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公开(公告)号：CN103928280B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201310353859.6
申请日：2013-08-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
IPC: H01J37/317 , H01J37/30
CPC classification number: C23C14/48 , C23C14/564 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/304
Abstract: 本发明提供能够在清洗离子源内部后在短时间内重新启动离子束的离子注入装置和该离子注入装置的运转方法。所述离子注入装置在进行离子注入处理时，向离子源（IS）内部导入工艺气体，使用由多块电极构成的引出电极系统（2），从离子源（IS）引出带状的离子束（3），向配置在处理室（5）内的基板（4）照射离子束（3），并且在离子注入处理以外时，向离子源（IS）内部导入清洗气体，对该离子源（IS）内部进行清洗，在这样的离子注入装置（IM）中，在清洗结束后重新启动离子束（3）时，在引出电极系统（2）上施加规定电压后，将离子源（IS）的运转参数设定为与作为处理对象的基板（4）的注入配方对应的运转参数。
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公开(公告)号：CN104374633A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201410396562.2
申请日：2014-08-13
Applicant: FEI公司
Inventor： C.塞诺维茨
IPC: G01N1/44
CPC classification number: C23C14/30 , G01N1/32 , H01J37/3056 , H01J2237/208 , H01J2237/304 , H01J2237/31745
Abstract: 一种改进的制备TEM样本的方法。从工件提取样本，并且样本附着到探针以运送到样本支架。样本使用带电粒子束沉积而被附着到样本支架，并且通过在不使用带电粒子束切断该连接的情况下使探针和样本支架相对于彼此移动而被以机械方式与探针分离。
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公开(公告)号：CN102105966B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200980129479.6
申请日：2009-06-09
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/08 , H01J27/16 , H01J37/3171 , H01J2237/061 , H01J2237/0817 , H01J2237/082 , H01J2237/0827 , H01J2237/304
Abstract: 揭示一种离子植入设备、多模式离子源及多模式中的离子植入方法。在一特定例示性实施例中，可将所述技术实现为离子植入设备，其包括在多种模式下操作的离子源，使得第一模式为弧放电模式，且第二模式为RF模式。
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公开(公告)号：CN102187424B
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN200980141280.5
申请日：2009-08-18
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/026 , H01J2237/202 , H01J2237/304
Abstract: 本发明涉及一种带电粒子束光刻系统，包括：带电粒子光柱，设置在真空室内，用于将带电粒子束投射到目标上，其中光柱包括偏转装置，用于使带电粒子束在偏转方向上偏转；目标定位装置包括用于承载目标的承载件，以及用于承载和沿第一方向移动承载件的工作台，其中，第一方向不同于偏转方向，其中，目标定位装置包括用于使工作台在第一方向上相对于带电粒子光柱移动的第一致动器，其中，承载件可移动地设置在工作台上，并且其中，目标定位装置包括用于将承载件相对于工作台保持在第一相对位置中的保持装置。
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公开(公告)号：CN102522300A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110460373.3
申请日：2009-08-18
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/26 , B82Y10/00 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/026 , H01J2237/202 , H01J2237/304
Abstract: 一种带电粒子束光刻系统及目标定位装置。带电粒子束光刻系统包括：带电粒子光柱，设置在真空室中，用于将带电粒子束投射到目标上，光柱包括使粒子束在偏转方向上偏转的偏转装置；目标定位装置，包括承载目标的承载件以及承载并沿不同于偏转方向的第一方向移动承载件的工作台，目标定位装置包括使工作台沿第一方向相对于粒子光柱移动的第一致动器、和沿第二方向移动承载件的第二致动器；光柱屏蔽装置，至少部分地屏蔽粒子光柱不受周围的磁场和/或电场影响；承载件可移动地设置在工作台上，目标定位装置包括将承载件相对于工作台保持在第一相对位置中的保持装置；第一致动器设置在光柱屏蔽装置外部，保持装置和第二致动器设置在屏蔽装置内部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100338720C
