公开(公告)号：US20110207592A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13028472

申请日：2011-02-16

Applicant: Carlos Duran ,  Kenneth Edward Hrdina ,  Michael A. Mueller

Inventor： Carlos Duran ,  Kenneth Edward Hrdina ,  Michael A. Mueller

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/60 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/70958

Abstract: In one embodiment the present disclosure is directed to a silica-titania glass with an internal transmission of >90%/cm at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In another embodiment the internal transmission is >93%/cm at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In a further embodiment the internal transmission is >95%/cm at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In another embodiment the disclosure is directed to a silica-titania glass with an overall transmission through an optic made of the glass is >84% at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In another embodiment overall transmission through an optic made of the glass is >86% at wavelengths from 340 nm to 840 nm. In a further embodiment the overall transmission through an optic made of the glass is >88% at wavelengths from 330 nm to 840 nm. In a further embodiment the silica-titania glass has a Ti+3 concentration level [Ti3+] less than 3 ppm by weight.

Abstract translation: 在一个实施方案中，本公开涉及在340nm至840nm的波长下具有> 90％/ cm 3的内透射率的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃。 在另一个实施例中，在340nm至840nm的波长下，内透射率> 93％/ cm。 在另一个实施方案中，在340nm至840nm的波长下，内透射率> 95％/ cm。 在另一个实施方案中，本公开涉及一种二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，其透射率通过玻璃制成的光学器件在340nm至840nm的波长处为> 84％。 在另一个实施例中，通过由玻璃制成的光学器件的整个透射在340nm至840nm的波长处为> 86％。 在另一实施例中，通过由玻璃制成的光学器件的整体透射在330nm至840nm的波长处为> 88％。 在另一个实施方案中，二氧化硅 - 二氧化钛玻璃具有小于3ppm重量的Ti + 3浓度水平[Ti 3+]。

公开(公告)号：US07981824B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11597087

申请日：2005-05-11

Applicant: Wolfgang Englisch ,  Ralf Takke ,  Bodo Kuehn ,  Bruno Uebbing ,  Rainer Koeppler

Inventor： Wolfgang Englisch ,  Ralf Takke ,  Bodo Kuehn ,  Bruno Uebbing ,  Rainer Koeppler

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/00 ,  C03B23/00 ,  C03B7/14

CPC classification number: C03B19/1469 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: The present invention relates to a quartz glass blank for an optical component for transmitting radiation of a wavelength of 15 nm and shorter, the blank consisting of highly pure quartz glass, doped with titanium and/or fluorine, which is distinguished by an extremely high homogeneity. The homogeneity relates to the following features: a) micro-inhomogeneities caused by a local variance of the TiO2 distribution (

Abstract translation: 本发明涉及一种用于传输波长为15nm和更短的辐射的光学部件的石英玻璃坯料，该坯料由掺杂有钛和/或氟的高纯石英玻璃组成，其特征在于极高的均匀性 。 均匀性涉及以下特征：a）相对于TiO 2含量的平均值，TiO 2分布的局部方差（<0.05％TiO 2，相对于（5μm）的体积元素平均）引起的微不均匀性） ，b）主要功能方向（<5ppb / K）的热膨胀系数＆Dgr;α的绝对最大不均匀性，c）不大于石英玻璃坯料的可用表面的热膨胀系数的径向变化 超过0.4ppb /（K.cm）; d）具有特定进展的2nm / cm 2的主要功能方向的633nm处的最大应力双折射（SDB） 和e）根据（b）在光学表面上平均的＆Dgr;α的具体进展。 所述石英玻璃坯料只能通过将含有硅，钛和/或氟的化合物的火焰水解获得的掺杂石英玻璃作为大体积的棒状起始体形成为均匀的石英玻璃坯料，其中使用几个成形步骤 并均质化。

公开(公告)号：US07849711B2

公开(公告)日：2010-12-14

申请号：US12512436

申请日：2009-07-30

Applicant: Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

Inventor： Shigeru Maida ,  Motoyuki Yamada

IPC: G03F1/00 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt % of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt %/μm and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates.

