公开(公告)号：US20110211797A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：US13034126

申请日：2011-02-24

Applicant: Kevin Wallace Bennett ,  Andrey V. Filippov ,  Peter Joseph Ronco ,  Roger A. Rose ,  Pushkar Tandon

Inventor： Kevin Wallace Bennett ,  Andrey V. Filippov ,  Peter Joseph Ronco ,  Roger A. Rose ,  Pushkar Tandon

IPC: G02B6/036

CPC classification number: C03B37/027 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/42 ,  C03B2203/222 ,  C03B2205/40 ,  G02B6/03622 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  G02B6/03694

Abstract: An optical fiber having increased mechanical strength is provided. The optical fiber includes an over cladding layer that has a compressive stress of at least 100 MPa.

Abstract translation: 提供了具有增加的机械强度的光纤。 光纤包括具有至少100MPa的压缩应力的上敷层。

公开(公告)号：US20110207592A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13028472

申请日：2011-02-16

Applicant: Carlos Duran ,  Kenneth Edward Hrdina ,  Michael A. Mueller

Inventor： Carlos Duran ,  Kenneth Edward Hrdina ,  Michael A. Mueller

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/60 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/70958

Abstract: In one embodiment the present disclosure is directed to a silica-titania glass with an internal transmission of >90%/cm at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In another embodiment the internal transmission is >93%/cm at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In a further embodiment the internal transmission is >95%/cm at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In another embodiment the disclosure is directed to a silica-titania glass with an overall transmission through an optic made of the glass is >84% at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In another embodiment overall transmission through an optic made of the glass is >86% at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In a further embodiment the overall transmission through an optic made of the glass is >88% at wavelengths from 330 nm to 840 nm. In a further embodiment the silica-titania glass has a Ti+3 concentration level [Ti3+] less than 3 ppm by weight.

Abstract translation: 在一个实施方案中，本公开涉及在340nm至840nm的波长下具有> 90％/ cm 3的内透射率的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃。 在另一个实施例中，在340nm至840nm的波长下，内透射率> 93％/ cm。 在另一个实施方案中，在340nm至840nm的波长下，内透射率> 95％/ cm。 在另一个实施方案中，本公开涉及一种二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，其透射率通过玻璃制成的光学器件在340nm至840nm的波长处为> 84％。 在另一个实施例中，通过由玻璃制成的光学器件的整个透射在340nm至840nm的波长处为> 86％。 在另一实施例中，通过由玻璃制成的光学器件的整体透射在330nm至840nm的波长处为> 88％。 在另一个实施方案中，二氧化硅 - 二氧化钛玻璃具有小于3ppm重量的Ti + 3浓度水平[Ti 3+]。

公开(公告)号：US07981824B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11597087

申请日：2005-05-11

Applicant: Wolfgang Englisch ,  Ralf Takke ,  Bodo Kuehn ,  Bruno Uebbing ,  Rainer Koeppler

Inventor： Wolfgang Englisch ,  Ralf Takke ,  Bodo Kuehn ,  Bruno Uebbing ,  Rainer Koeppler

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/00 ,  C03B23/00 ,  C03B7/14

CPC classification number: C03B19/1469 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: The present invention relates to a quartz glass blank for an optical component for transmitting radiation of a wavelength of 15 nm and shorter, the blank consisting of highly pure quartz glass, doped with titanium and/or fluorine, which is distinguished by an extremely high homogeneity. The homogeneity relates to the following features: a) micro-inhomogeneities caused by a local variance of the TiO2 distribution (

Abstract translation: 本发明涉及一种用于传输波长为15nm和更短的辐射的光学部件的石英玻璃坯料，该坯料由掺杂有钛和/或氟的高纯石英玻璃组成，其特征在于极高的均匀性 。 均匀性涉及以下特征：a）相对于TiO 2含量的平均值，TiO 2分布的局部方差（<0.05％TiO 2，相对于（5μm）的体积元素平均）引起的微不均匀性） ，b）主要功能方向（<5ppb / K）的热膨胀系数＆Dgr;α的绝对最大不均匀性，c）不大于石英玻璃坯料的可用表面的热膨胀系数的径向变化 超过0.4ppb /（K.cm）; d）具有特定进展的2nm / cm 2的主要功能方向的633nm处的最大应力双折射（SDB） 和e）根据（b）在光学表面上平均的＆Dgr;α的具体进展。 所述石英玻璃坯料只能通过将含有硅，钛和/或氟的化合物的火焰水解获得的掺杂石英玻璃作为大体积的棒状起始体形成为均匀的石英玻璃坯料，其中使用几个成形步骤 并均质化。

