公开(公告)号：US06931097B1

公开(公告)日：2005-08-16

申请号：US10048138

申请日：2000-07-10

Applicant: Claude L. Davis, Jr. ,  Kenneth E. Hrdina

Inventor： Claude L. Davis, Jr. ,  Kenneth E. Hrdina

IPC: C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C17/36 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G02B17/06 ,  G03F1/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B17/0615 ,  G02B17/0636 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: The projection lithographic method for producing integrated circuits and forming patterns with extremely small feature dimensions includes an illumination sub-system (36) for producing and directing an extreme ultraviolet soft x-ray radiation λ from an extreme ultraviolet soft x-ray source (38); a mask stage (22) illuminated by the extreme ultraviolet soft x-ray radiation λ produced by illumination stage and the mask stage (22) includes a pattern when illuminated by radiation λ. A protection sub-system includes reflective multilayer coated Ti doped high purity SiO2 glass defect free surface (32) and printed media subject wafer which has a radiation sensitive surface.

Abstract translation: 用于制造集成电路和具有极小特征尺寸的图案的投影光刻方法包括用于产生和引导来自极紫外线软X射线源（38）的极紫外线软X射线辐射λ的照明子系统（36） ; 由照明级产生的极紫外线软X射线辐射λ照射的掩模台（22）和掩模台（22）包括当被辐射λ照射时的图案。 保护子系统包括具有辐射敏感表面的反射多层涂覆的Ti掺杂的高纯度SiO 2玻璃无缺陷表面（32）和印刷媒体对象晶片。

公开(公告)号：US06866929B2

公开(公告)日：2005-03-15

申请号：US10032298

申请日：2001-12-21

Applicant: Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

Inventor： Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

IPC: A61K6/06 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/00 ,  B01J19/10 ,  B01J19/24 ,  B24B37/04 ,  C01B13/18 ,  C01B17/20 ,  C01F17/00 ,  C01G23/00 ,  C03B8/02 ,  C03B8/04 ,  C03B19/10 ,  C03C8/16 ,  C03C11/00 ,  C03C12/00 ,  C03C14/00 ,  C03C17/30 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C09K11/58 ,  C09K11/59 ,  C09K11/62 ,  C09K11/64 ,  C09K11/66 ,  C09K11/67 ,  C09K11/77 ,  H01L21/321 ,  B32B19/00 ,  B32B15/02 ,  C03C3/00 ,  C03C6/02

CPC classification number: B82Y30/00 ,  A61K6/0276 ,  A61K6/08 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/10 ,  B01J19/2405 ,  B01J2219/00112 ,  B01J2219/00155 ,  B01J2219/00159 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00166 ,  B01J2219/00171 ,  B01J2219/00186 ,  B24B37/044 ,  C01B13/18 ,  C01B13/185 ,  C01B17/20 ,  C01F17/0043 ,  C01G23/003 ,  C01P2002/60 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/34 ,  C01P2004/50 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/22 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/07 ,  C03C8/16 ,  C03C11/002 ,  C03C12/00 ,  C03C14/004 ,  C03C17/30 ,  C03C2214/08 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  C09K11/584 ,  C09K11/595 ,  C09K11/623 ,  C09K11/642 ,  C09K11/643 ,  C09K11/644 ,  C09K11/662 ,  C09K11/666 ,  C09K11/672 ,  C09K11/7701 ,  C09K11/7708 ,  C09K11/7729 ,  C09K11/7769 ,  C09K11/7776 ,  C09K11/7784 ,  C09K11/7786 ,  C09K11/7787 ,  H01L21/3212 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  C08L33/00

Abstract: Glass powders and methods for producing glass powders. The powders preferably have a small particle size, narrow size distribution and a spherical morphology. The method includes forming the particles by a spray pyrolysis technique. The invention also includes novel devices and products formed from the glass powders.

Abstract translation: 玻璃粉末和玻璃粉末的制造方法。 粉末优选具有小的粒度，窄的粒度分布和球形的形态。 该方法包括通过喷雾热解技术形成颗粒。 本发明还包括由玻璃粉末形成的新型器件和产品。

公开(公告)号：US20040116269A1

公开(公告)日：2004-06-17

申请号：US10718575

申请日：2003-11-24

Applicant: TOSOH CORPORATION ,  TOSOH QUARTZ CORPORATION ,  TOSOH SGM CORPORATION

Inventor： Yoshinori Harada ,  Shuzo Mizutani ,  Shinkichi Hashimoto ,  Masakazu Kudoh ,  Naoki Miura ,  Katsufumi Takahashi ,  Hideki Kiyohara

IPC: C03C003/06 ,  C03B019/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: Highly durable silica glass containing 0.01% to 2% by weight of at least one element selected from magnesium, calcium, strontium, barium, yttrium, hafnium and zirconium. The silica glass is produced by melting a powdery material comprising a finely divided silica powder and a finely divided zirconium-containing substance by oxyhydrogen flame or plasma are to form an accumulated molten material layer, and extending the molten material layer outwardly in radial directions.

Abstract translation: 含有0.01重量％至2重量％的选自镁，钙，锶，钡，钇，铪和锆中的至少一种元素的高耐用二氧化硅玻璃。 二氧化硅玻璃是通过熔化包含细碎的二氧化硅粉末和细分的含锆物质的粉末状材料通过氢氧焰或等离子体而形成的，以形成聚集的熔融材料层，并使熔融材料层沿径向向外延伸。

公开(公告)号：US20040095566A1

公开(公告)日：2004-05-20

申请号：US10614200

申请日：2003-07-08

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

IPC: G03B027/54

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/24 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: An optical member made of silica glass manufactured by the direct method where a material gas comprising an organosilicon compound is allowed to react in an oxidizing flame, said optical member having a 2null1014 molecules/cm3 or less concentration of formyl radical generated by X-ray irradiation whose dose is 0.01 Mrad or more and 1 Mrad or less.

