一种多晶硅振膜结构的制作方法

    公开(公告)号:CN107337174A

    公开(公告)日:2017-11-10

    申请号:CN201710498408.X

    申请日:2017-06-27

    CPC classification number: B81B3/0018 B81B2201/0257 B81C1/00158 B81C1/00182

    Abstract: 本发明提供一种多晶硅振膜结构的制作方法。现有方法易导致薄膜的形状及尺寸偏离最优值,影响多晶硅振膜的工作性能。本发明方法首先在基底上依次制备下SiO2薄膜层和下多晶硅薄膜,然后将下多晶硅薄膜层刻穿,形成圆环形的沟槽结构,再在其上依次制备上SiO2薄膜层和上多晶硅薄膜层,依次将基底和下SiO2薄膜层刻穿,形成通孔,将下多晶硅薄膜层的圆环形的沟槽内填充的SiO2腐蚀干净,最后沿圆环形的沟槽,将上SiO2薄膜层刻穿,完全释放上多晶硅薄膜层以下的微腔,形成多晶硅振膜结构。本发明方法避免化学机械抛光工艺及其不利影响,能够精确控制多晶硅振膜的尺寸与形状,提高振膜的可靠性以及基于该振膜的器件的工作性能。

    收发平衡的宽频带混合式超声换能器面阵探头及制备方法

    公开(公告)号:CN106744642A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201710009218.7

    申请日:2017-01-06

    Applicant: 中北大学

    CPC classification number: B81B3/0021 B06B1/02 B81C1/00158 G01S7/521

    Abstract: 本发明公开了一种收发平衡的宽频带混合式超声换能器面阵探头,包括硅衬底(1),所述硅衬底(1)的上表面为氧化层(2),所述氧化层(2)的上表面开设有若干空腔(3),若干空腔(3)成排、列布置,所述氧化层(2)的上表面键合振动薄膜(4),所述振动薄膜(4)的上表面设隔离层(5),围绕隔离层(5)的四周边缘处及其内部开设有下沉的隔离槽(6),所述隔离槽(6)贯穿隔离层(5)和振动薄膜(4)后,其槽底开设于氧化层(2)上;所述隔离层(5)的上表面上正对每个空腔(3)的中心位置处设有上电极(7)。本发明超声探头结构新颖、体积小、频带宽、灵敏度高,噪声低,稳定性好,收发性能平衡。

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