公开(公告)号：US20020094180A1

公开(公告)日：2002-07-18

申请号：US10044452

申请日：2002-01-11

Inventor： A. Joseph Antos ,  Dana C. Bookbinder ,  Richard M. Fiacco ,  Kevin B. Sparks

IPC: G02B006/16 ,  G02B006/22 ,  G02B006/26

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03C13/045 ,  C03C13/047 ,  C03C2201/22 ,  G02B6/02 ,  G02B6/03622 ,  G02B6/2835 ,  Y02P40/57

Abstract: An optical waveguide fiber or body having a doped outer region which can be utilized in an optical coupler, a preform which can serve as the precursor for the fiber, an optical coupler, and methods of making same. Water, for example in the form of H2O and/or D2O, may be added to the cladding of the optical waveguide fiber or body.

Abstract translation: 具有可用于光耦合器中的掺杂外部区域的光波导纤维或主体，可用作光纤的前体的预成型件，光耦合器及其制造方法。 可以将例如以H 2 O和/或D 2 O形式的水添加到光波导纤维或体的包层中。

公开(公告)号：US06378337B1

公开(公告)日：2002-04-30

申请号：US09663033

申请日：2000-09-15

Applicant: John T. Brown ,  Michael S. Dobbins ,  Christine E. Heckle ,  Robert E. McLay ,  Mahendra K. Misra ,  Dale R. Powers ,  Michael H. Wasilewski

Inventor： John T. Brown ,  Michael S. Dobbins ,  Christine E. Heckle ,  Robert E. McLay ,  Mahendra K. Misra ,  Dale R. Powers ,  Michael H. Wasilewski

IPC: C03B2000

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36

Abstract: A method for preparing high-purity, bulk fused silica includes supplying silane gas, a gaseous fuel, and oxygen gas to a combustion burner. Silica particles are formed by passing the silane gas into a flame formed by the combustion reaction of the gaseous fuel with the oxygen gas while maintaining the ratio of the flow rate of the gaseous fuel to the flow rate of the silane gas no less than twelve and the ratio of the flow rate of the gaseous fuel to the flow rate of the oxygen gas no less than three. The silica particles formed are immediately deposited onto a hot bait to form a boule.

Abstract translation: 制备高纯度体积熔融二氧化硅的方法包括向燃烧器供给硅烷气体，气体燃料和氧气。 通过使硅烷气体通过气体燃料与氧气的燃烧反应形成的火焰中，同时保持气体燃料的流量与硅烷气体的流量的比率不小于12而形成二氧化硅颗粒， 气体燃料的流量与氧气的流量的比率不小于3。 形成的二氧化硅颗粒立即沉积在热诱饵上以形成一个原子棒。

公开(公告)号：US20020037797A1

公开(公告)日：2002-03-28

申请号：US09921137

申请日：2001-08-03

Applicant: Sumitomo Electric Industries, Ltd.

Inventor： Yuichi Ohga ,  Tadashi Enomoto

IPC: C03C003/06

CPC classification number: C03C23/0025 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/70 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

Abstract: Fluorine-containing glass which comprises silica and contains, in said silica, not more than 10 ppm of OH group, not more than 10 ppm of Cl and not less than 1000 ppm of F, said fluorine-containing glass having a concentration ratio of F/Cl of 100 or more. Also disclosed is fluorine-containing glass which contains not more than 10 ppm of OH group, not more than 10 ppm of Cl and not less than 1000 ppm of F, and has a concentration ratio of F/Cl of 1000 or more.

Abstract translation: 含有二氧化硅的含氟玻璃，在所述二氧化硅中含有不超过10ppm的OH基，不超过10ppm的Cl和不小于1000ppm的F，所述含氟玻璃的浓度比为F / Cl为100以上。 还公开了含有不超过10ppm的OH基，不超过10ppm的Cl和不小于1000ppm的F，并且具有1000或更大的F / Cl的浓度比的含氟玻璃。

公开(公告)号：US06153546A

公开(公告)日：2000-11-28

申请号：US229582

申请日：1999-01-13

Applicant: Kazuya Saitoh ,  Akira Ikushima

Inventor： Kazuya Saitoh ,  Akira Ikushima

IPC: C03C3/06 ,  C03C13/04

CPC classification number: C03C13/046 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  G02B6/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54

Abstract: This ultralow-loss glass is characterized in that high purity silica glass contains 1 to 500 wt.ppm of at least one network modifying oxide. It is assumed that the network modifying oxide appropriately loosens the tetrahedral network structure of silica and hence Rayleigh scattering is decreased. Examples of the network modifying oxide include Na.sub.2 O, K.sub.2 O, Li.sub.2 O, MgO, CaO, and PbO. Since Rayleigh scattering losses are minimal in comparison with those of high purity silica glass, this impurity-added silica glass is excellent as a base material of a glass fiber for a long-distance transmission.

