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    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung
    2.
    发明专利
    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112013000696B4

    公开(公告)日：2018-08-02

    申请号：DE112013000696

    申请日：2013-02-15

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OMINAMI YUSUKE ,  OHSHIMA TAKASHI ,  ITO HIROYUKI ,  SATO MITSUGU ,  ITO SUKEHIRO

    IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16

    Abstract: Ladungsteilchenstrahlvorrichtung miteiner Ladungsteilchenquelle, die einen Ladungsteilchenstrahl emittiert;einem optischen System für die Ladungsteilchen, das den Ladungsteilchenstrahl fokussiert und eine optische Achse definiert;einem Linsentubus zur Aufnahme der Ladungsteilchenquelle und des optischen Systems für die Ladungsteilchen;einem ersten Gehäuse, das mit dem Linsentubus verbunden ist und in das der Ladungsteilchenstrahl emittiert wird;einem zweiten Gehäuse, das an einer Öffnung im ersten Gehäuse in das erste Gehäuse zurückspringt;einer ersten Membran, die in der optischen Achse angeordnet ist und die den Raum innerhalb des Linsentubus von dem Raum innerhalb des ersten Gehäuses trennt und durch die der Ladungsteilchenstrahl verläuft; und miteiner zweiten Membran, die in der optischen Achse angeordnet ist und die die Räume innerhalb und außerhalb des zurückspringenden Abschnitts des zweiten Gehäuses voneinander trennt und durch die der Ladungsteilchenstrahl verläuft,wobei der Raum, der vom ersten Gehäuse und vom zweiten Gehäuse umgeben ist, in einen Vakuumzustand gebracht wird und eine innerhalb des zurückspringenden Abschnitts des zweiten Gehäuses angeordnete Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird, der die erste Membran und die zweite Membran durchsetzt hat.

    ANGEWENDETE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG UND ELEKTRONENSTRAHL-ERZEUGUNGSVERFAHREN
    4.
    发明专利
    ANGEWENDETE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG UND ELEKTRONENSTRAHL-ERZEUGUNGSVERFAHREN 未知

    公开(公告)号：DE112022006788T5

    公开(公告)日：2025-01-23

    申请号：DE112022006788

    申请日：2022-06-03

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  IDE TATSURO ,  MORISHITA HIDEO ,  TAKANE DAICHI ,  OSE YOICHI ,  KATANE JUNICHI

    IPC: H01J37/26 ,  H01J37/06 ,  H01J37/073

    Abstract: Um die Leuchtdichte eines von einer Photokathode, die einen photoelektrischen Film aufweist, emittierten Elektronenstrahls zu erhöhen, wird zweites gepulstes Licht, dessen Wellenlänge größer ist als jene ersten gepulsten Lichts, zusätzlich zum ersten gepulsten Licht auf die Photokathode eingestrahlt. Gemäß einem Aspekt einer angewendeten Elektronenstrahlvorrichtung weist diese eine Photokathode 1, eine erste gepulste Lichtquelle 7, die ausgelegt ist, erstes gepulstes Licht zu emittieren, eine zweite gepulste Lichtquelle 8, die ausgelegt ist, zweites gepulstes Licht mit einer ringförmigen Intensitätsverteilung zu emittieren, ein optisches System 21 für Anregungslicht, das ausgelegt ist, das erste gepulste Licht und das zweite gepulste Licht so zu emittieren, dass der optische Weg des ersten gepulsten Lichts und der optische Weg des zweiten gepulsten Lichts kombiniert werden, eine Sammellinse 2, die ausgelegt ist, auf der Photokathode das erste gepulste Licht und das zweite gepulste Licht, die vom optischen System für Anregungslicht emittiert wurden, zu fokussieren, und ein elektronenoptisches System, das ausgelegt ist, eine Probe 20 mit dem von der Photokathode emittierten Elektronenstrahl zu bestrahlen, auf.

    ELEKTRONENQUELLE UND DIESE VERWENDENDE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG
    5.
    发明专利
    ELEKTRONENQUELLE UND DIESE VERWENDENDE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG 未知

    公开(公告)号：DE112017006569T5

    公开(公告)日：2019-09-26

    申请号：DE112017006569

    申请日：2017-12-08

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： KUSUNOKI TOSHIAKI ,  KASUYA KEIGO ,  OHSHIMA TAKASHI ,  HASHIZUME TOMIHIRO ,  ARAI NORIAKI ,  OSE YOICHI

    IPC: H01J1/15 ,  H01J1/16 ,  H01J9/04 ,  H01J37/06

    Abstract: Es wird eine Elektronenquelle bereitgestellt, die auch bei Verwendung von Hexaborid lange Zeit stabil genutzt werden kann, und eine Elektronenstrahlvorrichtung, die diese Elektronenquelle verwendet.Die Erfindung betrifft eine Elektronenquelle, umfassend ein Filament 103 aus einem Metall, ein Metallrohr 112, das an das Filament 103 befestigt ist und eine Vielzahl von Vertiefungen 117 aufweist, die mindestens in zwei axialen Richtungen derart auf einem Außenumfang angeordnet sind, dass sie eine Mittelachse umgeben, und eine säulenförmige Hexaboridspitze 104, die Elektronen emittiert, derart angeordnet ist, dass sie vom Inneren des Metallrohrs 112 zu einer dem Filament 103 entgegengesetzten Seite vorspringt, und mit einem Boden jeder der Vertiefungen 117 des Metallrohrs 112 in Kontakt ist.

