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公开(公告)号:CN105374467A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201510696751.6
申请日:2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: H01B13/0026 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件,其中,纳米转印方法包括如下步骤:S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶;S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻,形成沟槽图形;S3.第一次电铸处理,形成图形电极;S4.第二次电铸处理,形成转印层;S5.通过卷对平转印模式,控制所述柔性金属基板,在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印,或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具,通过电沉积工艺,在转印模具的电极上形成纳米级材料层,并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号:CN105374467B
公开(公告)日:2017-03-22
申请号:CN201510696751.6
申请日:2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件,其中,纳米转印方法包括如下步骤:S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶;S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻,形成沟槽图形;S3.第一次电铸处理,形成图形电极;S4.第二次电铸处理,形成转印层;S5.通过卷对平转印模式,控制所述柔性金属基板,在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印,或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具,通过电沉积工艺,在转印模具的电极上形成纳米级材料层,并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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公开(公告)号:CN106354353A
公开(公告)日:2017-01-25
申请号:CN201610846762.2
申请日:2016-09-23
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04112
Abstract: 本发明公开了一种触控导电膜,包括基板和形成在所述基板上的导电网格,所述基板的可视区和非可视区的导电网格为一体成型结构。本发明还公开了应用所述触控导电膜的触控模组和显示装置。本发明的触控导电膜具有结构简单、制造方便、成本较低的优点,而且也提升了稳定性,对应降低了制造成本和组装成本。
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公开(公告)号:CN206209681U
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201621076663.2
申请日:2016-09-23
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本实用新型公开了一种触控导电膜,包括基板和形成在所述基板上的导电网格,所述基板的可视区和非可视区的导电网格为一体成型结构。本实用新型还公开了应用所述触控导电膜的触控模组和显示装置。本实用新型的触控导电膜具有结构简单、制造方便、成本较低的优点,而且也提升了稳定性,对应降低了制造成本和组装成本。
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公开(公告)号:CN119342955A
公开(公告)日:2025-01-21
申请号:CN202411874410.9
申请日:2024-12-19
Applicant: 苏州大学
IPC: H10H20/832 , H10H20/81 , H10H20/825 , H10H20/01 , B82Y30/00
Abstract: 本发明涉及一种基于六方氮化硼的电致发光器件及其制备方法,属于电致发光器件技术领域。本发明的基于六方氮化硼的电致发光器件,包括:金属基底;银纳米线层,设置于所述金属基底表面;六方氮化硼层,设置于所述银纳米线层表面;石墨烯层,设置于所述六方氮化硼层表面,并与所述金属基底接触;所述银纳米线层、六方氮化硼层和石墨烯层形成隧道结结构,克服了六方氮化硼大带隙的限制,通过电激发方式,实现了基于六方氮化硼的电致发光器件,具有在可见光到近红外波段的荧光发射。
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公开(公告)号:CN117703408A
公开(公告)日:2024-03-15
申请号:CN202311790561.1