Abstract translation: 这种超低损耗玻璃的特征在于，高纯度二氧化硅玻璃含有1至500重量ppm的至少一种网络改性氧化物。 假设网络修饰氧化物适当地松散二氧化硅的四面体网络结构，因此瑞利散射降低。 网络改性氧化物的实例包括Na 2 O，K 2 O，Li 2 O，MgO，CaO和PbO。 由于与高纯度二氧化硅玻璃相比，瑞利散射损失最小，所以这种添加了杂质的石英玻璃作为用于长距离传输的玻璃纤维的基材是优异的。

公开(公告)号：US5983673A

公开(公告)日：1999-11-16

申请号：US80247

申请日：1998-05-18

Applicant: Akira Urano ,  Toshio Danzuka ,  Tatsuhiko Saito ,  Yasuhiko Shishido ,  Masaharu Mogi ,  Michihisa Kyoto

Inventor： Akira Urano ,  Toshio Danzuka ,  Tatsuhiko Saito ,  Yasuhiko Shishido ,  Masaharu Mogi ,  Michihisa Kyoto

IPC: G02B6/00 ,  C03B20/00 ,  C03B37/10 ,  C03B37/14 ,  C03B37/15 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03C13/04 ,  C03C23/00 ,  G02B6/02 ,  G02B6/10 ,  C03B37/00 ,  C03B27/012 ,  C03B37/01 ,  C03B37/018

CPC classification number: G02B6/102 ,  C03B37/14 ,  C03B37/15 ,  C03C13/045 ,  C03C23/002 ,  C03C23/003 ,  C03C23/0035 ,  C03C23/0095 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B6/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/50 ,  Y02P40/57

Abstract: A process of manufacturing a silica glass article comprising the steps of: (1) irradiating a silica glass article with electromagnetic waves to generate defects therein; and (2) immersing the thus irradiated silica glass article in an atmosphere comprising a hydrogen gas, thereby providing the resulting silica glass article with a characteristic that is effective for preventing it substantially from increasing its absorption within an ultraviolet region due to ultraviolet ray irradiation. Also disclosed are a silica glass article or a glass fiber produced according to the manufacturing process.

公开(公告)号：US5703712A

公开(公告)日：1997-12-30

申请号：US509223

申请日：1995-07-31

Applicant: Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

Inventor： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G02B6/00 ,  C03C3/04 ,  C03C4/08 ,  C03C13/00

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

Abstract: Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of the using a secondary treatment for hydrogen introduction.

Abstract translation: 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，通过在二氧化硅玻璃的合成时，通过引入氢分子，可以提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃构件，而不是使用二次氢气导入处理。

公开(公告)号：US5696624A

公开(公告)日：1997-12-09

申请号：US648867

申请日：1996-05-16

Applicant: Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

Inventor： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

Abstract: Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of silica glass, instead of the secondary treatment for hydrogen introduction.

Abstract translation: 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是进行氢的二次处理，提供了对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US5523266A

公开(公告)日：1996-06-04

申请号：US286538

申请日：1994-08-05

Applicant: Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

Inventor： Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  G03F7/20 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B37/014 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/90 ,  Y10S65/08

Abstract: A synthetic quartz glass optical member for an ultraviolet laser, where the quartz glass has a hydroxyl content of 10-100 ppm, a chlorine content of 200 ppm or less, a hydrogen content of 1.times.10.sup.16 molecules/cm.sup.3 or less, a homogeneity of refractive index of 5.times.10.sup.-6 or less in terms of .DELTA.n, and a birefringence of 5 nm/cm or less.

