公开(公告)号：US07022633B2

公开(公告)日：2006-04-04

申请号：US10317068

申请日：2002-12-12

Applicant: Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

Inventor： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

IPC: C03C3/06 ,  G01N23/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/90 ,  Y10S501/905

Abstract: A synthetic quartz glass for optical use, to be used by irradiation with light within a range of from the ultraviolet region to the vacuum ultraviolet region, which contains fluorine, which has a ratio of the scattering peak intensity of 2250 cm−1 (I2250) to the scattering peak intensity of 800 cm−1 (I800), i.e. I2250/I800, of at most 1×10−4 in the laser Raman spectrum, and which has an absorption coefficient of light of 245 nm of at most 2×10−3 cm−1.

Abstract translation: 一种用于光学用途的合成石英玻璃，其通过在含有氟的紫外区域至真空紫外区域的范围内的光照射而使用，所述氟化物具有2250cm -1的散射峰强度 （I 2250）相对于800cm -1（I 800）的散射峰强度，即I 2250 在激光拉曼光谱中，其最大吸收系数为245nm，最多为2×10 3，最大为1×10 -4， SUP> -3cm -1 -1。

公开(公告)号：US07010203B2

公开(公告)日：2006-03-07

申请号：US10479852

申请日：2003-04-03

Applicant: Tomoyuki Yokokawa ,  Eiji Yanada ,  Masaaki Hirano

Inventor： Tomoyuki Yokokawa ,  Eiji Yanada ,  Masaaki Hirano

IPC: G02B6/02 ,  G02B6/22

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/36 ,  G02B6/02261 ,  G02B6/02271 ,  G02B6/0228 ,  G02B6/03644 ,  G02B6/03666

Abstract: An object of the present invention is to provide an optical fiber manufacturing method and an optical fiber in which an increase in the transmission loss is suppressed by preventing hydroxyl group from entering near the core portion.This invention provides a method for manufacturing an optical fiber 10 including forming a glass pipe 16 by applying a ring portion 15 on the inner face of a starting pipe 14 as a starting material, inserting a glass rod 13 that becomes a central core portion 11 and a depressed portion 12 into the inside of the glass pipe 16, integrating the glass pipe 16 and the glass rod 13 by collapse to form a glass body 17, forming a preform 10a by providing a jacket portion 18 outside the glass body 17, and drawing the preform 10a, wherein the thickness of the starting pipe 14 is set in a range from 4 mm to 8 mm.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种光纤制造方法和光纤，其中通过防止羟基进入芯部附近而抑制传输损耗的增加。 本发明提供了一种制造光纤10的方法，该光纤10包括通过在作为起始材料的起始管14的内表面上施加环形部分15，插入成为中心芯部11的玻璃棒13和 在玻璃管16的内部设有凹部12，将玻璃管16和玻璃棒13倒塌形成玻璃体17，通过在玻璃体17的外侧设置护套部18而形成预制件10a; 拉制预制件10a，其中起始管14的厚度设定在4mm至8mm的范围内。

公开(公告)号：US06982232B2

公开(公告)日：2006-01-03

申请号：US10842979

申请日：2004-05-11

Applicant: Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Johannes Moll

Inventor： Nicholas F. Borrelli ,  Charlene M. Smith ,  Johannes Moll

IPC: C03C3/06

CPC classification number: G03F7/70041 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

Abstract: Lithographic methods are disclosed. In one such method, a pulsed ultraviolet radiation source for producing ultraviolet lithography radiation having a wavelength shorter than about 300 nm at a fluence of less than 10 mJ/cm2/pulse and a high purity fused silica lithography glass having a concentration of molecular hydrogen of between about 0.02×1018 molecules/cm3 and about 0.18×1018 molecules/cm3 are provided. A lithography pattern is formed with the ultraviolet lithography radiation; the lithography pattern is reduced to produce a reduced lithography pattern; and the reduced lithography pattern is projected onto a ultraviolet radiation sensitive lithography medium to form a printed lithography pattern. At least one of the forming, reducing, and projecting steps includes transmitting the ultraviolet lithography radiation through the high purity fused silica lithography glass. Lithography systems and high purity fused silica lithography glass are also described.

