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公开(公告)号：CN105050941B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201480014120.5
申请日：2014-03-12
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00619 , B81C1/00412 , B81C2201/0177 , B81C2201/0188
Abstract: 本发明涉及一种用于微机械元件的加工方法和相应的微机械元件。该加工方法包括步骤：制备一衬底（1），具有在结构部位（3a‑3e）露出的启动层（1c），其中所述结构部位（3a‑3e）具有顶面（O）和侧向的侧面（F），其中在顶面（O）上设有催化层（2），它适合于，促进形成结构的单晶启动层（1c）的外露顶面（O）的硅生长，并且在侧面（F）上没有催化层（2）；并且在单晶启动层（1c）的顶面（O）上利用催化层（2）在反应气体氛围中执行选择性生长工艺，用于构成微机械的功能层（3’）。
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公开(公告)号：CN106604809A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201580040676.6
申请日：2015-07-14
Applicant: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
CPC classification number: B81C1/00373 , B29C64/135 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , B81B7/0074 , B81B2201/038 , B81B2201/047 , B81B2203/0315 , B81B2203/0392 , B81C3/001 , B81C99/0095 , B81C2201/0188 , B81C2203/038
Abstract: 本发明涉及一种制造微机械组件(1)的方法，其中将能够通过辐射被硬化的液态原料(2)施加到基底上，所述原料通过使用第一辐射源进行局部辐射而在部分体积空间(21)中被硬化，以便生成至少一个三维结构，其中所述三维结构界定至少一个封闭的容腔(10)，在所述容腔(10)中封闭所述液态原料(2)中的至少一部分。本发明还涉及一种微机械组件，所述微机械组件包括部分通过辐射被硬化的液态原料(2)，并且所述微机械组件包括至少一个容腔(10)，在所述容腔(10)中封闭有所述液态原料(2)。
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公开(公告)号：CN102308018B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201080007118.7
申请日：2010-02-04
Applicant: 株式会社IHI
CPC classification number: C23C14/0605 , B81C1/00031 , B81C2201/0188 , C23C14/04 , C23C14/14 , C23C14/22 , C23C14/24
Abstract: 本发明涉及细微结构物的蒸镀装置以及方法。具有：表面弹性波元件（10），具有隔开间隔而位于压电体（11）的表面的至少一对电极（12、13）；真空蒸镀装置（20），能够在表面弹性波元件的表面真空蒸镀两种以上的物质A、B；以及高频施加装置（30），在表面弹性波元件的电极间施加高频电压，在利用所述高频电压的施加而表面弹性波元件的表面产生表面弹性波的驻波的状态下构成多个薄膜层，在驻波的特定位置蒸镀细微结构物。
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公开(公告)号：CN106276772B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201610465132.0
申请日：2016-06-23
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
CPC classification number: B81C1/00619 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C1/00103 , B81C2201/0112 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014 , B81C2201/0188 , B81C2201/0198 , G04B13/02 , G04B13/026 , G04B13/027 , G04D99/00
Abstract: 本发明涉及具有至少一个减少的接触面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁“博世”蚀刻，所述硅基部件特别是改进了由微加工硅基片形成的部件的摩擦性能。
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公开(公告)号：CN107112126A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580068493.5
申请日：2015-12-11
Applicant: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
Inventor： 托马斯·里塞奇 , 汉斯-乔基姆·昆泽尔 , 蒂姆·瑞默
CPC classification number: H01F1/06 , B81B2201/034 , B81B2201/042 , B81C1/00126 , B81C2201/0188 , G01R33/38 , G01R33/3802 , G02B26/085 , G02B26/101 , H01F10/08 , H01F21/06 , H01F41/046 , H01F41/16 , H01F41/301 , H01F41/32 , H01F2007/068 , H02K15/02 , H02K33/16 , B81C1/00134
Abstract: 本发明的实施例提供了一种用于制造具有三维磁结构的器件的方法。该方法包括第一步骤：将磁性粒子施加或引入到载体元件上或载体元件中，其中在所述磁性粒子之间形成多个至少部分互连的空腔，并且所述磁性粒子在接触点处彼此接触。该方法附加地包括第二步骤：通过对磁性粒子和载体元件的布置进行涂覆来连接接触点处的磁性粒子，其中空腔至少部分地被在涂覆时产生的层渗透，使得结果是三维磁结构。此外，方法包括第三步骤：在所述载体元件或附加载体元件上提供导体环路布置，使得：当电流流经导体环路布置时，(1)导体环路布置的电感被三维磁结构改变，或(2)力以由电流引起的磁场作用在三维磁结构或导体环路布置上，或(3)当三维磁结构的位置改变时，通过导体环路布置感生电流。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105050941A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480014120.5
