公开(公告)号：KR100274149B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019970071609

申请日：1997-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  차한선 ,  김종수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A method for patterning a metal layer is provided to form a metal layer of a uniform width by forming and patterning an anti-reflective layer on the metal layer. CONSTITUTION: A metal layer(4) is formed on a semiconductor substrate(5). The metal layer(4) is formed by one of TiW, Al, W, W-Si, Cr, and Ml. An anti-reflective oxide layer(6) and an anti-reflective metal layer(7) are formed sequentially on the metal layer(4). A photoresist(2) is applied on the anti-reflective metal layer(7). A photolithography process is performed. The anti-reflective oxide layer(6) has a thickness of 850 to 1050 angstroms. The anti-reflective oxide layer(7) has a thickness of 20 to 220 angstroms.

Abstract translation: 目的：提供图形化金属层的方法，以通过在金属层上形成和图案化抗反射层来形成均匀宽度的金属层。 构成：在半导体衬底（5）上形成金属层（4）。 金属层（4）由TiW，Al，W，W-Si，Cr和M1中的一种形成。 在金属层（4）上依次形成抗反射氧化物层（6）和抗反射金属层（7）。 在抗反射金属层（7）上施加光致抗蚀剂（2）。 进行光刻处理。 抗反射氧化物层（6）的厚度为850〜1050。 抗反射氧化物层（7）的厚度为20至220埃。

公开(公告)号：KR100261266B1

公开(公告)日：2000-07-01

申请号：KR1019970054787

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B6/27

Abstract: PURPOSE: A polarization optical splitter using an amorphous fluoric resin adhesive and a method of fabricating the same are provided by which the polarization optical splitter that places an image zone and an object zone at different locations is formed using an adhesive that is transparent at 193nm and has endurance for light irradiated on the adhesive for a long period of time. CONSTITUTION: Multi-level dielectric thin films(16,17) formed of transparent materials are coated on the sloped face of one of a pair of prisms(4,8). The thin films includes a material having a high refractive index and a material having a low refractive index. The multi-level dielectric thin films and the sloped face of the other prism are attached to each other using an amorphous fluoric resin adhesive(21), to fabricate a polarization optical splitter. The adhesive having a refractive index of 1.1 to 2.0, and transmissivity of 90% per 1cm.

Abstract translation: 目的：提供使用非晶态氟树脂粘合剂的偏振光分路器及其制造方法，通过该偏光分光器，使用193nm透明的粘合剂形成在不同位置放置图像区域和对象区域的偏振光分路器， 具有长时间照射在粘合剂上的光的耐久性。 构成：由透明材料形成的多层电介质薄膜（16,17）涂覆在一对棱镜（4,8）之一的倾斜面上。 薄膜包括具有高折射率的材料和具有低折射率的材料。 使用非晶态氟树脂粘合剂（21）将多层电介质薄膜和另一棱镜的倾斜面彼此附接，以制造偏振分光器。 折射率为1.1〜2.0，透光率为1％的透光率为90％。

公开(公告)号：KR1020000001435A

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A refraction optical system is capable of easily producing a needed wavelength by use of a polarization effect removing panel without affecting a pattern formation instead of 1/4 wavelength panel or 1/2 wavelength panel. CONSTITUTION: The refraction optical system comprises: a reticle(1) having a pattern to be illuminated; a first lens(2) for correcting a difference between rays of light through the reticle; a first rectangular prism(5) for receiving the corrected ray of light by the first lens; a dielectric multi thin film layer(6) for refracting a S-waveform and passing a P-waveform, wherein the dielectric multi thin film layer is comprised of a high refraction material and a low refraction material deposited in turn; a 1/4 wavelength panel(4) for receiving the S-waveform refracted by the dielectric multi thin film layer, producing a phase difference between a normal ray of light and an abnormal ray of light, and changing the S-waveform to a circular polarized light, wherein the 1/4 wavelength panel produces a phase difference between a normal ray of light of the polarized light and an abnormal ray of light thereof, and then changes the polarized light to the P-waveform; a reflector(3) for refracting the polarized light through the 1/4 wavelength panel to re-receiving the light thus refracted to the 1/4 wavelength panel; a second rectangular prism(7) for receiving the P-waveform to the first rectangular prism and the dielectric multi thin film layer; a second lens(8) for receiving the P-waveform through the second rectangular prism; and a polarization effect removing panel(9) for making the polarization of light through the second lens irregular, and for illuminating the light to the wafer.

