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公开(公告)号：CN117926199A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202311811928.3
申请日：2023-12-27
Applicant: 烟台大学
Abstract: 本发明提供一种TiVCrZrWAg高熵合金薄膜材料及其制备方法和应用，包括如下步骤：对硅基底进行清洗和烘干处理；将清洗和烘干后的硅基底置于磁控溅射装置的真空腔体中，将TiVCrZrW靶材和Ag靶材安装在磁控溅射装置的靶位上；向真空腔体中通入Ar气体作为溅射气体，调节腔体中的工作压强；轰击TiVCrZrW靶材和Ag靶材后，TiVCrZrW靶材、Ag靶材同时开始溅射，两个靶材的溅射厚度相等；溅射结束后，将腔体冷却到室温，得到TiVCrZrWAg高熵合金薄膜。本发明提供的TiVCrZrWAg高熵合金薄膜材料及其制备方法和应用，在TiVCrZrW高熵合金中引入银元素，细化了薄膜的晶粒结构，提高了其致密性，显著改善了摩擦性能和耐腐蚀性能，对于高性能机械部件的性能提升具有重大意义。
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公开(公告)号：CN119187269B
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411718148.9
申请日：2024-11-28
Applicant: 烟台大学
Abstract: 本发明属于管件成型技术领域，具体涉及一种变径薄壁铝管立式挤压成型装置及方法。该装置包括底座、立柱、伺服挤压单元、芯模、挤压头及凹模，其中伺服挤压单元通过两个立柱与底座连接，凹模设置于底座上且通过密封结构进行密封，芯模设置于凹模内，且与凹模之间形成用于放置管件毛坯的环形挤压腔；挤压头与两个立柱滑动连接，挤压头用于在环形挤压腔的上端对管件毛坯进行伺服挤压，伺服挤压单元通过伺服挤压杆为挤压头提供伺服挤压动力。本发明通过背压挤压及在背压与挤压反复作用下，导致结晶过程的管件表面与模具反复摩擦结晶细化，有效提升陶瓷颗粒与铝镁基的润湿性和结晶细化度，进而提升管件的疲劳强度和塑性等力学性能。
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公开(公告)号：CN119187269A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411718148.9
申请日：2024-11-28
Applicant: 烟台大学
Abstract: 本发明属于管件成型技术领域，具体涉及一种变径薄壁铝管立式挤压成型装置及方法。该装置包括底座、立柱、伺服挤压单元、芯模、挤压头及凹模，其中伺服挤压单元通过两个立柱与底座连接，凹模设置于底座上且通过密封结构进行密封，芯模设置于凹模内，且与凹模之间形成用于放置管件毛坯的环形挤压腔；挤压头与两个立柱滑动连接，挤压头用于在环形挤压腔的上端对管件毛坯进行伺服挤压，伺服挤压单元通过伺服挤压杆为挤压头提供伺服挤压动力。本发明通过背压挤压及在背压与挤压反复作用下，导致结晶过程的管件表面与模具反复摩擦结晶细化，有效提升陶瓷颗粒与铝镁基的润湿性和结晶细化度，进而提升管件的疲劳强度和塑性等力学性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116219365B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202310248717.7
申请日：2023-03-15
Applicant: 烟台大学
Abstract: 一种TiVCrZrW/Si纳米复合涂层的制备方法，涉及一种TiVCrZrW基纳米复合涂层的制备方法。本发明的目的是通过磁控溅射生成自润滑的高熵陶瓷薄膜，进而改善TiVCrZrW基纳米涂层的摩擦学性能及耐腐蚀性能。本发明提供了一种TiVCrZrW基纳米复合涂层薄膜，通过引入硬质元素Si元素，形成了具有高硬度、高韧性、低摩擦和耐磨损的高熵陶瓷薄膜，并且实现了对TiVCrZrW基涂层微观结构的调控，提高了涂层的致密度，提高了所述涂层在模拟海水环境下的耐腐蚀性能，实现了TiVCrZrW/Si纳米复合涂层的可控生长。
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公开(公告)号：CN116219365A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310248717.7
