公开(公告)号：US20020039477A1

公开(公告)日：2002-04-04

申请号：US09925678

申请日：2001-08-09

Applicant: Mitsubishi Cable Industries, Ltd.

Inventor： Hiroyuki Hayami ,  Terunobu Iio ,  Toshikazu Gozen ,  Hirokazu Kuzushita ,  Michitsugu Mori ,  Takashi Okamura ,  Shuichi Ohmori

IPC: G02B006/16

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01426 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  G02B6/06

Abstract: A silica optical fiber is provided, which contains a pure-silica core and a cladding layer formed on the pure-silica core, wherein the pure-silica core contains a C element and has a content of elements belonging to the third period-the seventh period of the periodic table, except Si element that constitutes the quartz structure, of not more than 100 ppm. The present invention can provide a silica optical fiber superior in the resistance to high energy electromagnetic waves such as UV light and null-rays.

Abstract translation: 提供一种二氧化硅光纤，其包含形成在纯二氧化硅芯上的纯二氧化硅芯和包层，其中纯二氧化硅芯包含C元素，并且具有属于第三周期的元素含量 - 第七 周期表的周期，除了构成石英结构的Si元素之外，不大于100ppm。 本发明可以提供对诸如UV光和γ射线的高能电磁波的耐受性优异的二氧化硅光纤。

公开(公告)号：US20010019991A1

公开(公告)日：2001-09-06

申请号：US09851126

申请日：2001-05-09

Applicant: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

Inventor： Jun Abe ,  Seiki Ejima ,  Akira J. Ikushima ,  Takumi Fujiwara

IPC: C03C003/253 ,  C03C003/00

CPC classification number: C03C23/009 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/26 ,  C03C3/06 ,  C03C23/002 ,  C03C23/007 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/31 ,  C03C2203/54 ,  G02F1/3555 ,  G02F1/3558

Abstract: There is disclosed second-order nonlinear glass material wherein a part having second-order nonlinearity contains Ge, H and OH and has second-order nonlinear optical constant d of 1 pm/V or more, and a method for producing second-order nonlinear glass material comprising treating a porous glass material containing Ge with hydrogen, sintering it and subjecting it to a ultraviolet poling treatment. There can be provided second-order nonlinear glass material having second-order nonlinearity which is a sufficiently high and has a sufficiently long lifetime for a practical purpose, in use of the glass material for optical functional elements or the like.

Abstract translation: 公开了二阶非线性玻璃材料，其中具有二阶非线性的部分包含Ge，H和OH，并且具有1pm / V以上的二次非线性光学常数d，以及二阶非线性玻璃的制造方法 包括用氢处理含有Ge的多孔玻璃材料，烧结并对其进行紫外线处理。 在使用光学功能元件等的玻璃材料时，可以提供具有二次非线性的二阶非线性玻璃材料，该二次非线性度足够高并且在实际应用中具有足够长的使用寿命。

公开(公告)号：US20010018834A1

公开(公告)日：2001-09-06

申请号：US09747953

申请日：2000-12-27

Inventor： Koji Matsuo ,  Hisatoshi Otsuka ,  Kazuo Shirota

IPC: C03B019/01 ,  C03B037/018 ,  C03B020/00

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40

Abstract: A process for producing synthetic quartz glass using a burner composed of a plurality of concentric nozzles involves the steps of feeding a silica-forming raw material gas and a fluorine compound gas to a reaction zone from a center nozzle, feeding oxygen gas from a second nozzle outside the center nozzle, and feeding oxygen gas and/or hydrogen gas from a third nozzle. The silica-forming raw material gas is hydrolyzed to form fine particles of silica, which particles are deposited on a rotatable substrate so as to form a porous silica matrix, which is then fused to give the quartz glass. The flow rate of the oxygen gas fed from the second nozzle and the flow rate of the raw material gas are controlled so as to provide a 1.1- to 3.5-fold stoichiometric excess of oxygen. The excess oxygen suppresses SinullSi bond formation in the quartz glass, enabling the production of synthetic quartz glass having a high transmittance in the vacuum ultraviolet region.