公开(公告)号：US20100323873A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12870156

申请日：2010-08-27

Applicant: Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

Inventor： Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

IPC: C03C3/04

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO2—SiO2 glass whose coefficient of linear thermal expansion upon irradiation with high EUV energy light is substantially zero, which is suitable as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a halogen content of 100 ppm or more; a fictive temperature of 1,100° C. or lower; an average coefficient of linear thermal expansion in the range of from 20 to 100° C. of 30 ppb/° C. or lower; a temperature width ΔT, in which a coefficient of linear thermal expansion is 0±5 ppb/° C., of 5° C. or greater; and a temperature, at which a coefficient of linear thermal expansion is 0 ppb/° C., falling within the range of from 30 to 150° C.

Abstract translation: 本发明提供了一种TiO 2 -SiO 2玻璃，其在高EUV能量光照射时的线性热膨胀系数基本为零，这适合作为EUVL用曝光工具的光学部件。 本发明涉及卤素含量为100ppm以上的含TiO 2的二氧化硅玻璃， 假想温度为1100℃或更低; 20〜100℃范围内的平均线性热膨胀系数为30ppb /℃以下; 5℃以上的线性热膨胀系数为0±5ppb /℃的温度宽度＆amp; T; T; 以及线性热膨胀系数为0ppb /℃的温度在30〜150℃的范围内。

公开(公告)号：US07849711B2

公开(公告)日：2010-12-14

申请号：US12512436

申请日：2009-07-30

Applicant: Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

Inventor： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

IPC: G03F1/00 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.

Abstract translation: 含有3-12重量％二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，其二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/μm，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

公开(公告)号：US20100154474A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12688218

申请日：2010-01-15

Applicant: Lorrie Foley Beall ,  John Edward Maxon ,  William Rogers Rosch ,  Robert Sabia

Inventor： Lorrie Foley Beall ,  John Edward Maxon ,  William Rogers Rosch ,  Robert Sabia

IPC: C03B19/06 ,  C03B19/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44

Abstract: The invention is directed to a method for reducing striae in ultra-low expansion glass, for example, silica-titania glass, by heat-treating the glass at temperatures above 1600° C. for a time in the range of 72-288 hours. The silica-titania glass is formed by substantially simultaneously forming, collecting and consolidating a silica-titania soot formed in one or a plurality of burners using silicon-containing feedstock and a titanium-containing feedstock. In one embodiment of the invention the glass is heat treated without forcing the glass to flow or “move”. The invention was found to reduce the magnitude of striae in an ultra-low expansion glass by at least 50%, and particularly reduces most of the “higher frequency” striae.

Abstract translation: 本发明涉及通过在高于1600℃的温度下将玻璃热处理72-88小时的时间，来减少超低膨胀玻璃（例如二氧化硅 - 二氧化钛玻璃）中的条纹的方法。 二氧化硅 - 二氧化钛玻璃通过使用含硅原料和含钛原料基本上同时形成，收集和固结形成在一个或多个燃烧器中的二氧化硅 - 二氧化钛烟炱而形成。 在本发明的一个实施例中，玻璃被热处理而不强迫玻璃流动或“移动”。 发现本发明能够将超低膨胀玻璃中的条纹幅度减小至少50％，特别是减少大部分“较高频率”的条纹。

公开(公告)号：USRE41249E1

公开(公告)日：2010-04-20

申请号：US11633136

申请日：2006-11-30

Applicant: Tatsuhiro Sato ,  Nobumasa Yoshida ,  Akira Fujinoki ,  Kyoichi Inaki ,  Tomoyuki Shirai

Inventor： Tatsuhiro Sato ,  Nobumasa Yoshida ,  Akira Fujinoki ,  Kyoichi Inaki ,  Tomoyuki Shirai

