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公开(公告)号：KR100935280B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020090076610
申请日：2009-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020090120436A
公开(公告)日：2009-11-24
申请号：KR1020090076610
申请日：2009-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: PURPOSE: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus are provided to wash all the outside circumferences of a nozzle when washing the processing liquid supply nozzle, thereby cleaning processing liquid left in the outside circumferences. CONSTITUTION: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus(120) includes a nozzle, a nozzle holder and a space unit. The nozzle of a pipe(110a) has an outlet which discharges processing liquid. The nozzle holder(2) has a hole unit into or through which the nozzle can be inserted or penetrate. The space unit is formed between an outside circumference of the nozzle and an inside circumference of the nozzle holder. Washing liquid is supplied to the space unit. The nozzle is inserted into/penetrates the center of the hole unit. The outside circumference of the nozzle point-contacts a wall of the hole unit.
Abstract translation: 目的：提供一种处理液供给喷嘴和处理液供给装置，用于在洗涤处理液供给喷嘴时，对喷嘴的所有外周进行清洗，从而清洗残留在外周的处理液。 构成：处理液供给喷嘴和处理液供给装置（120）具有喷嘴，喷嘴保持架和空间部。 管道（110a）的喷嘴具有排出处理液体的出口。 喷嘴保持器（2）具有孔单元，喷嘴可插入或穿过该孔。 空间单元形成在喷嘴的外周和喷嘴保持架的内周之间。 洗涤液体被供应到空间单元。 喷嘴插入/穿过孔单元的中心。 喷嘴点的外圆周与孔单元的壁相接触。
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公开(公告)号：KR1020110119528A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：KR1020110022023
申请日：2011-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: An apparatus for coating a resist, a coating developing system including the same, and a method for coating the resist are provided to form a color resist film with high film thickness uniformity on a substrate. CONSTITUTION: An apparatus for coating a resist(50) includes a substrate temperature adjusting part, a color resist liquid supplying part, and a substrate rotating part. The substrate temperature adjusting part adjusts the temperature of a substrate in order to increase a temperature at the peripheral part of the substrate. The color resist liquid supplying part supplies color resist liquid to the substrate. The substrate rotating part rotates the substrate on which the color resist liquid is supplied.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布抗蚀剂的装置，包括该涂料的涂料显影系统和涂覆该抗蚀剂的方法，以在基材上形成具有高膜厚均匀性的抗蚀剂膜。 构成：用于涂覆抗蚀剂（50）的设备包括基板温度调节部分，抗彩色液体供应部分和基板旋转部分。 衬底温度调节部分调节衬底的温度以增加衬底的周边部分的温度。 彩色抗蚀剂液体供应部分向基片供应彩色抗蚀剂液体。 基板旋转部旋转供给着抗蚀剂液体的基板。
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公开(公告)号：KR100935281B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020040008887
申请日：2004-02-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.
Abstract translation: 处理液供给喷嘴围绕所述管状的主喷嘴和喷嘴保持件，具有插入可能的大致碗状的颗粒通孔的主喷嘴和喷嘴保持件的内周面，主要具有用于排出涂敷液的排出口 并且在喷嘴与喷嘴的外周面之间形成有空间部分，并且至少供给有预定的清洁液。 喷嘴保持件或喷嘴相对而处于向上和向下移动的结构，所述主喷嘴的排出口，并从排出的涂布液在从贯通孔突出的状态下排出口，收容在所述喷嘴保持件的状态下的管嘴清洗液 由装置进行清洁。
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公开(公告)号：KR101586872B1
公开(公告)日：2016-01-19
申请号：KR1020110022023
申请日：2011-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은높은막두께균일성을갖는컬러레지스트막을기판상에형성하는것이가능한레지스트도포장치및 레지스트막형성방법을제공한다. 본발명의실시형태에의한레지스트도포장치는, 기판의중앙부에서의온도보다기판의주변부에서의온도가높아지도록기판의온도를조정하도록구성된기판온도조정부와, 중앙부보다주변부에서온도가높아지도록기판온도조정부에의해온도조정된기판상에컬러레지스트액을공급하는컬러레지스트액공급부와, 컬러레지스트액이공급된기판을회전시키는기판회전부를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020040079843A
公开(公告)日：2004-09-16
申请号：KR1020040008887
申请日：2004-02-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: PURPOSE: A process liquid supply nozzle is provided to eliminate the process liquid left on the outer circumferential surface of a nozzle by cleaning the entire outer circumferential surface of the nozzle when the process liquid supply nozzle is cleaned. CONSTITUTION: A nozzle is of almost a pipe type having a discharge hole(1a) for discharging the process liquid. A nozzle holder(2) of almost receptacle type has a through hole(2a) through which the nozzle can passes. At least a predetermined cleaning liquid is supplied to a space part formed between the inner circumferential surface of the nozzle holder and the outer circumferential surface of the nozzle. While the discharge hole of the nozzle protrudes from the through hole, the process liquid is discharged from the discharge hole. While the nozzle is received in the nozzle holder, the nozzle holder and the nozzle are so constituted to be capable of moving vertically and relatively so that the nozzle is cleaned by the cleaning liquid.
Abstract translation: 目的：提供一种工艺液体供给喷嘴，用于通过在处理液体供给喷嘴被清洁时清洁喷嘴的整个外周表面来消除留在喷嘴外周表面上的处理液体。 构成：喷嘴几乎是具有用于排出处理液体的排出孔（1a）的管式。 几乎插座型的喷嘴座（2）具有通孔（2a），喷嘴可以穿过该通孔。 至少将预定的清洗液供给到形成在喷嘴保持架的内周面和喷嘴的外周面之间的空间部。 当喷嘴的排出孔从通孔突出时，处理液体从排出孔排出。 当喷嘴被容纳在喷嘴保持器中时，喷嘴保持器和喷嘴被构造成能够垂直和相对移动，使得喷嘴被清洁液体清洁。
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