Abstract translation: 使用由多个同心喷嘴构成的燃烧器来生产合成石英玻璃的方法包括以下步骤：将来自中心喷嘴的二氧化硅生成原料气体和氟化合物气体供给到反应区域，从第二喷嘴 在中心喷嘴外部，并且从第三喷嘴供给氧气和/或氢气。 二氧化硅形成原料气体被水解以形成二氧化硅细颗粒，该颗粒沉积在可转动的基底上，以便形成多孔二氧化硅基质，然后熔化以得到石英玻璃。 控制从第二喷嘴供给的氧气的流量和原料气体的流量，从而提供1.1-3.5倍化学计量的过量的氧气。 过量的氧抑制石英玻璃中的Si-Si键的形成，能够在真空紫外线区域中制造具有高透射率的合成石英玻璃。

公开(公告)号：US5736206A

公开(公告)日：1998-04-07

申请号：US640759

申请日：1996-05-07

Applicant: Wolfgang Englisch ,  Stephan Moritz ,  Dietmar Hellmann

Inventor： Wolfgang Englisch ,  Stephan Moritz ,  Dietmar Hellmann

IPC: C03B20/00 ,  B22C9/12 ,  B28B1/26 ,  C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00 ,  C03C17/02 ,  C04B33/28 ,  C04B35/14 ,  C30B35/00 ,  G01J1/42 ,  B01J3/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: C03C17/02 ,  B22C9/12 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03C11/00 ,  C03C3/06 ,  C30B35/002 ,  G01J1/429 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/52 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1317

Abstract: Molded bodies of quartz glass have at least one surface area of transparent quartz glass, the exposed surfaces of which are smooth and which have a surface microroughness of less than 8 .mu.m. The base material has a chemical purity of at least 99.9% and a cristobalite content of no more than 1%; is gas-impermeable and opaque; and contains pores. At a wall thickness of 1 mm, the base material has a nearly uniform direct spectral transmission of less than 10% in the wavelength range of .lambda.=190-2,650 nm; and which has a density of at least 2.215 g/cm.sup.3. The transparent surface area is formed from base material by heating it to a temperature above 1,650.degree. C. The thickness of the transparent layer is at least 0.5 mm, and its direct spectral transmission in the wavelength range of .lambda.=6001-2,650 nm is at least 60% for a layer thickness of 1 mm.

Abstract translation: PCT No.PCT / EP94 / 03722 Sec。 371日期：1996年5月7日 102（e）日期1996年5月7日PCT 1994年11月10日PCT PCT。 公开号WO95 / 13248 日期1995年5月18日石英玻璃体的模体具有透明石英玻璃的至少一个表面积，其露出表面光滑，表面微粗糙度小于8μm。 基材的化学纯度为99.9％以上，方石方含量不超过1％。 是不透气和不透明的; 并含有毛孔。 在壁厚为1mm的情况下，基材在λ= 190-2,650nm的波长范围内具有小于10％的几乎均匀的直接光谱透射; 并且其密度为至少2.215g / cm 3。 透明表面积由基材通过加热至1650℃以上而形成。透明层的厚度至少为0.5mm，其在λ= 6001-2,650nm的波长范围内的直接光谱透过率为 对于层厚为1mm，最少为60％。

公开(公告)号：US5719698A

公开(公告)日：1998-02-17

申请号：US711471

申请日：1996-09-06

Applicant: Hiroyuki Hiraiwa ,  Issey Tanaka

Inventor： Hiroyuki Hiraiwa ,  Issey Tanaka

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  C03C3/04 ,  C03C8/04

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

Abstract: Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of using a secondary treatment for hydrogen introduction.

Abstract translation: 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是使用二次氢气导入来提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US5702495A

公开(公告)日：1997-12-30

申请号：US479130

申请日：1995-06-07

Applicant: Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Seishi Fujiwara

Inventor： Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Seishi Fujiwara

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

Abstract: Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. A silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of using a secondary treatment for hydrogen introduction.

Abstract translation: 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元件，适于用作UV光刻的光学元件的二氧化硅玻璃构件。 另外，通过在合成二氧化硅玻璃时引入氢分子，可以提供在紫外线照射下的耐久性优异的二氧化硅玻璃构件，而不是二次处理导入氢。

公开(公告)号：US5699183A

公开(公告)日：1997-12-16

申请号：US484863

申请日：1995-06-07

Applicant: Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Norio Komine ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Issey Tanaka

Inventor： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Norio Komine ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Issey Tanaka

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC classification number: C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

Abstract: Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of using a secondary treatment for hydrogen introduction.

