4.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE112005003308T5

    公开(公告)日:2008-03-20

    申请号:DE112005003308

    申请日:2005-12-28

    Applicant: CORNING INC

    Abstract: Disclosed are high purity synthetic silica glass material having a high OH concentration homogeneity in a plane perpendicular to the optical axis, and process of making the same. The glass has high refractive index homogeneity. The glass can have high internal transmission of at least 99.65%/cm at 193 nm. The process does not require a post-sintering homogenization step. The controlling factors for high compositional homogeneity, thus high refractive index homogeneity, include high initial local soot density uniformity in the soot preform and slow sintering, notably isothermal treatment during consolidation.

    GLAS MIT GERINGER WÄRMEAUSDEHNUNG FÜR EUVL-ANWENDUNGEN

    公开(公告)号:DE102010039779A1

    公开(公告)日:2011-03-24

    申请号:DE102010039779

    申请日:2010-08-25

    Applicant: CORNING INC

    Abstract: Ein Glas mit geringer Wärmeausdehnung schließt ein Glasgrundmaterial mit einer Vorderseite, einer Rückseite und einer Dicke und ein Glasbeschichtungsmaterial, das wenigstens auf die Vorderseite des Glasgrundmaterials aufgebracht ist, ein. Das Glasgrundmaterial besteht im Wesentlichen aus 10 Gew.-% bis 20 Gew.-% Titandioxid und 80 Gew.-% bis 90 Gew.-% Siliziumdioxid. Das Glasbeschichtungsmaterial besteht auch im Wesentlichen aus Titandioxid und Siliziumdioxid, die Gesamtmenge an Titandioxid im Glasbeschichtungsmaterial ist jedoch kleiner als die Gesamtmenge an Titandioxid im Glasgrundmaterial. Ein Siliziumdioxid-Titandioxid-Glaselement, das für Lithographie-Anwendungen im extremen Ultraviolett geeignet ist, besteht aus 12 Gew.-% bis 20 Gew.-% Titandioxid und 80 Gew.-% bis 88 Gew.-% Siliziumdioxid und weist einen Wärmeausdehnungskoeffizienten von im Wesentlichen 0 &Dgr;L/L in einem Temperaturbereich von -20°C bis +100°C auf.

    7.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102005062916A1

    公开(公告)日:2006-07-27

    申请号:DE102005062916

    申请日:2005-12-29

    Applicant: CORNING INC

    Abstract: Disclosed are high purity synthetic silica material having an internal transmission at 193 nm of at least 99.65%/cm and method of preparing such material. The material is also featured by a high compositional homogeneity in a plane transverse to the intended optical axis. The soot-to-glass process for making the material includes a step of consolidating the soot preform in the presence of H2O and/or O2.

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