液管对研磨盘供给研磨液，使得研磨盘的表面的研磨液能够快速更新，提高研磨盘的加工质量。
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公开(公告)号：CN110405543A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201910717105.1
申请日：2019-08-05
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明公开了一种采用酸性抛光液和金属基抛光盘的铁氧体基片抛光方法，其特征包括：溶胶凝胶法制备非晶态合金基体抛光盘；配制油包水酸性硅溶胶抛光液；将铁氧体基片粘结在陶瓷基盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用酸性抛光液作为腐蚀剂，使铁氧体基片表面被氧化形成变质层，再利用硅溶胶和非晶态合金基体抛光盘对其表面进行抛光，去除表面变质层，从而达到抛光的作用。非晶态合金基体具有组织结构细腻，韧性高，耐腐蚀，对磨粒把持力强的特点。低表面张力油性溶剂与酸性硅溶胶混合制备油包水酸性硅溶胶抛光液，保证抛光液液膜厚度一致性以及实现表面材料的微量腐蚀。本抛光方法具有产品面型精度好，无塌边的特点。
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