Abstract translation: 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是使用二次氢气导入来提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US5410428A

公开(公告)日：1995-04-25

申请号：US779737

申请日：1991-10-23

Applicant: Shigeru Yamagata ,  Michiyou Kuriyama ,  Kyoichi Inaki ,  Ralf Takke

Inventor： Shigeru Yamagata ,  Michiyou Kuriyama ,  Kyoichi Inaki ,  Ralf Takke

IPC: C03B19/14 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G03F7/20 ,  H01S3/034 ,  C03C4/08

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  G02B1/00 ,  G03F7/70241 ,  H01S3/034 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

Abstract: This invention relates to an optical member made of highly transparent, high-purity synthetic silica glass, to a method for manufacturing a blank or an optical member of such glass, and to the optical members themselves. The optical members have an absolute refractive index, n.sub.d, of 1.460 or more and a hydrogen molecule concentration of at least 5.times.10.sup.16 molecules/cm.sup.3 uniformly distributed throughout the glass and are particularly well suited for use in apparatus in which they are exposed to a high-power laser beam such as that produced by an excimer laser.

Abstract translation: 本发明涉及由高透明，高纯度的合成石英玻璃制成的光学构件，制造这种玻璃的坯料或光学构件的方法以及光学构件本身。 光学构件的绝对折射率nd为1.460以上，氢分子浓度至少为5×10 16分/ cm 3，均匀分布在整个玻璃中，特别适用于将其暴露于高分子量的设备中， 功率激光束，例如由准分子激光器产生的激光束。

公开(公告)号：US4733939A

公开(公告)日：1988-03-29

申请号：US763734

申请日：1985-08-08

Applicant: Atsushi Utsumi ,  Hiroyuki Hayami

Inventor： Atsushi Utsumi ,  Hiroyuki Hayami

IPC: C03B19/10 ,  C03B37/012 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018 ,  C03B37/027 ,  C03B37/028 ,  C03C13/04 ,  G02B6/02 ,  G02B6/06 ,  G02B6/44 ,  G02B6/10

CPC classification number: G02B6/443 ,  C03B19/106 ,  C03B37/01214 ,  C03B37/01426 ,  C03B37/0183 ,  C03B37/027 ,  C03B37/028 ,  C03C13/045 ,  G02B6/02 ,  G02B6/06 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/14 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/40

Abstract: It is disclosed that a radiation-resistant optical conductor, such as an optical fiber for telecommunication, a multiple fiber for an image scope, and a light guide for illumination, which comprises a core composed of a pure silica glass which is prepared via an ultrahigh temperature of at least 3,000.degree. C. and has an OH group content of from 0.1 to 300 ppm, and a cladding layer formed on the core, and the cladding layer being composed of a silica glass which contains boron element and fluorine element as a dopant.

Abstract translation: 公开了一种耐辐射光导体，例如用于电信的光纤，用于图像范围的多光纤，以及用于照明的光导，其包括由纯石英玻璃构成的芯，该芯由超高分子 温度至少为3000℃，OH基含量为0.1〜300ppm，形成在芯上的包层，包层由含有硼元素和氟元素作为掺杂剂的石英玻璃构成 。

公开(公告)号：US4432781A

公开(公告)日：1984-02-21

申请号：US352856

申请日：1982-02-26

Applicant: Haruo Okamoto ,  Motoyuki Yamada

Inventor： Haruo Okamoto ,  Motoyuki Yamada

IPC: C03B37/018 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B37/014 ,  G02B6/00 ,  C03B19/00

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/38

Abstract: The invention provides a novel method for manufacturing fused quartz glass by the decomposition and oxidation of a vaporizable silicon compound such as silicon tetrachloride in a plasma flame according to which the quartz glass rod produced contains a controlled amount of hydroxy groups with high reproducibility. The principle of the inventive method consists in the admixture of gaseous hydrogen chloride into the gaseous reactant mixture or in the plasma-supporting gas as the source for the hydrogen atoms to be converted to the hydroxy groups in place of hydrogen gas or water vapor as the hydrogen source. Good proportionality is established between the concentration of the hydrogen chloride in the gaseous feed and the hydroxy content in the resultant fused quartz glass rod.

Abstract translation: 本发明提供了一种通过在等离子体火焰中分解和氧化可蒸发硅化合物如四氯化硅来制造熔融石英玻璃的新方法，根据该方法，所生产的石英玻璃棒含有可控量的具有高再现性的羟基。 本发明方法的原理在于将气态氯化氢混合到气态反应物混合物中或在等离子体载气中，作为氢原子的原子转化为羟基而不是氢气或水蒸汽作为 氢源。 在气态进料中的氯化氢浓度与所得的熔融石英玻璃棒中的羟基含量之间建立了良好的比例关系。