公开(公告)号：CN103155103A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180037725.2

申请日：2011-08-02

Applicant: 国立大学法人大阪大学 ,  EMD株式会社

Inventor： 节原裕一 ,  江部明宪

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/509 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/02104 ,  C23C16/24 ,  C23C16/509 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/32899 ,  H01J37/32954 ,  H01L21/465 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4667

Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够根据离解的气体分子的种类或其离解能来容易地控制等离子体中的电子的能量分布的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置(10)具备：等离子体处理室(11)；与等离子体处理室(11)连通的等离子体生成室(12)；用于生成等离子体的高频天线(16)；用于控制等离子体中的电子的能量的等离子体控制板(17)；用于调整等离子体控制板(17)的位置的操作棒(171)及移动机构(172)。在该等离子体处理装置(10)中，仅通过利用移动机构(172)使操作棒(171)沿着长度方向移动来调整高频天线(16)与等离子体控制板(17)之间的距离，就能够控制在等离子体生成室(12)内生成的等离子体的电子的能量分布，因此能够容易地进行与离解的气体分子的种类或其离解能对应的等离子体处理。

公开(公告)号：CN103119195A

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN201180045188.6

申请日：2011-09-19

Applicant: 法雷奥照明公司

Inventor： 弗瑞德瑞克·莫瑞特 ,  马克·布莱泽尔 ,  艾里克西斯·陈奈特

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/22 ,  C23C16/44 ,  H01L21/00 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/317 ,  H01L21/67

CPC classification number: C23C16/486 ,  C23C14/22 ,  C23C14/56 ,  C23C14/564 ,  C23C14/568 ,  C23C16/44 ,  H01J37/18 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32889 ,  H01J37/32899

Abstract: 本发明涉及一种用于处理物体的设备，所述物体例如是由聚合物制成的用于机动车前灯的物体。所述设备包括：用于容纳物体(22)的真空室(12)；用于将真空室(12)置于真空中的装置(24)；和用于处理物体(22)的离子轰击装置(44)，所述离子轰击装置(44)包括离子发生器(46)和用于发射离子束的至少一个离子施加器(48)。该设备还包括：第一气锁(36)；用于在真空室(12)与第一气锁(36)之间建立选择性连通的装置(40)；和用于将第一气锁(36)置于真空中的装置(24)。离子轰击装置(44)布置在真空室(12)的外面。离子施加器(48)容纳在第一气锁(36)内部。

公开(公告)号：CN102736648A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201210091617.X

申请日：2012-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松土龙夫

IPC: G05D23/30 ,  G01K11/32 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32899 ,  G05D23/192 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/3299

Abstract: 本发明提供一种温度控制方法以及等离子体处理系统，能够高精确度地控制晶圆(W)的温度。温度控制方法的特征在于，具备以下步骤：获取步骤，获取晶圆(W)的背面膜的种类的测量结果；选择步骤，从将向腔室内投入的能量、背面膜的种类以及晶圆(W)的温度相对应地进行了存储的第一数据库(330)，选择与作为上述测量结果的晶圆(W)的背面膜的种类和为了对上述晶圆(W)进行处理而投入的能量对应的晶圆(W)的温度；以及调整步骤，根据所选择的上述晶圆(W)的温度，调整上述晶圆(W)的温度。

公开(公告)号：CN102286730A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201110167019.1

申请日：2011-06-21

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 成普滥璨 ,  具教旭 ,  赵重根

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/5096 ,  C23C16/54 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32743 ,  H01J37/32889 ,  H01J37/32899 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742

Abstract: 本发明公开一种薄膜蒸镀装置，其包括：支承板的基板支承机构；及喷淋头，配置在上述基板支承机构的上部，向上述基板供给处理气体。上述喷淋头包括：上部平板，形成有多个气道以提供上述处理气体的流路，在上述气道形成有气体喷射孔，施加高频电流而激励处理气体产生等离子体；挡板，配置在上述上部平板的下部，并形成有多个孔而使上述处理气体的流动均匀地分散；及喷射板，配置在上述挡板的下部，将通过上述挡板供给的上述处理气体喷射到上述基板上。