申请日：2014-03-12
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: B81C1/00619 , B81C1/00412 , B81C2201/0177 , B81C2201/0188
Abstract: 本发明涉及一种用于微机械元件的加工方法和相应的微机械元件。该加工方法包括步骤：制备一衬底（1），具有在结构部位（3a-3e）露出的启动层（1c），其中所述结构部位（3a-3e）具有顶面（O）和侧向的侧面（F），其中在顶面（O）上设有催化层（2），它适合于，促进形成结构的单晶启动层（1c）的外露顶面（O）的硅生长，并且在侧面（F）上没有催化层（2）；并且在单晶启动层（1c）的顶面（O）上利用催化层（2）在反应气体氛围中执行选择性生长工艺，用于构成微机械的功能层（3’）。
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公开(公告)号：CN108778984A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780017287.0
申请日：2017-03-14
Applicant: 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司
Inventor： 海因茨·莫伊齐
CPC classification number: B81C1/00309 , B81C2201/0188
Abstract: 一种制造电子装置(100)的方法，其中该方法包括提供部件承载件(102)，该部件承载件包括至少一个导电层结构(104)和至少一个电绝缘层结构(106)的叠层件；提供安装基部(132)，用于将电子部件(108)安装在部件承载件(102)上和/或部件承载件中；以及在将电子部件(108)安装在安装基部(132)上之前，将壁结构(110)与部件承载件(102)整体形成，整体形成的壁结构(110)至少部分地环绕安装基部(132)，以将电子部件(108)安装在安装基部(132)上并由壁结构(110)保护。
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公开(公告)号：CN103827019A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280047105.1
申请日：2012-08-27
Applicant: 高通MEMS科技公司
Inventor： 菲利普·贾森·斯蒂法诺 , 安娜·兰格洛瓦·隆德甘 , 叶夫根尼·彼得罗维奇·古塞夫 , 拉温德拉·瓦曼·谢诺伊
CPC classification number: B81C1/0038 , B81B2203/0392 , B81C2201/0107 , B81C2201/0188 , B81C2201/038 , C23C18/1653 , C25D5/10 , C25D5/18 , C25D5/48 , C25D7/00 , Y10T428/12493 , Y10T428/24612
Abstract: 本发明提供高表面区域堆叠层金属结构、装置、设备、系统及相关方法的实施方案。可从包含第一金属及第二金属的电镀槽来制造位于衬底上的多个堆叠层。经调制的电镀电流可沉积交替的第一金属层及合金层，所述合金层包含所述第一金属及所述第二金属。可通过选择性地蚀刻第一金属层的一些部分以界定堆叠层结构来形成合金层之间的间隙。堆叠层结构可在用以形成电容器、电感器、催化反应器、热转移管、非线性弹簧、过滤器、蓄电池及重金属净化器的应用中有用。
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公开(公告)号：CN102308018A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080007118.7
申请日：2010-02-04
Applicant: 株式会社IHI
CPC classification number: C23C14/0605 , B81C1/00031 , B81C2201/0188 , C23C14/04 , C23C14/14 , C23C14/22 , C23C14/24
Abstract: 本发明涉及细微结构物的蒸镀装置以及方法。具有：表面弹性波元件（10），具有隔开间隔而位于压电体（11）的表面的至少一对电极（12、13）；真空蒸镀装置（20），能够在表面弹性波元件的表面真空蒸镀两种以上的物质A、B；以及高频施加装置（30），在表面弹性波元件的电极间施加高频电压，在利用所述高频电压的施加而表面弹性波元件的表面产生表面弹性波的驻波的状态下构成多个薄膜层，在驻波的特定位置蒸镀细微结构物。
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公开(公告)号：CN106604809B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201580040676.6
申请日：2015-07-14
Applicant: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
CPC classification number: B81C1/00373 , B29C64/135 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , B81B7/0074 , B81B2201/038 , B81B2201/047 , B81B2203/0315 , B81B2203/0392 , B81C3/001 , B81C99/0095 , B81C2201/0188 , B81C2203/038
Abstract: 本发明涉及一种制造微机械组件(1)的方法，其中将能够通过辐射被硬化的液态原料(2)施加到基底上，所述原料通过使用第一辐射源进行局部辐射而在部分体积空间(21)中被硬化，以便生成至少一个三维结构，其中所述三维结构界定至少一个封闭的容腔(10)，在所述容腔(10)中封闭所述液态原料(2)中的至少一部分。本发明还涉及一种微机械组件，所述微机械组件包括部分通过辐射被硬化的液态原料(2)，并且所述微机械组件包括至少一个容腔(10)，在所述容腔(10)中封闭有所述液态原料(2)。
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