Abstract translation: 一种用于紫外线激光的合成石英玻璃光学构件，其中石英玻璃的羟基含量为10-100ppm，氯含量为200ppm以下，氢含量为1×1016分/ cm 3以下，折射率均匀性 在DELTA n方面为5×10 -6以下，双折射为5nm / cm以下。

公开(公告)号：US5364433A

公开(公告)日：1994-11-15

申请号：US977397

申请日：1993-05-15

Applicant: Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

Inventor： Hiroyuki Nishimura ,  Akira Fujinoki ,  Toshikatsu Matsuya ,  Kyoichi Inaki ,  Toshiyuki Kato ,  Atsushi Shimada

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: C03B37/014 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/90 ,  Y10S65/08

Abstract: A synthetic quartz glass optical member for an ultraviolet laser, suitably applicable as a stepper lens of a lithographer using an excimer laser beam and other optical members, wherein the quartz glass has a hydroxyl content of 10 to 100 ppm, a chlorine content of 200 ppm or less, a hydrogen content of 1.times.10.sup.16 molecules/cm.sup.3 or less, a homogeneity of refractive index of 5.times.10.sup.-6 or less in terms of .DELTA.n, and a birefringence of 5 nm/cm or less. The optical member can be produced by subjecting a volatile silicon compound to flame hydrolysis with oxyhydrogen flame, depositing the formed particulate silica on a heat-resistant support to prepare a porous silica matrix, heating the matrix in a vacuum as high as 1.times.10.sup.-2 Torr or above to a temperature of 1,400 .degree. C. or above to effect dehydration and degassing, homogenizing the resultant transparent quartz glass into highly homogeneous quartz glass free from striae in at last one direction, molding the highly homogeneous quartz glass, and annealing the molded glass.

Abstract translation: PCT No.PCT / JP92 / 00821 Sec。 371日期1993年3月15日 102（e）1993年3月15日PCT提交1992年6月29日PCT公布。 公开号WO93 / 00307 日期：1993年1月7日。一种用于紫外线激光的合成石英玻璃光学元件，适用于使用准分子激光束和其它光学部件的平版印刷机的步进透镜，其中石英玻璃的羟基含量为10〜100ppm ，氯含量为200ppm以下，氢含量为1×1016分/ cm 3以下，折射率均匀性为DELTA n为5×10 -6以下，双折射为5nm / cm以下。 光学构件可以通过使挥发性硅化合物用氢氧焰火焰水解，将形成的颗粒二氧化硅沉积在耐热载体上以制备多孔二氧化硅基质来制造，在高达1×10 -2乇的真空中加热基质 以上至1400℃以上的温度进行脱水脱气，将得到的透明石英玻璃均匀化成最后一个方向不含条纹的高度均匀的石英玻璃，成型高度均匀的石英玻璃，退火成型玻璃 。

公开(公告)号：US5325230A

公开(公告)日：1994-06-28

申请号：US801813

申请日：1991-12-06

Applicant: Shigeru Yamagata ,  Kyoichi Inaki ,  Toshikatu Matsuya ,  Ralf Takke ,  Stephan Thomas ,  Heinz Fabian

Inventor： Shigeru Yamagata ,  Kyoichi Inaki ,  Toshikatu Matsuya ,  Ralf Takke ,  Stephan Thomas ,  Heinz Fabian

IPC: C03B19/14 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  G02B1/00 ,  G03F7/20 ,  C03C25/02

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03C23/007 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G03F7/70241 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/08 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/42 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/90

Abstract: The invention relates to lenses, prisms or other optical members which are subjected to high-power ultraviolet light having a wavelength of about 360 nm or less, or ionizing radiation, particularly optical members for use in laser exposure apparatus for lithography, and to blanks for such optical members. The homogeneity of the refractive index distribution and the resistance to optical deterioration when the optical members are exposed for a long period of time to short wavelength ultraviolet light from a laser beam are improved. The optical members are made of high-purity synthetic silica glass material containing at least about 50 wt. ppm of OH groups, and are doped with hydrogen. The refractive index distribution caused by the fictive temperature distribution during heat treatment in the process of producing high-purity silica glass blanks for optical members in accordance with the present invention is offset by the combined refractive index distribution determined by the OH group concentration distribution or by the OH group concentration distribution and the Cl concentration distribution in the glass.

Abstract translation: 本发明涉及经受大约360nm或更小的波长的大功率紫外光的透镜，棱镜或其它光学构件，或者电离辐射，特别是用于光刻的激光曝光装置的光学构件，以及用于 这种光学构件。 当光学元件长时间暴露于来自激光束的短波长紫外光时，折射率分布的均匀性和光学劣化的抵抗性得到改善。 光学构件由含有至少约50重量％的高纯度合成石英玻璃材料制成。 ppm的OH基团，并掺杂氢气。 在根据本发明的用于制造用于光学部件的高纯度二氧化硅玻璃毛坯的过程中由热处理期间的假想温度分布引起的折射率分布由由OH基浓度分布或由OH基浓度分布确定的组合折射率分布或由 玻璃中的OH基浓度分布和Cl浓度分布。