Abstract translation: 含有3-12重量％二氧化钛的二氧化钛掺杂的石英玻璃，其二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01重量％/μm，并且对于440nm波长具有至多30％的表观透射率，厚度为6.35mm 具有这样的同质性，其提供了EUV光刻元件（通常为EUV光刻光掩模基板）所需的高表面精度。

公开(公告)号：US20100234205A1

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：US12659595

申请日：2010-03-15

Applicant: Yoshiaki Ikuta ,  Yasutomi Iwahashi ,  Kenji Okamura

Inventor： Yoshiaki Ikuta ,  Yasutomi Iwahashi ,  Kenji Okamura

IPC: C03C3/04

CPC classification number: B29C33/38 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  G03F7/0002

Abstract: An object of the present invention is to provide a TiO2-containing quartz glass substrate which, when used as a mold base for nanoimprint lithography, can form a concavity and convexity pattern having a dimensional variation falling within ±10%. The invention relates to a TiO2-containing quartz glass substrate: in which a coefficient of thermal expansion in the range of from 15 to 35° C. is within ±200 ppb/° C.; a TiO2 concentration is from 4 to 9 wt %; and a TiO2 concentration distribution, in a substrate surface on the side where a transfer pattern is to be formed, is within ±1 wt %.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种含TiO 2的石英玻璃基板，其用作纳米压印光刻用的模具基底时，可以形成尺寸变化在±10％以内的凹凸图案。 本发明涉及一种含TiO 2的石英玻璃基板，其中15至35℃范围内的热膨胀系数在±200ppb /℃以内。 TiO 2浓度为4〜9重量％。 并且在要形成转印图案的一侧的基板表面中的TiO 2浓度分布在±1重量％以内。

公开(公告)号：US20100183495A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：US12667796

申请日：2008-06-16

Applicant: Kai Schumacher ,  Christian Schulze-Isfort

Inventor： Kai Schumacher ,  Christian Schulze-Isfort

IPC: C01B33/12

CPC classification number: C03C12/00 ,  C01P2006/11 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/80 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/42 ,  C09C1/3036

Abstract: Process for preparing a silicon dioxide granule having a specific surface area of less than 1 m2/g and a proportion of impurities of less than 50 ppm, in which a) a silicon dioxide powder with a tamped density of 15 to 190 g/l, b) is compacted to slugs which are subsequently crushed, the slug fragments having a tamped density of 210 to 800 g/l, and c) the slug fragments are treated with one or more reactive compounds at 400 to 1100° C.

Abstract translation: 制备比表面积小于1m 2 / g的二氧化硅颗粒和小于50ppm的杂质比例的二氧化硅颗粒的方法，其中a）捣实密度为15至190g / l的二氧化硅粉末， b）被压实成随后被粉碎的块塞，碎块碎片具有210至800g / l的夯实密度，和c）在140至1100℃下用一种或多种反应性化合物处理段状碎片。

公开(公告)号：US20100028787A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：US12490833

申请日：2009-06-24

Applicant: Akio KOIKE ,  Ken EBIHARA

Inventor： Akio KOIKE ,  Ken EBIHARA

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/00 ,  C03C3/04

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: A substrate that is suitable for an EUV mask or an EUV mask blank and excellent in flatness, is provided.A substrate for an EUV mask blank, which is made of a silica glass containing from 1 to 12 mass % of TiO2, wherein the surface roughness (rms) in a surface quality area of the substrate is at most 2 nm, and the maximum variation (PV) of the stress in the surface quality area of the substrate is at most 0.2 MPa.

Abstract translation: 提供了适用于EUV掩模或EUV掩模坯料并且具有优异的平面度的基板。 由含有1〜12质量％的TiO 2的二氧化硅玻璃构成的EUV掩模坯的基板，其中，所述基板的表面质量区域的表面粗糙度（rms）为2nm以下，最大变化量 基板的表面质量区域的应力的最大值（PV）为0.2MPa以下。

公开(公告)号：US20090242387A1

公开(公告)日：2009-10-01

申请号：US12466032

申请日：2009-05-14

Applicant: Akio KOIKE ,  Yasutomi Iwahashi ,  Noriaki Shimodaira ,  Shinya Kikugawa ,  Naoki Sugimoto

Inventor： Akio KOIKE ,  Yasutomi Iwahashi ,  Noriaki Shimodaira ,  Shinya Kikugawa ,  Naoki Sugimoto

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/42 ,  C03C17/40 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/42 ,  G03F7/70958

Abstract: The claimed invention relates to a process for producing an optical material for EUV lithography, wherein the optical material contains a silica glass having a TiO2 concentration of from 3 to 12 mass % and a hydrogen molecule content of less than 5×1017 molecules/cm3 in the glass. The process including coating a multilayer film on the silica glass by ion beam sputtering.