    Elektronenmikroskop
    6.
    发明专利
    Elektronenmikroskop 未知

    公开(公告)号：DE112016006486T5

    公开(公告)日：2018-11-08

    申请号：DE112016006486

    申请日：2016-03-29

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  MINEMURA HIROYUKI ,  ANZAI YUMIKO ,  ENYAMA MOMOYO ,  OSE YOICHI ,  AGEMURA TOSHIHIDE

    IPC: H01J37/073

    Abstract: Es wird ein Elektronenmikroskop bereitgestellt, das zur Durchführung eines Umschaltvorgangs zwischen einer normalen Belichtung und einer ringförmigen Belichtung, einer Großflächenbelichtung, einem Interferenzmuster und dergleichen in rascher und einfacher Weise befähigt ist oder mit dem ein besseres S/N-Verhältnis erreicht werden kann. Das Elektronenmikroskop umfasst Folgendes: eine Photokathode 101 mit negativer Elektronenaffinität bei der Anwendung; ein optisches Anregungssystem zur Anregung der Photokathode; und ein Elektronenoptiksystem zur Bestrahlung einer Probe mit einem Elektronenstrahl 13, der aus der Photokathode durch Anregungslicht 12, das durch das optische Anregungssystem geführt worden ist, erzeugt worden ist; wobei das optische Anregungssystem eine Lichtquellenvorrichtung 107 für das Anregungslicht; und eine optische Modulationseinrichtung 108, die im optischen Lichtweg des Anregungslichts angeordnet ist, um eine räumliche Phasenmodulation am Anregungslicht vorzunehmen, umfasst.

    Ladungsteilchendetektor, Ladungsteilchenstrahlvorrichtung und Massenspektrometer
    8.
    发明专利
    Ladungsteilchendetektor, Ladungsteilchenstrahlvorrichtung und Massenspektrometer 未知

    公开(公告)号：DE112017000260T5

    公开(公告)日：2018-09-20

    申请号：DE112017000260

    申请日：2017-01-25

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： IMAMURA SHIN ,  OHSHIMA TAKASHI ,  TSUCHIYA TOMONOBU ,  KAWANO HAJIME ,  SUZUKI MAKOTO

    IPC: H01J37/244 ,  G01T1/202

    Abstract: Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, einen Ladungsteilchendetektor und eine Ladungsteilchenstrahlvorrichtung zu schaffen, mit denen es möglich ist, einen hoch leuchtenden Ausgang zu erlangen, während geladene Teilchen, die auf einen Szintillator einfallen, schnell beseitigt werden. Um die Aufgabe zu lösen, schlägt die vorliegende Erfindung Folgendes vor: einen Ladungsteilchendetektor, der mit einer lichtemittierenden Einheit (1) versehen ist, die eine geschichtete Struktur enthält, die durch Schichten einer Schicht (21), die GaInN enthält, und einer GaN-Schicht (22) erhalten wird und auf der Seite einer Einfallsfläche für geladene Teilchen der geschichteten Struktur mit einer leitfähigen Schicht (2) versehen ist, die sich mit der Schicht, die GaInN enthält, in Kontakt befindet; und eine Ladungsteilchenstrahlvorrichtung.

    MIT EINEM STRAHL GELADENER TEILCHEN ARBEITENDE VORRICHTUNG
    9.
    发明专利
    MIT EINEM STRAHL GELADENER TEILCHEN ARBEITENDE VORRICHTUNG 未知

    公开(公告)号：DE112015004746T5

    公开(公告)日：2017-08-10

    申请号：DE112015004746

    申请日：2015-11-26

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OKUMURA TAIGA ,  OHSHIMA TAKASHI ,  SHOUJI MINAMI ,  HISADA AKIKO ,  OOMINAMI YUUSUKE ,  YONEYAMA AKIO

    IPC: H01J37/20 ,  G01N23/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

    Abstract: Ein Elektronenmikroskop hat verglichen mit einem optischen Mikroskop eine große Fokustiefe. Demgemäß werden Informationen in Tiefenrichtung in einem Bild überlagert. Demgemäß erfordert eine Betrachtung einer dreidimensionalen Struktur innerhalb einer Probe unter Verwendung des Elektronenmikroskops eine genaue Spezifikation der dreidimensionalen Position oder Dichte einer Struktur innerhalb der Probe. Ferner kann die mit dem optischen Mikroskop betrachtete Probe auf einem Objektträgerglas im Stand der Technik nicht in eine TEM-Vorrichtung gegeben werden. Demgemäß ist eine sehr komplizierte Präparation der Probe für eine Betrachtung einer dreidimensionalen inneren Struktur mit dem Elektronenmikroskop an einer mit dem optischen Mikroskop betrachteten Stelle erforderlich. Vorgesehen ist eine mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung, welche Folgendes aufweist: eine optische Säule für geladene Teilchen, welche eine Probe mit einem Strahl primärer geladener Teilchen bestrahlt, und eine Probenträger-Dreheinheit, welche in der Lage ist, den Probenträger in einem Zustand zu drehen, in dem ein Winkel außerhalb der Senkrechten zwischen der Oberfläche des Probenträgers und der optischen Achse des Strahls primärer geladener Teilchen gebildet ist, wobei der Probenträger so ausgelegt ist, dass er ein Detektierelement aufweist, welches in der Probe gestreute oder von der Probe durchgelassene geladene Teilchen detektiert, und wobei durch durchgelassene geladene Teilchen erzeugte Bilder der Probe entsprechend jedem Winkel durch Bestrahlen der Probe erhalten werden, während die Probenträger-Dreheinheit um mehrere verschiedene Winkel gedreht wird.

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