公开(公告)号：CN109097832A

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201811119903.6

申请日：2018-09-25

Applicant: 天通银厦新材料有限公司

Inventor： 段斌斌 ,  程佳宝 ,  丁钰明 ,  王子学 ,  朱泾伟 ,  苏艳芳 ,  周利斌

IPC: C30B29/20 ,  C30B35/00

CPC classification number: C30B29/20 ,  C30B35/00

Abstract: 本发明涉及蓝宝石加工技术领域，尤其是一种蓝宝石加工炉的除尘保温装置，包括炉体，炉体前端铰接有炉盖，炉盖与炉体密封连接，炉体底部安装有支撑机构，炉体前端外周还安装有电力组件，炉体顶部连通有排气管，排气管顶部安装有阀门，阀门顶部连接有波纹管，排气管内通过安装机构连接有除尘组件，除尘组件包括圆筒和过滤网，圆筒内部间隔安装有两张过滤网，两张过滤网之间设有填充层，填充层包括吸附棉、沙砾和过滤板，吸附棉、沙砾和过滤板由上至下依次设置，炉体内壁设有隔热层，隔热层内设有保温层。该装置能够有效的对蓝宝石加工炉进行除尘及保温处理，通过除尘组件去除蓝宝石加工时产生的烟气，通过保温层增加炉体的保温能力。

公开(公告)号：CN103890240B

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201280052983.2

申请日：2012-08-31

Applicant: 原子能和代替能源委员会

Inventor： J-P.加兰德特 ,  A.乔尼 ,  D.佩雷蒂尔

IPC: C30B11/00 ,  C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  C30B28/06 ,  C01B33/02 ,  H01L31/00

CPC classification number: C30B11/003 ,  C30B11/007 ,  C30B11/008 ,  C30B28/06 ,  C30B29/06 ,  C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L31/182 ,  Y02E10/546 ,  Y02P70/521 ,  Y10T117/1092

Abstract: 结晶系统包括坩埚(1)以及装置(4)，坩埚(1)设置有旨在容纳要固化的材料的底部(2)和侧壁(3)，装置(4)用于在垂直于坩埚(1)的底部(2)的方向上在坩埚(1)内产生主热梯度。附加感应加热装置(6)设置在坩埚(1)的侧壁(3)面对液态材料而不与固相重叠。该附加感应加热装置(6)构造以加热晶体材料位于液态材料、固化的材料和坩埚(1)之间的三线附近的部分，使得该液态材料和该固化的材料之间的界面(10)在该三线附近形成凸弯月形。

公开(公告)号：CN107881555A

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201711004013.6

申请日：2017-10-24

Applicant: 佛山市三水兴达涂料有限公司

Inventor： 黄玲军

IPC: C30B29/06 ,  C30B35/00

CPC classification number: C30B29/06 ,  C30B35/00

Abstract: 本发明公开了一种半导体材料的加工装置及加工工艺，属于半导体材料加工设备领域，包括操作台和熔融仓，所述操作台由信息处理器、操作键盘和显示屏组成，所述操作键盘设置在所述信息处理器上，所述显示屏设置在所述信息处理器上，所述操作台侧边设置有加热装置，所述加热装置由接线柱、稳压电路、变压器和电热器组成，所述接线柱通过所述稳压电路与所述变压器相连接，所述变压器上方设置有所述电热器，所述加热装置上方设置有散热器，所述散热器上方设置有所述熔融仓。本发明可以将放入硅原料、加热硅原料、冷凝成型进行流水线化处理，提高了硅原料熔融的效率和速度，同时具有实时查看工作进程和熔融参数的功能，操作简单、使用方便。

公开(公告)号：CN107313111A

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：CN201710560810.6

申请日：2017-07-11

Applicant: 江苏星特亮科技有限公司

Inventor： 李留臣 ,  周正星

IPC: C30B35/00

CPC classification number: C30B35/00 ,  C30B35/002

Abstract: 本发明公开了一种多工位加料装置，用于均匀的将物料同时加入多个容器中，多工位加料装置包括进料机构、与进料机构连通的分料机构；分料机构包括与进料机构连通的第一分料箱、绕自身轴心线方向转动的设于第一分料箱中的第一分料盘、用于驱动第一分料盘转动的驱动电机、多个间隔均匀的环设于第一分料箱底部的分料管，分料管的上端与第一分料箱连通。本发明一种多工位加料装置，通过设置分料机构，将物料通过多个分料管均匀的加入多个坩埚中，提高了每只坩埚内的熔料量，有效的提高了人工晶体生长的效率。该装置结构简单，使用方便。

公开(公告)号：CN107304485A

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201610246604.3

申请日：2016-04-19

Applicant: 秦素芳

Inventor： 唐斌 ,  秦素芳

IPC: C30B29/20 ,  C30B35/00 ,  C30B33/02

CPC classification number: C30B29/20 ,  C30B33/02 ,  C30B35/00

Abstract: 本发明公开了一种制备优质蓝宝石条晶的装置。为了克服现有人工蓝宝石晶体材料制备装置制备的人工蓝宝石晶体材料抗弯折强度弱，脆性大，容易崩裂，光学均匀性差，后续加工性能差、成材性差，废品率高、效率低等不足，本发明所述腔壁的内侧具有凸棱，在所述凸棱设有安装产热元件的穿口，在所述腔盖设有连通内腔的盖气道，在所述腔底设有连通内腔的底气道，所述腔壁具有壁水腔，在所述腔盖设有盖水腔。本发明用于制备人工蓝宝石晶体材料，它能够制备优质人工蓝宝石晶体材料，所制备的人工蓝宝石晶体材料内部热应力去除彻底，抗弯折强度高，脆性小，不易崩裂，光学均匀性好，后续加工性能好，成材性好，废品率低，制备效率高，有利于提高生产效益。

