公开(公告)号：US20050047986A1

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：US10947366

申请日：2004-09-23

Applicant: Masafumi Mizuguchi ,  Seishi Fujiwara ,  Norio Komine

Inventor： Masafumi Mizuguchi ,  Seishi Fujiwara ,  Norio Komine

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  C01B33/12

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  Y02P40/57

Abstract: In a method for producing a quartz glass member, an F2 laser is radiated onto a sample obtained from a quartz glass base material under a predetermined condition to judge whether or not a peak intensity of H2 Raman scattering light is decreased by not less than 80% as compared with a peak intensity of H2 Raman scattering light obtained for a sample not irradiated with the F2 laser. If the peak intensity of H2 Raman scattering light is decreased by less than 80%, then it is judged that the laser resistance of the quartz glass base material is sufficient, and the synthetic quartz glass member is processed from the base material. The compaction of the sample is also measured.

Abstract translation: 在石英玻璃构件的制造方法中，在预定条件下将F2激光照射到由石英玻璃基材获得的样品上，以判断H2拉曼散射光的峰值强度是否降低不小于80％ 与未用F2激光照射的样品获得的H2拉曼散射光的峰值强度相比。 如果H2拉曼散射光的峰强度降低小于80％，则判断石英玻璃基材的激光电阻是足够的，并且合成石英玻璃构件从基材加工。 也测量样品的压实度。

公开(公告)号：US06782716B2

公开(公告)日：2004-08-31

申请号：US10702266

申请日：2003-11-05

Applicant: Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC: C03C1500

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  G03F1/60

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

公开(公告)号：US20040121247A1

公开(公告)日：2004-06-24

申请号：US10733009

申请日：2003-12-10

Inventor： George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Michelle Diane Pierson

IPC: B32B015/00 ,  B32B009/00 ,  C03B037/10 ,  B32B017/06 ,  C03B037/018 ,  G02B006/18 ,  C03B037/075 ,  C03C013/00 ,  G02B006/00 ,  C03C003/112 ,  C03B019/00 ,  G03F009/00

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/043 ,  C03B23/045 ,  C03B23/051 ,  C03B23/07 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/60

Abstract: The present invention is a method of making a lithography photomask and photomask blank. The method of making the lithography photomask and photomask blank includes providing a silicon oxyfluoride glass tube having an OH content less than 50 ppm. The method further includes cutting the silicon oxyfluoride glass tube, flattening the silicon oxyfluoride glass tube, and forming the flattened cut silicon oxyfluoride glass tube into a photomask blank having a planar surface. The present invention includes a glass lithography mask preform. The glass lithography mask preform is a longitudinal silicon oxyfluoride glass tube that has an OH contentnull10 ppm, a F wt. % concentrationnull0.5 wt. %.

Abstract translation: 本发明是制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法。 制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法包括提供OH含量低于50ppm的氟氧化硅玻璃管。 该方法还包括切割氟氧化硅玻璃管，使氟氧化硅玻璃管扁平化，并将扁平切割的氟氧化硅玻璃管形成具有平坦表面的光掩模坯料。 本发明包括玻璃光刻掩模预制件。 玻璃光刻掩模预制件是具有OH含量<= 10ppm的纵向硅氧氟化物玻璃管，F wt。 ％浓度> = 0.5wt。 ％。

公开(公告)号：US20040071432A1

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：US10658606

申请日：2003-09-08

Inventor： Mara Bagnasco ,  Valeria Gusmeroli

IPC: G02B006/16 ,  G02B006/34

CPC classification number: G02B6/02114 ,  C03C13/046 ,  C03C25/6226 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/31 ,  G02B6/02123 ,  G02B6/443

Abstract: The present invention provides an optical fiber providing high photosensitivity in the absence of hydrogen loading as well as a low numerical aperture. One aspect of the present invention relates to an optical fiber including a core, the core comprising silica doped with at least about 6 mol % germania and at least about 0.9 wt % fluorine; and a cladding surrounding the core. The optical fiber of the present invention is suitable for the production of fiber Bragg gratings.

Abstract translation: 本发明提供了一种在不存在氢负载和低数值孔径的情况下提供高光敏性的光纤。 本发明的一个方面涉及一种包括芯的光纤，所述芯包括掺杂有至少约6mol％的氧化锗和至少约0.9wt％的氟的二氧化硅; 以及围绕芯的包层。 本发明的光纤适用于制造光纤布拉格光栅。

公开(公告)号：US20030145629A1

公开(公告)日：2003-08-07

申请号：US10299229

申请日：2002-11-19

Applicant: 3M Innovative Properties Company

Inventor： Mark T. Anderson ,  Craig R. Schardt ,  James R. Onstott ,  Kenton D. Budd

IPC: C03B037/016 ,  C03B037/018

CPC classification number: G02B6/03622 ,  C03B19/102 ,  C03B19/1065 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01838 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/36 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/29 ,  C03C3/06 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/3458 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/3482 ,  C03C2201/36 ,  H01S3/067 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/0677 ,  H01S3/06775 ,  H01S3/1608 ,  H01S3/1616 ,  Y02P40/57

Abstract: A method for manufacturing an optical fiber, the method including the steps of providing a substrate tube; depositing a boron-free cladding layer; depositing a core comprising a glass including silica, and oxides of Al, Ge, Er, and Tm; collapsing the substrate tube to form a preform; and drawing the preform to yield optical fiber.

