中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

36 records (took 0.025 seconds)

    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung
    2.
    发明专利
    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112013000696B4

    公开(公告)日：2018-08-02

    申请号：DE112013000696

    申请日：2013-02-15

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OMINAMI YUSUKE ,  OHSHIMA TAKASHI ,  ITO HIROYUKI ,  SATO MITSUGU ,  ITO SUKEHIRO

    IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16

    Abstract: Ladungsteilchenstrahlvorrichtung miteiner Ladungsteilchenquelle, die einen Ladungsteilchenstrahl emittiert;einem optischen System für die Ladungsteilchen, das den Ladungsteilchenstrahl fokussiert und eine optische Achse definiert;einem Linsentubus zur Aufnahme der Ladungsteilchenquelle und des optischen Systems für die Ladungsteilchen;einem ersten Gehäuse, das mit dem Linsentubus verbunden ist und in das der Ladungsteilchenstrahl emittiert wird;einem zweiten Gehäuse, das an einer Öffnung im ersten Gehäuse in das erste Gehäuse zurückspringt;einer ersten Membran, die in der optischen Achse angeordnet ist und die den Raum innerhalb des Linsentubus von dem Raum innerhalb des ersten Gehäuses trennt und durch die der Ladungsteilchenstrahl verläuft; und miteiner zweiten Membran, die in der optischen Achse angeordnet ist und die die Räume innerhalb und außerhalb des zurückspringenden Abschnitts des zweiten Gehäuses voneinander trennt und durch die der Ladungsteilchenstrahl verläuft,wobei der Raum, der vom ersten Gehäuse und vom zweiten Gehäuse umgeben ist, in einen Vakuumzustand gebracht wird und eine innerhalb des zurückspringenden Abschnitts des zweiten Gehäuses angeordnete Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird, der die erste Membran und die zweite Membran durchsetzt hat.

    ELEKTRONENKANONE UND ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG
    4.
    发明专利
    ELEKTRONENKANONE UND ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG 未知

    公开(公告)号：DE112019007690T5

    公开(公告)日：2022-07-07

    申请号：DE112019007690

    申请日：2019-10-31

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  MORISHITA HIDEO ,  IDE TATSURO ,  KOHMU NAOHIRO ,  ENYAMA MOMOYO ,  OSE YOICHI ,  AGEMURA TOSHIHIDE ,  KATANE JUNICHI

    IPC: H01J1/34 ,  H01J3/07 ,  H01J37/073 ,  H01J37/147 ,  H01J37/285

    Abstract: Es wird ein von einer photoangeregten Elektronenkanone emittierter Elektronenstrahl mit erhöhter Leuchtdichte bereitgestellt. Eine Elektronenkanone 15 umfasst: eine Photokathode 1 mit einem Substrat 11 und einer photoelektrischen Dünnschicht 10; eine Lichtquelle 7, die gepulstes Anregungslicht emittiert; eine Sammellinse 2, die das gepulste Anregungslicht zur Photokathode fokussiert; und eine Extraktionselektrode 3, die der Photokathode gegenüberliegt und die einen Elektronenstrahl beschleunigt, der durch die photoelektrische Dünnschicht erzeugt wird, indem das gepulste Anregungslicht durch die Sammellinse fokussiert wird, das Substrat der Photokathode durchläuft und auf die Photokathode einfällt. Das gepulste Anregungslicht wird an verschiedenen Zeitpunkten an verschiedenen Positionen auf der photoelektrischen Dünnschicht der Photokathode fokussiert.

    Vorrichtung mit geladenem Teilchenstrahl und Verfahren zum Steuern der Vorrichtung
    5.
    发明专利
    Vorrichtung mit geladenem Teilchenstrahl und Verfahren zum Steuern der Vorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112009001537B4

    公开(公告)日：2018-10-18

    申请号：DE112009001537

    申请日：2009-06-10

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： KASUYA KEIGO ,  OHSHIMA TAKASHI ,  KATAGIRI SOUICHI ,  KOKUBO SHIGERU ,  TODOKORO HIDEO

    IPC: H01J37/073 ,  H01J1/304 ,  H01J37/06

    Abstract: Vorrichtung mit einem geladenen Teilchenstrahl mit einer Feldemissions-Elektronenquelle (4) und einer Elektrode (11) zum Anlegen eines elektrischen Feldes an die Feldemissions-Elektronenquelle, wobei die Vorrichtung umfaßteine Vakuum-Abpumpeinheit (20, 23) zum Aufrechterhalten eines Drucks um die Feldemissions-Elektronenquelle von weniger als 1 × 10Pa,eine Heizeinheit (16) für die Feldemissions-Elektronenquelle undeine Steuereinheit (17) zum Steuern der Heizeinheit,wobei von den von der Feldemissions-Elektronenquelle emittierten Elektronenstrahlen ein Elektronenstrahl mit einem zentralen Abstrahlwinkel innerhalb von 1×10sr verwendet wird, undwobei die Steuereinheit dazu ausgelegt ist, die Heizeinheit derart zu steuern, dass sie die Feldemissions-Elektronenquelle heizt, wenn die zweite Ableitung des Stromes des Elektronenstrahls nach der Zeit nach einer Schnellverdampfung an der Feldemissions-Elektronenquelle negativ oder Null ist.

