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公开(公告)号：KR1020170042483A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：KR1020160128877
申请日：2016-10-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C11/08 , B05D1/005 , H01L21/6715
Abstract: 현상의진행량이기판상의위치에따라변동되는것을보다확실하게억제할수 있는방법, 장치및 기록매체를제공한다. 기판처리방법은, 웨이퍼를제1 회전수로회전시켜, 접액면을웨이퍼의표면에대향시킨상태에서, 토출구로부터웨이퍼의표면에현상액을공급하고, 현상액에접액면을접촉시키면서노즐을이동시킴으로써, 웨이퍼의표면상에현상액의액막을형성하는것과, 웨이퍼의표면상에액막이형성된후에, 토출구로부터의현상액의공급이정지된상태에서, 제1 회전수에비해낮은제2 회전수로웨이퍼를회전시키는것과, 제2 회전수로웨이퍼를회전시킨후에, 제1 회전수에비해높은제3 회전수로웨이퍼를회전시키는것과, 제3 회전수로웨이퍼를회전시킨후에, 웨이퍼의회전수를제2 회전수이하로함으로써, 웨이퍼의표면상에액막을유지하는것을포함한다.
Abstract translation: 如何的，可以更可靠地抑制根据衬底上的位置变动的症状进展的量，提供了一种装置和记录介质。 的基板处理方法包括：旋转所述第一旋转时，接触表面的晶片片数，而它相对于晶片的表面，并供给显影溶液从喷出口在晶片的表面上，同时通过接触在显影剂接触表面移动喷嘴，晶片 上表面uipyo haneungeot形成显影剂的液膜，并且形成后的液体膜的晶片的表面上，在显影剂排放口robuteoui固定的供应，和类似物比转时，所述第一数量的旋转下侧的第二晶片旋转数 第二轮晶片的转数，第一为相比于转数，以旋转晶片的高第三旋转数后，之后的晶片3的转数，当晶片国会传输到小于所述第二旋转数，晶片的旋转 并保持液体薄膜在表面上。
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公开(公告)号：KR101586872B1
公开(公告)日：2016-01-19
申请号：KR1020110022023
申请日：2011-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은높은막두께균일성을갖는컬러레지스트막을기판상에형성하는것이가능한레지스트도포장치및 레지스트막형성방법을제공한다. 본발명의실시형태에의한레지스트도포장치는, 기판의중앙부에서의온도보다기판의주변부에서의온도가높아지도록기판의온도를조정하도록구성된기판온도조정부와, 중앙부보다주변부에서온도가높아지도록기판온도조정부에의해온도조정된기판상에컬러레지스트액을공급하는컬러레지스트액공급부와, 컬러레지스트액이공급된기판을회전시키는기판회전부를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170113147A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170034722
申请日：2017-03-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G03F7/3028 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , G03F7/40 , H01L21/0274 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은레지스트막이형성되고, 노광된후의반도체장치제조용기판의면내에있어서레지스트패턴의치수의균일성이높아지도록현상처리를행하는것을과제로한다. 상기기판의표면에현상액을공급하여현상하는현상공정과, 이어서, 상기기판으로부터상기현상액의일부를뿌리쳐제거하기위해, 상기기판이중심축둘레의제1 회전방향으로회전하도록, 그기판의회전수를상승시키는제1 회전공정과, 이어서, 상기기판에잔류하는상기현상액을그 기판으로부터뿌리쳐제거하기위해, 상기기판을상기제1 회전방향과는반대의제2 회전방향으로회전시키는제2 회전공정을실시한다. 그에의해, 기판의면내의각 부에있어서의현상시간이불균일해지는것을막을수 있기때문에, 기판의각 부에균일성높은치수로레지스트패턴을형성할수 있다.
Abstract translation: 发明内容本发明的目的是进行显影处理，从而形成抗蚀剂膜，并且曝光后用于半导体器件制造的基板表面中的抗蚀剂图案的尺寸的均匀性增加。 向所述基板的表面供应显影液并显影所述显影液的显影步骤;以及通过使所述基板围绕所述中心轴在第一旋转方向上旋转来显影所述显影液的显影步骤， 以及第二旋转步骤，在与第一旋转方向相反的第二旋转方向上旋转基板，以从基板去除残留在基板上的显影溶液， 经受处理。 由此，能够防止基板面内的各部分的显影时间不均匀，能够在基板的各部分高度均匀地形成抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：KR1020110119528A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：KR1020110022023
申请日：2011-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: An apparatus for coating a resist, a coating developing system including the same, and a method for coating the resist are provided to form a color resist film with high film thickness uniformity on a substrate. CONSTITUTION: An apparatus for coating a resist(50) includes a substrate temperature adjusting part, a color resist liquid supplying part, and a substrate rotating part. The substrate temperature adjusting part adjusts the temperature of a substrate in order to increase a temperature at the peripheral part of the substrate. The color resist liquid supplying part supplies color resist liquid to the substrate. The substrate rotating part rotates the substrate on which the color resist liquid is supplied.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布抗蚀剂的装置，包括该涂料的涂料显影系统和涂覆该抗蚀剂的方法，以在基材上形成具有高膜厚均匀性的抗蚀剂膜。 构成：用于涂覆抗蚀剂（50）的设备包括基板温度调节部分，抗彩色液体供应部分和基板旋转部分。 衬底温度调节部分调节衬底的温度以增加衬底的周边部分的温度。 彩色抗蚀剂液体供应部分向基片供应彩色抗蚀剂液体。 基板旋转部旋转供给着抗蚀剂液体的基板。
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