Abstract translation: 一种制造光纤的方法，所述方法包括以下步骤：提供衬底管; 沉积无硼覆层; 沉积含有包含二氧化硅的玻璃和Al，Ge，Er和Tm的氧化物的芯; 塌缩基材管以形成预制件; 并拉制预成型件以产生光纤。

公开(公告)号：US06576578B1

公开(公告)日：2003-06-10

申请号：US09762679

申请日：2001-03-01

Applicant: Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

Inventor： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

IPC: C03C306

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: A synthetic quartz glass to be used for light with a wavelength of from 150 to 200 nm, wherein the OH group concentration is at most 100 ppm, the hydrogen molecule concentration is at most 1×1017 molecules/cm3, reduction type defects are at most 1×1015 defects/cm3, and the relation between &Dgr;k163 and &Dgr;k190, as between before and after irradiation of ultraviolet rays, satisfies 0

Abstract translation: 用于波长为150〜200nm的光的合成石英玻璃，OH基浓度为100ppm以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以下，还原型缺陷为1×1015以下的缺陷 / cm3，紫外线照射前后的DELTAk163与DELTAk190之间的关系满足0

公开(公告)号：US20030024276A1

公开(公告)日：2003-02-06

申请号：US09934361

申请日：2001-08-21

Applicant: 3M Innovative Properties Company

Inventor： Mark T. Anderson ,  Craig R. Schardt ,  James R. Onstott ,  Lawrence J. Donalds ,  Alessandra O. Chiareli

IPC: C03B037/075 ,  C03B037/016

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/36 ,  C03C13/046 ,  C03C23/0095 ,  C03C25/608 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/36 ,  C03C2203/52 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  G02B6/0365 ,  G02B6/03655 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/173

Abstract: A method for manufacturing an optical article including the steps of providing a substrate tube; forming one or more cladding layers inside the substrate tube, the one or more cladding layers including an innermost cladding layer; forming a concentric fluorine reservoir adjacent to the innermost cladding layer; and forming a core adjacent to the fluorine reservoir and concentric with the one or more outer cladding layers. The fluorine concentration in the fluorine reservoir is higher than the fluorine concentration in either the core or the innermost cladding layer.

Abstract translation: 一种光学制品的制造方法，包括以下步骤：提供衬底管; 在所述衬底管内形成一个或多个包覆层，所述一个或多个包覆层包括最内包层; 形成与最内层包层相邻的同心氟储层; 并且形成与所述氟储存器相邻并且与所述一个或多个外包层同心的芯。 氟储存器中的氟浓度高于芯层或最内层包层中的氟浓度。

公开(公告)号：US06492072B2

公开(公告)日：2002-12-10

申请号：US09799987

申请日：2001-03-06

Applicant: Lisa A. Moore ,  Charlene Smith

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene Smith

IPC: G03F900

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  G03F1/60 ,  Y02P40/57

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a “dry,” silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1×1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

Abstract translation: 公开了适用于在低于190nm的VUV波长区域中用于光刻应用的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：US20020160276A1

公开(公告)日：2002-10-31

申请号：US09997785

申请日：2001-11-28

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC: G03F009/00 ,  C03C015/00 ,  C03C003/04 ,  C03C003/06 ,  C03C003/112 ,  G03C005/00 ,  G02B013/14

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

Abstract translation: 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：US06463201B2

公开(公告)日：2002-10-08

申请号：US09985477

申请日：2001-11-05

Applicant: Keiichi Aiso ,  Yoshio Tashiro ,  Takeshi Yagi

Inventor： Keiichi Aiso ,  Yoshio Tashiro ,  Takeshi Yagi

IPC: G02B602

CPC classification number: G02B6/03644 ,  C03C3/06 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/3488 ,  C03C2201/36 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  H01S3/0672 ,  H01S3/06729

Abstract: A light amplification optical fiber capable of suppressing a decrease in an amplification efficiency thereof ascribed to the concentration quenching of erbium ions, and the nonlinearity thereof is provided. At least one rare earth element, for example, Yb, which is other than the erbium ions, and which has an ion radius not smaller than 70% and not larger than 130% of that of erbium ions is doped to a core portion of an erbium ion-doped light amplification optical fiber.