    Vorrichtung zum Bestrahlen mit geladenen Teilchen
    6.
    发明专利
    Vorrichtung zum Bestrahlen mit geladenen Teilchen 未知

    公开(公告)号：DE112010005188B4

    公开(公告)日：2016-04-07

    申请号：DE112010005188

    申请日：2010-08-11

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： HATANO MICHIO ,  WATANABE YASUKO ,  SATO MITSUGU ,  HONDA HIROYUKI ,  SAWAHATA TETSUYA ,  ITO SUKEHIRO ,  OHSHIMA TAKASHI

    IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28

    Abstract: Vorrichtung zum Bestrahlen mit geladenen Teilchen, mit einer Quelle (15) für geladene Teilchen, die geladene Primärteilchen (3) als Sonde erzeugt, mit einem optischen System (13) für die geladenen Primärteilchen (3), mit einem Probentisch (49) für die Aufnahme einer Probe (50), mit einem Vakuumpumpsystem, mit einer Blende (24) zum Begrenzen der Sonde, mit einer leitenden Schicht (1; 43; 31; 39; 46), und mit einem Detektor (2; 27; 34; 41) zum Erfassen geladener Sekundärteilchen, die durch Auftreffen der als Sonde dienenden geladenen Primärteilchen (3) auf die Probe (50) entstehen, wobei die leitende Schicht (1; 43; 31; 39; 46) an einer Stelle außerhalb der optischen Achse des optischen Systems (13) zwischen dem Probentisch (49) und der Blende (24) angeordnet ist, wobei der Abstand zwischen der Erfassungsfläche (9) des Detektors (2; 27; 34; 41) für geladene Teilchen und dem Probentisch (49) größer ist als der Abstand zwischen dem Probentisch (49) und der leitenden Schicht (1; 43; 31; 39; 46), dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche der leitenden Schicht (1; 43; 31; 39; 46) und die Erfassungsfläche (9) des Detektors (2; 27; 34; 41) zueinander geneigt sind, und die Dicke der leitenden Schicht (1; 43; 31; 39; 46) so bemessen ist, dass die geladenen Sekundärteilchen (6), die an der von der Probe (50) abgewandten Seite der leitenden Schicht (1; 43; 31; 39; 46) erzeugt werden, und deren Energien innerhalb eines gewünschten Energiebands liegen, vom Detektor ...

    Elektronenquelle vom elektrischen Feldentladungstyp
    7.
    发明专利
    Elektronenquelle vom elektrischen Feldentladungstyp 未知

    公开(公告)号：DE112012003268T5

    公开(公告)日：2014-06-05

    申请号：DE112012003268

    申请日：2012-09-24

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： ITO SUKEHIRO ,  KATAGIRI SOUICHI ,  OHSHIMA TAKASHI

    IPC: H01J1/304 ,  H01J37/06 ,  H01J37/073

    Abstract: Das Erhöhen des Volumens oder Gewichts von Zirconiumdioxid als Diffusions- und Versorgungsquelle zum Verlängern der Lebensdauer einer Elektronenquelle vom Feldemissionstyp führt zu dem Problem, daß die Diffusions- und Versorgungsquelle oder die Wolframnadel dabei leicht Schaden nimmt. Wenn die Diffusions- und Versorgungsquelle zur Vermeidung dieses Problems als dünne Schicht ausgebildet wird, kann keine Lebensdauer mehr erhalten werden, die 8000 Stunden und mehr beträgt. Es wurde festgestellt, daß mit einer geringen Erhöhung der Menge für die Diffusions- und Versorgungsquelle eine Elektronenquelle vom Feldemissionstyp erhalten werden kann, bei der in der Diffusions- und Versorgungsquelle keine Risse und Abblätterungen auftreten und bei der die Lebensdauer 8000 Stunden und mehr beträgt.