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN01822153.X
申请日：2001-11-21
Applicant: 瓦里安半导体设备联合公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J2237/20207 , H01J2237/20228 , H01J2237/304
Abstract: 离子注入系统在离子注入室中包含边垂直扫描边使晶片在离子束中以某个相对于投射轴线偏离垂直取向旋转的旋转角倾斜的工件夹具。在用工件夹具夹持的晶片上进入注入表面的注入角是通过工件夹具围绕着其运动路径有选择地旋转进行调节的。法拉第杯沿着注入表面的预定位置扫描离子束，以形成装置测量平面。离子束质量是为了提高射束均匀性依照这些倾斜角的测量结果沿着装置平面进行调整的。诸如读数电子枪之类电荷中和装置是与工件成一操作直线运动的。
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公开(公告)号：CN105474349B
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201480025170.3
申请日：2014-05-02
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/08 , H01J2237/022 , H01J2237/304
Abstract: 本发明公开一种用于减少离子注入系统中的微粒污染的方法，其中经由离子源与引出电极组件的协同操作而产生离子束。向离子源施加阴极电压以在其中生成离子，并且向引出组件施加抑制电压以阻碍离子束中的电子卷入离子源。选择性调制抑制电压，由此诱发穿过引出组件的电流或弧放电，以移除其表面上的沉淀物，进而减轻工件的后续污染。根据前述，本发明还公开改进的离子注入系统，其中控制器配置成基本在传送工件的同时选择性将电压调制于预定电压与预定的抑制电压之间，由此诱发穿过引出电极组件的电流或弧放电，以移除其表面上的沉淀物，进而减轻工件的后续污染。
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公开(公告)号：CN107393795A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710707294.5
申请日：2011-02-26
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01L21/2225 , F17C7/00 , H01J37/08 , H01J37/3002 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/304 , H01L21/223 , H01L21/26506 , Y02E60/321 , Y10T428/13
Abstract: 本申请涉及用于提高离子注入系统中的离子源的寿命和性能的方法和设备，并提供一种离子注入系统和方法，其中，通过利用富含同位素的掺杂剂材料，来提高离子注入系统的离子源的性能和寿命，或通过利用具有可有效地提供这种提高的补充气体的掺杂剂材料来实现。
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公开(公告)号：CN102623289B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201210018367.7
申请日：2012-01-19
Applicant: 汉辰科技股份有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/304
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J2237/304 , H01J2237/31703
Abstract: 本发明是有关于一种决定用以控制工件离子植入的相对扫描速度，要选择使用离子植入设备的离子束，扫描实际工件的相对速度分布特性，首先，模拟一虚拟工件的植入状况。基于一离子束分布特性与一相对速度分布特性，计算虚拟工件上的剂量分布。然后，基于所计算的剂量分布与用于计算该剂量分布的相对速度分布特性，决定一新相对速度分布特性。然后，使用该新相对速度分布特性，计算一新剂量分布。反复决定新相对速度分布特性与计算相应的新剂量分布，直到新剂量分布符合一个或多个预定标准。当新剂量分布符合一个或多个预定标准时，储存新相对速度分布特性作为选定相对速度分布特性。
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公开(公告)号：CN103928280A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201310353859.6
申请日：2013-08-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
IPC: H01J37/317 , H01J37/30
CPC classification number: C23C14/48 , C23C14/564 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/304
Abstract: 本发明提供能够在清洗离子源内部后在短时间内重新启动离子束的离子注入装置和该离子注入装置的运转方法。所述离子注入装置在进行离子注入处理时，向离子源（IS）内部导入工艺气体，使用由多块电极构成的引出电极系统（2），从离子源（IS）引出带状的离子束（3），向配置在处理室（5）内的基板（4）照射离子束（3），并且在离子注入处理以外时，向离子源（IS）内部导入清洗气体，对该离子源（IS）内部进行清洗，在这样的离子注入装置（IM）中，在清洗结束后重新启动离子束（3）时，在引出电极系统（2）上施加规定电压后，将离子源（IS）的运转参数设定为与作为处理对象的基板（4）的注入配方对应的运转参数。
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