Abstract translation: 公开了平版印刷方法。 在一种这样的方法中，用于产生具有小于约300nm的波长的紫外光刻辐射的脉冲紫外辐射源，其注量小于10mJ / cm 2 /脉冲和高纯度熔融石英光刻 分子氢浓度在约0.02×10 18分子/ cm 3至约0.18×10 18分子/ cm 3之间的玻璃 。 用紫外光刻法形成光刻图案; 光刻图案被减少以产生减小的光刻图案; 并且将还原的光刻图案投影到紫外线照射敏感光刻介质上以形成印刷光刻图案。 形成，还原和突出步骤中的至少一个步骤包括通过高纯度熔融石英光刻玻璃传输紫外光刻辐射。 还描述了平版印刷系统和高纯度熔融石英光刻玻璃。

公开(公告)号：US20050223747A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：US11004027

申请日：2004-12-02

Applicant: Laura Ball ,  Bruno Baney ,  Dana Bookbinder ,  Keith House ,  Rostislav Khrapko ,  Susan Schiefelbein ,  Lisa Moore

Inventor： Laura Ball ,  Bruno Baney ,  Dana Bookbinder ,  Keith House ,  Rostislav Khrapko ,  Susan Schiefelbein ,  Lisa Moore

IPC: C03B37/00 ,  C03B37/012 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03C15/00 ,  C03C21/00 ,  C03C25/60 ,  C03C25/68 ,  C03B37/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01426 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01861 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2203/26 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/90 ,  C03C25/602 ,  C03C25/607 ,  C03C25/68 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02

Abstract: A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.

Abstract translation: 公开了一种通过将碱金属扩散到玻璃制品的表面中形成掺杂碱金属氧化物的光纤的方法。 石英玻璃制品可以是管或棒的形式，或者是管或棒的集合。 含有碱金属的二氧化硅玻璃制品和可能已经无意地扩散到玻璃制品中的杂质被蚀刻到足以除去杂质的深度。 石英玻璃制品可以进一步加工以形成完整的光纤预型件。 当预成型件被拉入光纤时，表现出低的衰减。

公开(公告)号：US20050201699A1

公开(公告)日：2005-09-15

申请号：US11046435

申请日：2005-01-28

Applicant: Laura Ball ,  Bruno Baney ,  Dana Bookbinder ,  Keith House ,  Rostislav Khrapko ,  Lisa Moore ,  Susan Schiefelbein

Inventor： Laura Ball ,  Bruno Baney ,  Dana Bookbinder ,  Keith House ,  Rostislav Khrapko ,  Lisa Moore ,  Susan Schiefelbein

IPC: C03B37/00 ,  C03B37/012 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03C15/00 ,  C03C21/00 ,  C03C25/60 ,  C03C25/68 ,  G02B6/02

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01426 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01861 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2203/26 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/90 ,  C03C25/602 ,  C03C25/607 ,  C03C25/68 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02

Abstract: A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.

Abstract translation: 公开了一种通过将碱金属扩散到玻璃制品的表面中形成掺杂碱金属氧化物的光纤的方法。 石英玻璃制品可以是管或棒的形式，或者是管或棒的集合。 含有碱金属的二氧化硅玻璃制品和可能已经无意地扩散到玻璃制品中的杂质被蚀刻到足以除去杂质的深度。 石英玻璃制品可以进一步加工以形成完整的光纤预型件。 当预成型件被拉入光纤时，表现出低的衰减。

公开(公告)号：US06931097B1

公开(公告)日：2005-08-16

申请号：US10048138

申请日：2000-07-10

Applicant: Claude L. Davis, Jr. ,  Kenneth E. Hrdina

Inventor： Claude L. Davis, Jr. ,  Kenneth E. Hrdina

IPC: C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C17/36 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G02B17/06 ,  G03F1/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B17/0615 ,  G02B17/0636 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: The projection lithographic method for producing integrated circuits and forming patterns with extremely small feature dimensions includes an illumination sub-system (36) for producing and directing an extreme ultraviolet soft x-ray radiation λ from an extreme ultraviolet soft x-ray source (38); a mask stage (22) illuminated by the extreme ultraviolet soft x-ray radiation λ produced by illumination stage and the mask stage (22) includes a pattern when illuminated by radiation λ. A protection sub-system includes reflective multilayer coated Ti doped high purity SiO2 glass defect free surface (32) and printed media subject wafer which has a radiation sensitive surface.

Abstract translation: 用于制造集成电路和具有极小特征尺寸的图案的投影光刻方法包括用于产生和引导来自极紫外线软X射线源（38）的极紫外线软X射线辐射λ的照明子系统（36） ; 由照明级产生的极紫外线软X射线辐射λ照射的掩模台（22）和掩模台（22）包括当被辐射λ照射时的图案。 保护子系统包括具有辐射敏感表面的反射多层涂覆的Ti掺杂的高纯度SiO 2玻璃无缺陷表面（32）和印刷媒体对象晶片。

公开(公告)号：US06866929B2

公开(公告)日：2005-03-15

申请号：US10032298

申请日：2001-12-21

Applicant: Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

Inventor： Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

IPC: A61K6/06 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/00 ,  B01J19/10 ,  B01J19/24 ,  B24B37/04 ,  C01B13/18 ,  C01B17/20 ,  C01F17/00 ,  C01G23/00 ,  C03B8/02 ,  C03B8/04 ,  C03B19/10 ,  C03C8/16 ,  C03C11/00 ,  C03C12/00 ,  C03C14/00 ,  C03C17/30 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C09K11/58 ,  C09K11/59 ,  C09K11/62 ,  C09K11/64 ,  C09K11/66 ,  C09K11/67 ,  C09K11/77 ,  H01L21/321 ,  B32B19/00 ,  B32B15/02 ,  C03C3/00 ,  C03C6/02