IPC: B32B15/00

CPC classification number: C30B31/14 ,  C03B19/01 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/32 ,  C30B25/12 ,  C30B35/00 ,  Y10T428/24496 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/315

Abstract: An object of the present invention is to provide a quartz glass body, especially a quartz glass jig for plasma reaction in producing semiconductors having excellent resistance against plasma corrosion, particularly, excellent corrosion resistance against F-based gaseous plasma; and a method for producing the same. A body made of quartz glass containing a metallic element and having an improved resistance against plasma corrosion is provided that contains bubbles and crystalline phase at an amount expressed by projected area of less than 100 mm2 per 100 cm3.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种石英玻璃体，特别是用于制造具有优异的耐等离子体腐蚀性的半导体的等离子体反应用石英玻璃夹具，特别是对F系气态等离子体的优异的耐腐蚀性; 及其制造方法。 提供由含有金属元素并具有改善的等离子体腐蚀性的石英玻璃制成的体，其含有以每100cm 3小于100mm 2的投影面积表示的量的气泡和结晶相。

公开(公告)号：US20100028787A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：US12490833

申请日：2009-06-24

Applicant: Akio KOIKE ,  Ken EBIHARA

Inventor： Akio KOIKE ,  Ken EBIHARA

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/00 ,  C03C3/04

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: A substrate that is suitable for an EUV mask or an EUV mask blank and excellent in flatness, is provided.A substrate for an EUV mask blank, which is made of a silica glass containing from 1 to 12 mass % of TiO2, wherein the surface roughness (rms) in a surface quality area of the substrate is at most 2 nm, and the maximum variation (PV) of the stress in the surface quality area of the substrate is at most 0.2 MPa.

Abstract translation: 提供了适用于EUV掩模或EUV掩模坯料并且具有优异的平面度的基板。 由含有1〜12质量％的TiO 2的二氧化硅玻璃构成的EUV掩模坯的基板，其中，所述基板的表面质量区域的表面粗糙度（rms）为2nm以下，最大变化量 基板的表面质量区域的应力的最大值（PV）为0.2MPa以下。

公开(公告)号：US20090242387A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12466032

申请日：2009-05-14

Applicant: Akio KOIKE ,  Yasutomi Iwahashi ,  Noriaki Shimodaira ,  Shinya Kikugawa ,  Naoki Sugimoto

Inventor： Akio KOIKE ,  Yasutomi Iwahashi ,  Noriaki Shimodaira ,  Shinya Kikugawa ,  Naoki Sugimoto

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/42 ,  C03C17/40 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/42 ,  G03F7/70958

Abstract: The claimed invention relates to a process for producing an optical material for EUV lithography, wherein the optical material contains a silica glass having a TiO2 concentration of from 3 to 12 mass % and a hydrogen molecule content of less than 5×1017 molecules/cm3 in the glass. The process including coating a multilayer film on the silica glass by ion beam sputtering.

Abstract translation: 所要求保护的发明涉及一种用于制造用于EUV光刻的光学材料的方法，其中所述光学材料包含玻璃中TiO 2浓度为3至12质量％且氢分子含量小于5×10 17分子/ cm 3的二氧化硅玻璃 。 该方法包括通过离子束溅射在二氧化硅玻璃上涂覆多层膜。

公开(公告)号：US20090148627A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：US12370693

申请日：2009-02-13

Applicant: Dana Craig Bookbinder ,  Richard Michael Fiacco ,  Ulrich Wilhelm Heinz Neukirch

Inventor： Dana Craig Bookbinder ,  Richard Michael Fiacco ,  Ulrich Wilhelm Heinz Neukirch

IPC: B05D1/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23

Abstract: What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-doped synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.

Abstract translation: 公开的内容包括能够用于低于约300nm的光刻中的光学元件的OD掺杂合成石英玻璃。 发现OD掺杂的合成二氧化硅玻璃具有比具有相当浓度的OH的非OD掺杂的石英玻璃具有显着更低的偏振诱导双折射值。 还公开了制造掺杂OD的合成二氧化硅玻璃，包含这种玻璃的光学构件以及包括这种光学构件的光刻系统的方法。 由于在约193nm处极度低的偏振诱发双折射值，该玻璃特别适用于浸没式光刻系统。