公开(公告)号：CN100380592C

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN200380106602.5

申请日：2003-10-15

Applicant: 石川岛播磨重工业株式会社

Inventor： 伊藤宪和 ,  高木朋子 ,  上田仁

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/50 ,  H01L31/04 ,  H05H1/46

CPC classification number: C23C16/509 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/32899 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/463

Abstract: 本发明涉及一种利用等离子体CVD，即化学气相生长法在配置于成膜室(15)内的衬底(300)上形成薄膜的薄膜形成装置(6)，成膜室(15)设置有分别配置了等离子体生成用的电极(40)的多个薄膜形成区(17u、17v、17w)，设有向该电极(40)供给电力的电力供给系统(36)、和有选择地将电力连接在各薄膜形成区(17u、17v、17w)的各个电极(40)上的切换装置(34)。通过这样的结构来提供合适的电力供给系统、气体供给系统和排气系统，同时，提供一种薄膜形成装置、薄膜形成方法和薄膜形成系统，通过调整薄膜形成装置的工作状态，从而可以降低薄膜形成装置和薄膜形成系统的成本，而不降低积层膜形成工序的生产效率，并可以简化电力供给系统并节省设置面积的空间。

公开(公告)号：EP4420156A1

公开(公告)日：2024-08-28

申请号：EP22884629.1

申请日：2022-10-18

Applicant: Lam Research Corporation

Inventor： PREMAKUMAR, Harish Kumar ,  GUO, Tongtong ,  BATZER, Rachel E. ,  GONG, Bo ,  JUAREZ, Francisco J. ,  CHANG, Ching-Yun

IPC: H01L21/67 ,  C23C16/44 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32899 ,  H01J37/32908 ,  H01J37/32862 ,  H01J37/32853 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67017 ,  C23C16/45591 ,  C23C16/4405

公开(公告)号：EP2845451B1

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：EP13726436.2

申请日：2013-05-02

Applicant: Relyon Plasma GmbH ,  EPCOS AG

Inventor： NETTESHEIM, Stefan ,  KÜGERL, Georg ,  PUFF, Markus

IPC: H05H1/36 ,  H05H1/44

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32899 ,  H05H1/36 ,  H05H1/44

公开(公告)号：EP2773792B1

公开(公告)日：2017-06-14

申请号：EP12866275.6

申请日：2012-11-02

Applicant: Intevac, Inc.

Inventor： BROWN, David, Ward ,  SHAH, Vinay ,  PEDERSON, Terry ,  BLUCK, Terry

IPC: C23C14/35

CPC classification number: H01J37/3455 ,  C23C14/35 ,  C23C14/56 ,  H01J37/32779 ,  H01J37/32899 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3452

公开(公告)号：EP2840163B1

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：EP13819352.9

申请日：2013-05-21

Applicant: Labotec Limited

Inventor： NAKANO, Hirofumi

IPC: C23C14/32 ,  H01J37/32

CPC classification number: C23C14/32 ,  C23C14/0605 ,  H01J37/32018 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32899

公开(公告)号：EP3006598A3

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：EP15188507.6

申请日：2015-10-06

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Huh, Myungsoo ,  Ko, Dongkyun ,  Jang, Choelmin ,  Kim, Sungchul ,  Kim, Inkyo ,  Roh, Cheollae

IPC: C23C16/54 ,  C23C16/50 ,  H01J37/32 ,  H01L51/00 ,  H01L51/52 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/50 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/54 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/32899 ,  H01L51/5256

Abstract: An apparatus and a method of manufacturing a display apparatus are disclosed. In one aspect, the apparatus includes a chamber and an inorganic layer forming nozzle unit (130) formed in the chamber and configured to form at least one inorganic layer. The apparatus also includes an organic layer forming nozzle unit (140) formed in the chamber and configured to form at least one organic layer, wherein the organic layer forming nozzle unit is arranged substantially in line with the inorganic layer forming nozzle unit. The apparatus further includes a separating nozzle unit (150) formed between the inorganic layer forming nozzle unit and the organic layer forming nozzle unit and configured to spray an inert gas.