半导体发光器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN100479282C

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN200580000925.5

    申请日:2005-06-15

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/2231 H01S2301/185

    Abstract: 本发明提供一种半导体发光器件及其制造方法,该半导体发光器件中激光束的纵横比得到改进从而接近于圆。在衬底(10)上,第一导电类型的第一覆层(11)、有源层(12)、以及第二导电类型的第二覆层(17)分层形成,该第二覆层(17)部分地具有作为电流集聚结构的脊形RD。在脊形部分的第二覆层具有这样的结构,该结构包括在接近所述有源层的一侧的高带隙的第一脊形层(15)和在远离所述有源层的一侧的低带隙的第二脊形层(16)。该半导体发光器件通过用外延生长在衬底上分层形成第一覆层、有源层、以及第二导电类型的第二覆层,然后将第二覆层的一部分剪裁成脊形来制造。形成第二覆层使得第一脊形层和第二脊形层被包括在将具有脊形的部分中。

    半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1383240A

    公开(公告)日:2002-12-04

    申请号:CN02121877.3

    申请日:2002-04-03

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/0425 H01S5/2213

    Abstract: 提供一种制造具有大的半值宽度和高的拐点电平的脊峰波导型半导体激光器的方法。首先,脊的振荡波长的有效折射率neff1和在脊的两侧的每一侧上的部分的振荡波长的有效折射率neff2之间的有效折射率差Δn表示为Δn =neff1-neff2,脊宽度表示为W。在这种假设下,在X-Y坐标上(X轴:W,Y轴:Δn)设置下列三个关系式的常数“a”、“b”、“c”和“d”。第一关系式表示为Δn a×W+b,这里“a”和“b”是确定拐点电平的常数。第二关系式表示为W≥c,这里“c”是脊形成时的最小脊宽度确定的常数。第三个关系式表示为Δn≥d,这里“d”是通过所需的半宽度值θpara确定的常数。因此以Δn和W满足上述三个关系式(1)、(2)和(3)的方式设置下列至少其中之一,即绝缘薄膜的种类和厚度、在绝缘薄膜上的电极薄膜的厚度、脊高度、以及上包层的位于脊的两侧的每一侧上的剩余层部分的厚度。

    封装件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101055972A

    公开(公告)日:2007-10-17

    申请号:CN200710103279.6

    申请日:1999-09-03

    CPC classification number: H01L2224/48091 H01L2924/00014

    Abstract: 制作在封装件中的导电安装板具有安置绝缘安装板的凹陷部分和突出部分。绝缘安装板在其表面上具有安置连线部分的绝缘板。半导体激光器安置在绝缘安装板和导电安装板上,其n侧电极与绝缘安装板接触,p侧电极与导电安装板接触。产生的热通过导电安装板被辐射,并用绝缘安装板防止n侧电极与p侧电极的短路。在变例中,半导体元件的p侧电极固定到导电安装板,n侧电极从导电安装板突出。

    半导体发光器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1842947A

    公开(公告)日:2006-10-04

    申请号:CN200580000925.5

    申请日:2005-06-15

    CPC classification number: H01S5/22 H01S5/2231 H01S2301/185

    Abstract: 本发明提供一种半导体发光器件及其制造方法,该半导体发光器件中激光束的纵横比得到改进从而接近于圆。在衬底(10)上,第一导电类型的第一覆层(11)、有源层(12)、以及第二导电类型的第二覆层(17)分层形成,该第二覆层(17)部分地具有作为电流集聚结构的脊形RD。在脊形部分的第二覆层具有这样的结构,该结构包括在接近所述有源层的一侧的高带隙的第一脊形层(15)和在远离所述有源层的一侧的低带隙的第二脊形层(16)。该半导体发光器件通过用外延生长在衬底上分层形成第一覆层、有源层、以及第二导电类型的第二覆层,然后将第二覆层的一部分剪裁成脊形来制造。形成第二覆层使得第一脊形层和第二脊形层被包括在将具有脊形的部分中。

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