公开(公告)号：CN104822866B

公开(公告)日：2017-09-01

申请号：CN201380061334.3

申请日：2013-11-20

Applicant: 索泰克公司

Inventor： C·卡尼扎瑞斯

IPC: C30B25/14 ,  C23C16/455 ,  C30B35/00

CPC classification number: C23C16/45563 ,  B23P19/04 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/45591 ,  C30B25/14 ,  C30B29/403 ,  C30B35/00 ,  H01L21/0262

Abstract: 一种沉积系统，该沉积系统包括能够在该沉积系统的腔室中可互换地使用的两个或更多个气体喷射器。所述气体喷射器中的每个均可以被构造成在基板支撑结构上产生一片流动气体。这些片的流动气体可以具有不同宽度，从而所述气体喷射器可以与具有不同直径的基板一起使用，这可以使用在不同基板的情况下使用所述系统，同时保持有效利用前体气体。形成这种沉积系统的方法包括将这种气体喷射器形成和构造成可在沉积腔室内的公共位置处可互换地使用。使用这种沉积系统的方法包括使用两个或更多个这种气体喷射器以将材料沉积在具有不同尺寸的基板上。

公开(公告)号：CN106839647A

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201710024373.6

申请日：2017-01-13

Applicant: 许昌天戈硅业科技有限公司

Inventor： 姚刚 ,  蔺崇召 ,  孙占喜 ,  李吾臣

IPC: F25D31/00 ,  C30B35/00

CPC classification number: C30B35/00 ,  F25D31/002

Abstract: 本发明涉及工业冷却水技术领域，尤其涉及一种蓝宝石生产中的冷却水的冷却装置，包括三组平行设置的冷却管道、分流器、汇流器、控制器和冷却箱，冷却管道架设在冷却箱中，前端通过分流调节阀与分流器的分流口连接，末端与汇流器的汇流口连接，分流器和汇流器均有冷却箱固定设置，冷却管道包括直流管和螺旋管，直流管设置在螺旋管的螺旋中心处，本发明用于冷却系统冷却水的排出口，用于冷却水的冷却，帮助冷却系统的稳定运行和冷却效率，有利于维持蓝宝石的生产环境的稳定。

公开(公告)号：CN106688079A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201580047087.0

申请日：2015-06-24

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 藤仓序章

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C30B25/14

CPC classification number: C23C16/4401 ,  B08B5/02 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/54 ,  C30B25/14 ,  C30B25/165 ,  C30B29/40 ,  C30B29/406 ,  C30B35/00 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68785

Abstract: 半导体制造装置具有：处理容器；隔壁，其将处理容器内的空间的至少一部分划分为生长部和清洁部；基板保持构件，其配置于生长部内；原料气体供给系统，其向生长部内供给原料气体；清洁气体供给系统，其向清洁部内供给清洁气体；以及加热器，其对生长部以及所述清洁部进行加热。

公开(公告)号：CN103959438B

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201280056552.3

申请日：2012-11-16

Applicant: 株式会社EUGENE科技

Inventor： 梁日光 ,  诸成泰 ,  宋炳奎 ,  金龙基 ,  金劲勋 ,  申良湜

IPC: H01L21/20

CPC classification number: H01L21/67069 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/4587 ,  C30B35/00 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02661 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67757

Abstract: 根据本发明一实施方案，用于实现对基板的工艺的基板处理装置包括：下部腔室，其上部打开，并在一侧形成有用于使所述基板进出的通道；外部反应管，其用于关闭所述下部腔室中打开的上部，并提供实现所述工艺的工艺空间；基板支架，其以上下方向载置一个以上的所述基板，并可以转换到在所述基板支架内载置所述基板的载置位置、或对所述基板实现所述工艺的工艺位置；以及气体供应单元，其设置在所述外部反应管的内部，并用于向所述工艺空间供应反应性气体，且形成沿着上下方向具有各不相同的相位差的所述反应性气体的流动。

公开(公告)号：CN104205320B

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201380016403.9

申请日：2013-03-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·M·拉内什 ,  凯拉什·帕塔雷

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  C23C16/458

CPC classification number: B05C13/00 ,  C30B23/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68735

Abstract: 在此提供用于处理基板的方法和设备。在一些实施方式中，一种设备包括处理配件，所述处理配件包括：第一环，在基板的周边边缘附近支撑所述基板；第二环，设置在所述第一环周围；和路径，形成在所述第一环与所述第二环之间，使所述第一环得以对所述第二环旋转，其中所述路径实质上防止光在第一空间与第二空间之间行进，所述第一空间设置在所述第一环与所述第二环下方，而所述第二空间设置在所述第一环与所述第二环上方。