申请日：2023-03-15
Applicant: 烟台大学
Abstract: 一种TiVCrZrW/Si纳米复合涂层的制备方法，涉及一种TiVCrZrW基纳米复合涂层的制备方法。本发明的目的是通过磁控溅射生成自润滑的高熵陶瓷薄膜，进而改善TiVCrZrW基纳米涂层的摩擦学性能及耐腐蚀性能。本发明提供了一种TiVCrZrW基纳米复合涂层薄膜，通过引入硬质元素Si元素，形成了具有高硬度、高韧性、低摩擦和耐磨损的高熵陶瓷薄膜，并且实现了对TiVCrZrW基涂层微观结构的调控，提高了涂层的致密度，提高了所述涂层在模拟海水环境下的耐腐蚀性能，实现了TiVCrZrW/Si纳米复合涂层的可控生长。
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公开(公告)号：CN118639179B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202411118988.1
申请日：2024-08-15
Applicant: 烟台大学
Abstract: 本发明公开了一种ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜的制备方法，属于纳米薄膜技术领域，对Ti‑6Al‑4V衬底进行超声清洗后，置于干燥箱内干燥后放入磁控溅射装置的真空腔体内，将ZrNbTiCrCu靶材安装在磁控溅射装置的靶位上；向真空腔体内通入Ar气体，调节工作压强，利用直流电流令ZrNbTiCrCu靶材进行溅射；溅射结束后，将真空腔体冷却至室温，得到ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜。本发明利用磁控溅射技术，在高熵合金薄膜体系中引入Cu元素，制备得到了一种同时兼备优异耐腐蚀性能、生物相容性和抗菌性能的高熵合金薄膜。同时，利用磁控溅射技术制备的高熵合金薄膜通用性极佳，制备过程中基体升温慢，涂层结构致密、性能优异。
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公开(公告)号：CN118639179A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202411118988.1
申请日：2024-08-15
Applicant: 烟台大学
Abstract: 本发明公开了一种ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜的制备方法，属于纳米薄膜技术领域，对Ti‑6Al‑4V衬底进行超声清洗后，置于干燥箱内干燥后放入磁控溅射装置的真空腔体内，将ZrNbTiCrCu靶材安装在磁控溅射装置的靶位上；向真空腔体内通入Ar气体，调节工作压强，利用直流电流令ZrNbTiCrCu靶材进行溅射；溅射结束后，将真空腔体冷却至室温，得到ZrNbTiCrCu高熵纳米合金薄膜。本发明利用磁控溅射技术，在高熵合金薄膜体系中引入Cu元素，制备得到了一种同时兼备优异耐腐蚀性能、生物相容性和抗菌性能的高熵合金薄膜。同时，利用磁控溅射技术制备的高熵合金薄膜通用性极佳，制备过程中基体升温慢，涂层结构致密、性能优异。
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公开(公告)号：CN210735147U
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201921870193.0
申请日：2019-11-01
Applicant: 烟台大学
Abstract: 本实用新型公开了一种智能垃圾桶，包括桶体、底座、上盖、移动装置、麦克风阵列、控制器、自动翻盖机构和为整个装置供电的电源单元；所述桶体为上部开口的筒体结构，设置在底座上，所述上盖与桶体的上端转动连接，用于盖合或打开桶体上部开口，所述底座的外侧位置安装摄像头，所述底座上的内部中央位置安装麦克风阵列；所述自动翻盖机构包括抓手、拉杆、摇杆和马达，所述抓手固定设置在上盖的下侧位置。本实用新型的有益效果：提出了切实可行的移动装置和自动翻盖结构的技术方案，保证移动功能和自动翻盖功能的良好实现；通过麦克风阵列和摄像头视频的组合方式，对于用户的位置进行定位，提高了定位的准确性和易用性。
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