申请日:2023-12-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州轨道交通建设有限公司 , 中铁十局集团城市轨道交通工程有限公司 , 中铁十局集团有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于盾构连续切削穿越钢筋混凝土地连墙的施工方法,包括对既有车站底板下方土体进行MJS满堂加固;利用分析获得的滚刀数据配置所需刀盘;根据盾构机在空气中切削的盾构机掘进参数设定盾构机在地层中切削的盾构机掘进参数;除同步注浆和二次注浆外,切削地连墙时进行环箍施工,对车站道床竖向位移、车站侧墙竖向位移及水平位移和隧道拱顶竖向位移进行观测,实时调整推速和土仓压力;对新建车站接收井洞门十环范围内的管片进行环箍施工;待盾构机穿越完成后,针对穿越既有车站范围内的多孔管片,向多孔管片预留的超深埋注浆孔的洞周进行深孔注浆。本发明既节省人力又能保证了上部既有车站结构的安全性。
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公开(公告)号:CN110152732A
公开(公告)日:2019-08-23
申请号:CN201910584833.X
申请日:2019-07-01
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种基于共轭微孔聚合物的复合催化剂及其制备和应用,其制备方法包括以下步骤:将惰性载体进行酸化,然后再与硅烷偶联剂反应,得到表面修饰了氨基的载体;将所述表面修饰了氨基的载体与卤代苯甲醛反应,得到卤化载体;将卤化载体、第一单体和第二单体在催化剂的作用下进行偶联反应,得到共轭微孔聚合物修饰的载体;将共轭微孔聚合物修饰的载体与贵金属盐的有机溶液接触,并进行氢气还原反应,得到基于共轭微孔聚合物的复合催化剂。本发明将具有高耐辐照性能和疏水性的共轭微孔聚合物负载于惰性载体表面作为负载贵金属的基体来提高贵金属催化剂的催化性能及重启性能,用于氢及其同位素的催化氧化。
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公开(公告)号:CN103983203B
公开(公告)日:2017-12-15
申请号:CN201410235777.6
申请日:2014-05-29
Applicant: 苏州大学
IPC: G01B11/14
Abstract: 一种激光熔覆熔池离焦量测量装置,包括壳体、镜头,依次连接的CMOS图像传感器、控制器和通信模块,所述CMOS图像传感器、控制器、通信模块设置于所述壳体内,所述镜头固定于所述壳体外部并与所述CMOS图像传感器相连接,所述镜头用于采集所述熔池实像并将其投射到所述COMS图像传感器表面,所述COMS图像传感器用于将所接收的光学实像转化为数字图像,所述控制器根据所述COMS图像光感器所转化的数字图像分析所述熔池位置,并转化为离焦量信息,所述通信模块向外传递熔池离焦量信息。本发明所揭示的激光熔覆熔池离焦量测量装置,能够在线实时测量出熔池离焦量,并将最终测量出的离焦量数据通过通信模块直接输出。
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公开(公告)号:CN107396543A
公开(公告)日:2017-11-24
申请号:CN201710568459.5
申请日:2017-07-13
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , G06F3/041 , H05K2203/0522 , H05K2203/0531
Abstract: 本发明涉及一种双面压印导电膜的制作方法及双面压印导电膜、电路板和触控模组。该双面压印导电膜的制作方法包括如下步骤:S1:提供透明基材和模具组,透明基材包括相对设置的第一表面和第二表面,模具组包括具有对应的对位靶标的输入端模具和输出端模具;S2:通过输入端模具并利用纳米压印的方式在透明基材的第一表面上压印形成输入端路线,通过输出端模具并利用纳米压印的方式在透明基材的第二表面上压印形成输出端路线;S3:在输入端路线、输出端路线上进行导电涂布及固化。该双面压印导电膜的制作方法更为简单,而且,其良品率更高。
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公开(公告)号:CN104651833B
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201510119382.4
申请日:2015-03-18
Applicant: 苏州大学
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明公开了一种激光熔覆工艺中凹凸缺陷的修复方法及相应装置,其中,所述修复方法包括如下步骤:S1.控制基体材料的凹凸缺陷表面中凹点位于环锥形聚焦激光束的初始负离焦位置;S2.控制环锥形聚焦激光束、位于激光束内部的粉束、以及位于粉束外围的保护气同轴出射;S3.控制激光束、连同其内部的粉束、粉束外围的保护气沿凹凸缺陷表面移动;S4.激光束将粉束熔化在材料表面并凝固成一层熔道,重复移动,通过逐层熔覆的方式逐步修复凹凸缺陷。本发明的修复方法基于中空激光以及光内送粉对基体材料的凹凸缺陷表面进行修复,同时,通过合理控制激光离焦量,在凹凸缺陷表面形成平整的熔覆层,修复了熔覆堆积成形的过程中成形表面因堆积产生的凹凸不平。
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