CPC classification number: B82Y30/00 ,  A61K6/0276 ,  A61K6/08 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/10 ,  B01J19/2405 ,  B01J2219/00112 ,  B01J2219/00155 ,  B01J2219/00159 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00166 ,  B01J2219/00171 ,  B01J2219/00186 ,  B24B37/044 ,  C01B13/18 ,  C01B13/185 ,  C01B17/20 ,  C01F17/0043 ,  C01G23/003 ,  C01P2002/60 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/34 ,  C01P2004/50 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/22 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/07 ,  C03C8/16 ,  C03C11/002 ,  C03C12/00 ,  C03C14/004 ,  C03C17/30 ,  C03C2214/08 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  C09K11/584 ,  C09K11/595 ,  C09K11/623 ,  C09K11/642 ,  C09K11/643 ,  C09K11/644 ,  C09K11/662 ,  C09K11/666 ,  C09K11/672 ,  C09K11/7701 ,  C09K11/7708 ,  C09K11/7729 ,  C09K11/7769 ,  C09K11/7776 ,  C09K11/7784 ,  C09K11/7786 ,  C09K11/7787 ,  H01L21/3212 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  C08L33/00

Abstract: Glass powders and methods for producing glass powders. The powders preferably have a small particle size, narrow size distribution and a spherical morphology. The method includes forming the particles by a spray pyrolysis technique. The invention also includes novel devices and products formed from the glass powders.

Abstract translation: 玻璃粉末和玻璃粉末的制造方法。 粉末优选具有小的粒度，窄的粒度分布和球形的形态。 该方法包括通过喷雾热解技术形成颗粒。 本发明还包括由玻璃粉末形成的新型器件和产品。

公开(公告)号：US20040116269A1

公开(公告)日：2004-06-17

申请号：US10718575

申请日：2003-11-24

Applicant: TOSOH CORPORATION ,  TOSOH QUARTZ CORPORATION ,  TOSOH SGM CORPORATION

Inventor： Yoshinori Harada ,  Shuzo Mizutani ,  Shinkichi Hashimoto ,  Masakazu Kudoh ,  Naoki Miura ,  Katsufumi Takahashi ,  Hideki Kiyohara

IPC: C03C003/06 ,  C03B019/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: Highly durable silica glass containing 0.01% to 2% by weight of at least one element selected from magnesium, calcium, strontium, barium, yttrium, hafnium and zirconium. The silica glass is produced by melting a powdery material comprising a finely divided silica powder and a finely divided zirconium-containing substance by oxyhydrogen flame or plasma are to form an accumulated molten material layer, and extending the molten material layer outwardly in radial directions.

Abstract translation: 含有0.01重量％至2重量％的选自镁，钙，锶，钡，钇，铪和锆中的至少一种元素的高耐用二氧化硅玻璃。 二氧化硅玻璃是通过熔化包含细碎的二氧化硅粉末和细分的含锆物质的粉末状材料通过氢氧焰或等离子体而形成的，以形成聚集的熔融材料层，并使熔融材料层沿径向向外延伸。

公开(公告)号：US20040095566A1

公开(公告)日：2004-05-20

申请号：US10614200

申请日：2003-07-08

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

IPC: G03B027/54

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/24 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: An optical member made of silica glass manufactured by the direct method where a material gas comprising an organosilicon compound is allowed to react in an oxidizing flame, said optical member having a 2null1014 molecules/cm3 or less concentration of formyl radical generated by X-ray irradiation whose dose is 0.01 Mrad or more and 1 Mrad or less.

Abstract translation: 通过直接法制造的由石英玻璃制成的光学构件，其中包含有机硅化合物的材料气体在氧化火焰中反应，所述光学构件具有2×10 14分子/ cm 3或更低浓度的甲酰基 其剂量为0.01Mrad以上且1Mrad以下的X射线照射产生。

公开(公告)号：US06698247B2

公开(公告)日：2004-03-02

申请号：US09848904

申请日：2001-05-04

Applicant: David L. Tennent ,  Joseph M. Whalen

Inventor： David L. Tennent ,  Joseph M. Whalen

IPC: C03B37075

CPC classification number: C03B37/01413 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/38

Abstract: A method for making silica includes delivering a silica precursor comprising a perfluorinated group to a conversion site and passing the silica precursor through a conversion flame to produce silica soot.

Abstract translation: 制备二氧化硅的方法包括将包含全氟化基团的二氧化硅前体输送到转化位点并使二氧化硅前体通过转化火焰以产生二氧化硅烟灰。