Abstract translation: 所要求保护的发明涉及一种用于制造用于EUV光刻的光学材料的方法，其中所述光学材料包含玻璃中TiO 2浓度为3至12质量％且氢分子含量小于5×10 17分子/ cm 3的二氧化硅玻璃 。 该方法包括通过离子束溅射在二氧化硅玻璃上涂覆多层膜。

公开(公告)号：US07585800B2

公开(公告)日：2009-09-08

申请号：US11962936

申请日：2007-12-21

Applicant: Mitsuhiro Kawata ,  Akira Takada ,  Hideaki Hayashi ,  Naoki Sugimoto ,  Shinya Kikugawa

Inventor： Mitsuhiro Kawata ,  Akira Takada ,  Hideaki Hayashi ,  Naoki Sugimoto ,  Shinya Kikugawa

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  H05B33/10

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/42

Abstract: It is to obtain a silica glass suitable as a material for an optical material constituting an optical system to be used for EUVL, which has a low coefficient of thermal expansion from 0 to 100° C., and on which formation of concave defects is suppressed in a polishing step to achieve a high level of flatness.A silica glass containing from 0.1 to 10 mass % of Sn calculated as SnO2 and from 3 to 10 mass % of Ti calculated as TiO2, which has a homogeneity of the coefficient of thermal expansion from 0 to 100° C. to the temperature of from 50 to 200 ppb/° C., a coefficient of thermal expansion from 0 to 100° C. of 0±250 ppb/° C., and a Vickers hardness of at most 650.

Abstract translation: 获得适合作为构成用于EUVL的光学系统的光学材料的石英玻璃，其具有0至100℃的低热膨胀系数，并且其中凹陷缺陷的形成被抑制 在抛光步骤中达到高水平的平整度。 含有0.1〜10质量％的以SnO 2计的Sn和3〜10质量％的作为TiO 2计算的Ti的二氧化硅玻璃，其具有0〜100℃的热膨胀系数的均匀性 50至200ppb /℃，0至100ppb /℃的0至100℃的热膨胀系数，以及至多650的维氏硬度。

公开(公告)号：US20090143213A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US12277611

申请日：2008-11-25

Applicant: Kenneth Edward Hrdina ,  Robert Sabia

Inventor： Kenneth Edward Hrdina ,  Robert Sabia

IPC: C03C3/04

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/143 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40

Abstract: A low expansion glass substrate includes titania and silica and has a thermal expansivity with an average gradient less than 1 ppb/° C./° C. in a temperature range of 19° C. to 25° C.

Abstract translation: 低膨胀玻璃基板包括二氧化钛和二氧化硅，并且在19℃至25℃的温度范围内具有平均梯度小于1ppb /℃/℃的热膨胀性。

公开(公告)号：US20070263281A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：US11809092

申请日：2007-05-31

Applicant: John Maxon ,  William Rosch

Inventor： John Maxon ,  William Rosch

IPC: C03C3/06 ,  B29D11/00 ,  G02B5/30

CPC classification number: C03B19/1484 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention is directed to a low expansion glass with reduced striae, the glass have a point-to-point variation in titania content is 0.1 wt % or less through its thickness and a CTE of 0±3 ppb/° C. throughout the temperature range 5-35° C. The invention is further directed to a method for producing the low expansion glass by using a method in which the time for repetition of the oscillation patterns used in the process are 10 minutes or less. In addition, the low expansion glass of the invention can have striae further reduced by heat-treating the glass at temperatures above 1600° C. for a time in the range of 48-160 hours. The invention is also directed to optical elements suitable for extreme ultraviolet lithography, which elements are made of a titania-containing silica glass having a titania content in the range of 5-10 wt. %, a polished and shaped surface have a peak-to-valley roughness of less than 10 nm, an average variation in titania content of less than ±0.1 wt. % as measured through the vertical thickness of the glass and a coefficient of thermal expansion of 0±3 ppb/° C. throughout the temperature range 5-35° C.

Abstract translation: 本发明涉及一种具有减少条纹的低膨胀玻璃，玻璃在整个温度下通过其厚度和0±3ppb /℃的CTE具有0.1重量％以下的二氧化钛含量的点对点变化 范围5-35℃。本发明还涉及通过使用在该方法中使用的振荡图案的重复时间为10分钟以下的方法来制造低膨胀玻璃的方法。 此外，本发明的低膨胀玻璃可以通过在高于1600℃的温度下将玻璃热处理48至160小时的时间来进一步降低条纹。 本发明还涉及适用于极紫外光刻的光学元件，该元件由二氧化钛含量在5-10重量％范围内的含二氧化钛的二氧化硅玻璃制成。 ％，抛光和成形表面的峰谷粗糙度小于10nm，二氧化钛含量的平均变化小于±0.1wt。 ％，通过玻璃的垂直厚度测量，并且在整个5-35℃的温度范围内热膨胀系数为0±3ppb /℃。