    Elektronenstrahlvorrichtung
    8.
    发明专利
    Elektronenstrahlvorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112011102731T5

    公开(公告)日：2013-08-22

    申请号：DE112011102731

    申请日：2011-07-07

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： HATANO MICHIO ,  MORISHITA HIDEO ,  OHSHIMA TAKASHI

    IPC: H01J37/20 ,  H01J37/04 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

    Abstract: Die vorliegende Erfindung schafft eine Elektronenstrahlvorrichtung mit Mitteln zum Visualisieren einer axialen Verlagerung eines verzögernden elektrischen Feldes und Mitteln zum Einstellen der axialen Verlagerung. Die Axialverlagerungs-Visualisierungsmittel enthalten eine reflektierende Platte (6) und ein optisches System (2, 3), um einen Sekundärelektronenstrahl (9) auf der reflektierenden Platte (6) zu konvergieren, während die Axialverlagerungs-Einstellmittel einen Neigungs- und Drehungs-Mechanismus (8) für eine Probenbühne (5) enthalten. Mit dieser Konfiguration können in einer Elektronenstrahlvorrichtung wie etwa einem SEM und dergleichen Probleme wie etwa eine Gesichtsfeldverlagerung, die durch die Verlagerung der axialen Symmetrie zwischen dem elektrischen Feld zwischen der Objektivlinse (3) und einer Probe (4) verursacht wird, und das Unvermögen, Sekundärelektronen und reflektierte Elektronen, die erwünschte Informationen bereitstellen, zu messen, vermieden werden.

    ANGEWENDETE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG UND ELEKTRONENSTRAHL-ERZEUGUNGSVERFAHREN
    9.
    发明专利
    ANGEWENDETE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG UND ELEKTRONENSTRAHL-ERZEUGUNGSVERFAHREN 未知

    公开(公告)号：DE112022006788T5

    公开(公告)日：2025-01-23

    申请号：DE112022006788

    申请日：2022-06-03

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  IDE TATSURO ,  MORISHITA HIDEO ,  TAKANE DAICHI ,  OSE YOICHI ,  KATANE JUNICHI

    IPC: H01J37/26 ,  H01J37/06 ,  H01J37/073

    Abstract: Um die Leuchtdichte eines von einer Photokathode, die einen photoelektrischen Film aufweist, emittierten Elektronenstrahls zu erhöhen, wird zweites gepulstes Licht, dessen Wellenlänge größer ist als jene ersten gepulsten Lichts, zusätzlich zum ersten gepulsten Licht auf die Photokathode eingestrahlt. Gemäß einem Aspekt einer angewendeten Elektronenstrahlvorrichtung weist diese eine Photokathode 1, eine erste gepulste Lichtquelle 7, die ausgelegt ist, erstes gepulstes Licht zu emittieren, eine zweite gepulste Lichtquelle 8, die ausgelegt ist, zweites gepulstes Licht mit einer ringförmigen Intensitätsverteilung zu emittieren, ein optisches System 21 für Anregungslicht, das ausgelegt ist, das erste gepulste Licht und das zweite gepulste Licht so zu emittieren, dass der optische Weg des ersten gepulsten Lichts und der optische Weg des zweiten gepulsten Lichts kombiniert werden, eine Sammellinse 2, die ausgelegt ist, auf der Photokathode das erste gepulste Licht und das zweite gepulste Licht, die vom optischen System für Anregungslicht emittiert wurden, zu fokussieren, und ein elektronenoptisches System, das ausgelegt ist, eine Probe 20 mit dem von der Photokathode emittierten Elektronenstrahl zu bestrahlen, auf.

    ELEKTRONENQUELLE UND DIESE VERWENDENDE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG
    10.
    发明专利
    ELEKTRONENQUELLE UND DIESE VERWENDENDE ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG 未知

    公开(公告)号：DE112017006569T5

    公开(公告)日：2019-09-26

    申请号：DE112017006569

    申请日：2017-12-08

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： KUSUNOKI TOSHIAKI ,  KASUYA KEIGO ,  OHSHIMA TAKASHI ,  HASHIZUME TOMIHIRO ,  ARAI NORIAKI ,  OSE YOICHI

    IPC: H01J1/15 ,  H01J1/16 ,  H01J9/04 ,  H01J37/06

    Abstract: Es wird eine Elektronenquelle bereitgestellt, die auch bei Verwendung von Hexaborid lange Zeit stabil genutzt werden kann, und eine Elektronenstrahlvorrichtung, die diese Elektronenquelle verwendet.Die Erfindung betrifft eine Elektronenquelle, umfassend ein Filament 103 aus einem Metall, ein Metallrohr 112, das an das Filament 103 befestigt ist und eine Vielzahl von Vertiefungen 117 aufweist, die mindestens in zwei axialen Richtungen derart auf einem Außenumfang angeordnet sind, dass sie eine Mittelachse umgeben, und eine säulenförmige Hexaboridspitze 104, die Elektronen emittiert, derart angeordnet ist, dass sie vom Inneren des Metallrohrs 112 zu einer dem Filament 103 entgegengesetzten Seite vorspringt, und mit einem Boden jeder der Vertiefungen 117 des Metallrohrs 112 in Kontakt ist.

Patent Agency Ranking