Abstract translation: 目的：折射光学系统能够通过使用偏振效果去除面板而容易地产生所需的波长，而不影响图案形成而不是1/4波长面板或1/2波长面板。 构成：折射光学系统包括：具有待照明图案的掩模版（1）; 用于校正通过所述掩模版的光线之间的差异的第一透镜（2） 第一矩形棱镜（5），用于通过第一透镜接收经校正的光线; 用于折射S波形并通过P波形的电介质多层薄膜层（6），其中介电多层薄膜层依次沉积高折射材料和低折射材料; 用于接收由电介质多层薄膜层折射的S波形的1/4波长面板（4），产生正常光线和异常光线之间的相位差，并将S波形改变为圆形 偏振光，其中1/4波长面板产生偏振光的正常光线和其异常光线之间的相位差，然后将偏振光改变为P波形; 反射器（3），用于折射通过1/4波长面板的偏振光，以重新接收由此折射到1/4波长面板的光; 用于将P波形接收到第一矩形棱镜和电介质多薄膜层的第二矩形棱镜（7）; 用于通过第二矩形棱镜接收P波形的第二透镜（8）; 以及用于使通过第二透镜的光的偏振不均匀并用于将光照射到晶片的偏振效应去除面板（9）。

公开(公告)号：KR100276688B1

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019980052528

申请日：1998-12-02

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  차한선 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 노광장비용 조리개 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 반도체 및 디스플레이 소자를 제작하는 노광장비의 오프-액시스형 변형조명에 사용되는 조리개에 있어서, 상기 조리개의 중앙부위는 광 투과도가 0이 되도록 하고, 중앙부위를 제외한 상기 조리개의 가장자리에 형성되는 4개의 극 부분은 광 투과도가 100 % 되게 하고, 그 이외의 조리개 부위는 광 투과도가 3 ~ 40 % 되도록 형성되며, 조리개의 중앙 부위로 투과되는 광을 차단하되 그 이외의 부위를 선택적으로 차단, 조절하여 광 투과도를 증가시킬 수 있는 노광장비용 조리개 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다

公开(公告)号：KR1019990033430A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970054787

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 ,  유형준

IPC: G02B6/27

Abstract: 본 발명은 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 이용한 미세 패턴 노광 장비의 광학계에 소요되는 S-파는 반사시키고, P-파는 투과시키는 편광 광 분할기와 그 제작방법에 관한 것이다. 편광 광 분할기는 직각프리즘 2개와 유전체 다층 박막층, 접착층으로 구성되는 데, 기존의 박막물질들은 193nm에서 흡수가 커서 투과율이 떨어지고, 접착제는 193nm 파장에서 흡수율이 높거나 장시간의 조사에 의해서 변성을 일으키므로 사용이 불가능하다. 따라서 본 발명에서는 프리즘 재료로 193nm에서 내부 투과율이 1센티미터당 99% 이상인 용융 석영을 이용하였으며, 유전체 박막 물질은 소멸 계수가 0.01 이하인 물질을 이용하였다. 특히 접착제로 기존의 가시광선 영역에서 사용하던 에폭시 수지의 경우 ArF 엑시머 레이저를 조사할 경우 막이 상해서 사용이 불가능하게 된다. 따라서 193nm 파장 영역에서 흡수가 적고, 장시간의 조사에 의해서 변형이 생기지 않는 새로운 접착제를 사용하고, 이러한 접착제를 사용할 때 프리즘 재료와의 굴절률 차이를 보상해 줄 수 있는 편광 광 분할기와 그 제작방법을 제안하고 있다.

公开(公告)号：KR1019990033429A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970054786

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  유형준 ,  이각현 ,  김도훈

IPC: G02B1/10 ,  G02B5/04 ,  G02B27/28

Abstract: 본 발명은 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 이용한 미세 패턴 노광 장비의 광학계에 소요되는 S-파는 반사시키고, P-파는 투과시키는 편광 광 분할기와 그 제작방법에 관한 것이다. 본 광학계에서는 미세패턴을 형성시키기 위한 조명광으로 ArF 엑시머 레이저를 사용하는 외에 웨이퍼, 광학계, 레티클을 서로 정렬시키기 위한 정렬용 Ar 레이저가 동시에 이용되고 있다. Ar 엑시머 레이져의 출력파장인 193nm에서는 기존에 사용하던 박막물질은 흡수 계수가 커서 불투명하므로 사용이 불가능하다. 또한, 일반적으로 이 발명에서와 같이 ArF 엑시머 레이저 출력 파장과 정렬광인 Ar 레이저 출력 파장에서 동시에 광 분할기의 성능을 갖도록 하는 것은 어렵다고 알려져 있다. 본 발명에서는 193nm에서 흡수가 적은 유전체 물질을 사용하여 한쪽 프리즘의 빗면에 굴절률이 높은 물질과 낮은 물질을 교대로 층착하되, 그 층수와 두께를 조절하여 다층 코팅한 후, 두 프리즘의 빗면을 옵티칼 콘택트(optical contact)에 의해 부착시키는 방법을 이용하여 두 파장용 편광 광 분할기 성능을 갖는 광학 부품을 제작하는 방법과 그 분할기를 제안하고 있다.

