Abstract:
A tracking device for a video decorder horizontally moves a head position about a trakc from a normal running position. The tracking device includes: a reference signal generator for generating a reference signal having the same frequency as a frequency of a pilot signal recorded on a main track furing a trak scanning period a mixer for generating a reproduction pilot signal from the head and a freuqncy modulated signal of the reference signal a tracking signal generator for detecting a difference component from the frequency modulated signal in the mixer, and providing it as a tracking signal error signal generator a position indicator(62) for generating a position control signal corresponding to a position variation of a noise bar in case of a variable speed play operation and a phase regulator(64) for horizontally moving a phase of a sample & hold signal of the error signal generator according to the position control signal in the position indicator(62).
Abstract:
본 발명은, 기판 상에 원하는 패턴을 정확하게 전사할 수 있는 패턴 면적 측정에 기반한 MTT 측정방법 및 이를 이용한 포토마스크 교정방법을 제공한다. 본 발명의 MTT 측정방법은 다각형, 곡면형, 또는 이들의 조합을 포함하는 설계 패턴의 면적을 산출하는데 이용될 수 있는 기하학적인 요소들로써 복수의 설계 패턴 치수들(measures)을 측정하는 단계와, 설계 패턴의 면적을 산출하는데 이용될 수 있는 복수의 설계 패턴 치수들(measures)을 측정하는 단계와, 설계 패턴 치수들을 변화시켜 일련의 계산 치수들을 산출하고, 일련의 계산 치수들에 각각 대응하는 일련의 계산 면적들을 산출하여, 상기 일련의 계산 치수들과 일련의 계산 면적들을 포함하는 데이터베이스를 생성하는 단계와, 설계 패턴을 이용하여 실재 패턴(actual pattern)을 형성하는 단계와, 실재 패턴의 면적을 측정하는 단계와, 데이터 베이스로부터 실재 패턴의 면적과 상응하는 계산 면적을 선택하고, 이에 따라 계산 면적에 대응하는 계산 치수들 을 선택하는 단계와, 설계 패턴 치수들과 계산 치수들의 차이를 산출하여 MTT(Mean-To-Target)로 설정하는 단계를 포함한다. 포토마스크, MTT(Mean-To-Target), 패턴 면적, 레이아웃
Abstract:
본 발명에서는 래치업을 방지하는 전압 발생기가 개시된다. 본 발명에 따른 전압 발생기는 제1 내지 제3 인에이블(Enable) 신호에 의해 제어되고 내부 전원전압을 부스팅하여 제1 내지 제 4 전압들을 발생하는 챠지 펌프 회로(Charge pump circuit); 제1 내지 제3 전압을 검출하여 제1 내지 제3 플레그 신호를 발생하는 검출부; 및 제1 내지 제3 플레그 신호를 입력받아, 각각 제1 내지 제3 인에블 신호를 발생하여, 제1 내지 제4 전압들이 순차적으로 발생 되도록 하는 챠지 펌프 컨트롤러를 구비한다. 본 발명에 의하면 부스팅(Boosting) 모드 또는 정상 동작 모드에서 발생할 수 있는 래치업을 방지할 수 있다. 래치업, 전압 발생기
Abstract:
신경회로망을 이용한 포토마스크 제조 방법 및 제조 장치와 이를 위한 기록매체를 개시한다. 본 발명에 따른 포토마스크 제조 장치는 회로 설계 데이터로부터 복수의 입력 데이터를 추출하는 데이터 추출부, 신경회로망 기법을 통하여 입력 데이터로부터 제2 변환시간을 구하는 변환시간 예측부, 제2 변환시간에 따라 변환장치를 할당하는 변환장치 할당부 및 할당된 변환장치를 통하여 상기 회로 설계 데이터를 마스크 데이터로 변환하는 데이터 변환부를 포함한다. 변환장치 예측부는, 준비된 하드웨어 개수에 따른 변환시간 변화 모델을 탑재하고, 입력 데이터로부터 신경회로망 기법을 통하여 제1 변환시간을 구하는 신경회로망부 및 제1 변환시간에 변환시간 모델을 적용하여 제2 변환시간을 계산하는 변환시간 계산부를 포함할 수 있다. 회로 설계 데이터, 데이터 변환, 신경회로망, 포토마스크