公开(公告)号：KR100270583B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 미세패턴 형성장비의 반사굴절 광학계에 사용되는 편극 영향 제거판에 관한 것이다.
종래의 경우에는 웨이퍼면에 도달하는 빛의 선편광된 편극을 없애주기 위하여 이상 광선과 정상 광선 사이의 위상차를 90도 발생시켜 원편광을 만들어주는 1/4 파장판을 사용하거나, 원하는 방향의 편극을 만들어 주기 위하여 위상을 180도 발생시키는 1/2 파장판을 사용하였다. 그런데, 이러한 파장판은 사용 파장과 물질의 굴절률에 의해서 결정되는 두께로 정확히 가공해야 하므로 제작이 어렵다. 또한, 파장판의 가공을 쉽게 하기 위해서 차수를 높이면 두께가 두꺼워져서 입사각이 커지면 효율이 떨어지는 단점이 있다.
본 발명에서는 편극 영향 제거판을 통과하면 입사각에 따른 편극이 제각기 달라져 불규칙하게 되는 것을 이용하여 프리즘과 상면(웨이퍼) 사이에 편극 영향 제거판을 위치시켜 선편광된 광의 편극 영향을 제거하므로써 패턴의 모양에 따른 선폭 변화가 없도록 할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990052160A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970071609

申请日：1997-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  차한선 ,  김종수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 균일한 폭을 가지는 금속막의 패터닝 방법을 제공한다.
본 발명은 단차를 가지는 금속배선 형성용 금속막상에 반사방지막으로서 산화막과 금속막을 적층하고, 금속막상에 포토레지스트를 도포한 상태에서 노광공정을 수행하여, 포토 레지스트 패턴을 형성한 후, 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 이용하여 금속막을 패터닝한다.
본 발명은 금속막상에 반사 방지막을 형성하고 포토리소그래피 공정을 수행하는 것에 의해 균일한 폭을 가지는 금속배선을 형성할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990051290A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970070578

申请日：1997-12-19

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김종수 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: G02B1/00

Abstract: 본 발명은 광 투과율이 적고 광 반사율이 커서, 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 사용한 광학계에 적용 가능한 만진 미러를 제공하고자 하는 것으로, 이를 위한 본 발명의 만진 미러는 투명기판; 상기 투명기판 상에 형성되고, 고굴절률 박막 및 저굴절율 박막이 교대로 반복 적층되며 최하부 및 최상부 층에 고굴절률 박막을 갖는 적층 박막; 및 상기 적층 박막상에 형성되어, 상기 적층 박막을 통과한 광을 흡수하는 박막을 포함하여 이루어진다.

公开(公告)号：KR100276081B1

公开(公告)日：2001-02-01

申请号：KR1019970054786

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  유형준 ,  이각현 ,  김도훈

IPC: G02B1/10 ,  G02B5/04 ,  G02B27/28

Abstract: PURPOSE: A polarizing beam splitter for two wavelengths and a method for fabricating the same are provided to reflect a S-wave and transmit a P-wave by depositing alternately a material having a high refractive index and a material having a low refractive index on an inclined plane of a prism. CONSTITUTION: A reticle(1) is used for receiving an ArF excimer laser with a wavelength of 193nm. A couple of rectangular prism(4,8) is used for transmitting the ArF excimer laser through the reticle(1). A multi-coating layer(5) is formed on each inclined plane of the rectangular prisms(4,8). A plurality of 1/4 wavelength plate(6,9) is used for changing a wavelength of the laser beam reflected by the multi-coating layer(5). A reflective mirror(7) is used for reflecting the laser beam transmitting the 1/4 wavelength plate(6). The laser beam reflected by the reflective mirror(7) is focused on a wafer(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于两个波长的偏振分束器及其制造方法，用于反射S波并通过将具有高折射率的材料和具有低折射率的材料交替沉积在 棱镜的倾斜平面。 构成：将掩模版（1）用于接收波长为193nm的ArF准分子激光器。 一对矩形棱镜（4,8）用于通过光罩（1）传送ArF准分子激光器。 在矩形棱镜（4,8）的每个倾斜平面上形成多层涂层（5）。 多个1/4波长板（6,9）用于改变由多层涂层（5）反射的激光束的波长。 反射镜（7）用于反射透射1/4波长板（6）的激光束。 由反射镜（7）反射的激光束聚焦在晶片（10）上。