Abstract translation: 通过直接法制造的由石英玻璃制成的光学构件，其中包含有机硅化合物的材料气体在氧化火焰中反应，所述光学构件具有2×10 14分子/ cm 3或更低浓度的甲酰基 其剂量为0.01Mrad以上且1Mrad以下的X射线照射产生。

公开(公告)号：US06698247B2

公开(公告)日：2004-03-02

申请号：US09848904

申请日：2001-05-04

Applicant: David L. Tennent ,  Joseph M. Whalen

Inventor： David L. Tennent ,  Joseph M. Whalen

IPC: C03B37075

CPC classification number: C03B37/01413 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/38

Abstract: A method for making silica includes delivering a silica precursor comprising a perfluorinated group to a conversion site and passing the silica precursor through a conversion flame to produce silica soot.

Abstract translation: 制备二氧化硅的方法包括将包含全氟化基团的二氧化硅前体输送到转化位点并使二氧化硅前体通过转化火焰以产生二氧化硅烟灰。

公开(公告)号：US06689705B2

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US10048309

申请日：2002-01-29

Applicant: Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Toru Yokota ,  Yasuyuki Yaginuma ,  Akira Sato ,  Tetsuji Ueda

Inventor： Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Toru Yokota ,  Yasuyuki Yaginuma ,  Akira Sato ,  Tetsuji Ueda

IPC: C03C306

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: An object of the present invention is to provide a synthetic quartz glass optical material having a high optical transmittance for a radiation 157 nm in wavelength emitted from F2 excimer laser and a high resistance against irradiation of a F2 excimer laser radiation, yet having a uniformity suitable for such a fine patterning using a F2 excimer laser, and to provide an optical member using the same. The problems above are solved by a synthetic quartz glass optical material for F2 excimer lasers having an OH group concentration of 0.5 ppm or lower, a fluorine concentration of 0.1 to 2 mol %, a hydrogen molecule concentration of 5×1016 molecules/cm3 or lower, a difference between the maximum and minimum fluorine concentrations within 20 mol ppm, and a difference between the maximum and minimum refraction indices of 2×10−5 or lower.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种合成石英玻璃光学材料，其对于从F2准分子激光器发射的波长为157nm的辐射具有高的透光率，并且具有高的对F2准分子激光辐射照射的抗性，但具有适合的均匀性 对于使用F2准分子激光器的精细图案化，并提供使用其的光学部件。 上述问题由OH基浓度为0.5ppm以下，氟浓度为0.1〜2mol％，氢分子浓度为5×10 16分子/ cm 2的F2准分子激光的合成石英玻璃光学材料解决， 3>以下，最大和最小氟浓度在20mol ppm内的差异，以及最大和最小折射率之间的差异为2×10 -5或更低。

公开(公告)号：US06623856B1

公开(公告)日：2003-09-23

申请号：US09520488

申请日：2000-03-08

Applicant: Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  Quint H. Powell ,  James H. Brewster ,  Daniel J. Skamser ,  Klaus Kunze ,  Paolina Atanassova ,  Paul Napolitano

Inventor： Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  Quint H. Powell ,  James H. Brewster ,  Daniel J. Skamser ,  Klaus Kunze ,  Paolina Atanassova ,  Paul Napolitano

IPC: B32B516

CPC classification number: B82Y30/00 ,  A61K6/0276 ,  A61K6/08 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/10 ,  B01J19/2405 ,  B01J2219/00112 ,  B01J2219/00155 ,  B01J2219/00159 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00166 ,  B01J2219/00171 ,  B01J2219/00186 ,  B24B37/044 ,  C01B13/18 ,  C01B13/185 ,  C01B17/20 ,  C01F17/0043 ,  C01G23/003 ,  C01P2002/60 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/34 ,  C01P2004/50 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/22 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/07 ,  C03C8/16 ,  C03C11/002 ,  C03C12/00 ,  C03C14/004 ,  C03C17/30 ,  C03C2214/08 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  C09K11/584 ,  C09K11/595 ,  C09K11/623 ,  C09K11/642 ,  C09K11/643 ,  C09K11/644 ,  C09K11/662 ,  C09K11/666 ,  C09K11/672 ,  C09K11/7701 ,  C09K11/7708 ,  C09K11/7729 ,  C09K11/7769 ,  C09K11/7776 ,  C09K11/7784 ,  C09K11/7786 ,  C09K11/7787 ,  H01L21/3212 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  C08L33/00

Abstract: Dental glass powders, methods for producing the powders and dental compositions including the glass powders. The powders preferably have a well-controlled particle size, narrow size distribution and a spherical morphology. The method includes forming the particles by a spray pyrolysis technique. The invention also includes dental filler and restorative compositions that include the glass powders.

Abstract translation: 牙科玻璃粉末，粉末的制造方法和包括玻璃粉末的牙科用组合物。 粉末优选具有良好控制的粒度，窄尺寸分布和球形形态。 该方法包括通过喷雾热解技术形成颗粒。 本发明还包括牙科填料和包括玻璃粉末的修复组合物。

公开(公告)号：US20030148194A1

公开(公告)日：2003-08-07

申请号：US10342717

申请日：2003-01-13

Inventor： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Lisa A. Moore ,  Susan L. Schiefelbein ,  Robert S. Pavlik JR.

IPC: G03F009/00 ,  G03C005/00 ,  C03B005/26 ,  C03B007/00 ,  B32B009/00 ,  B32B017/06

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01202 ,  C03B37/01406 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03B2207/40 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/54 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: High purity direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a dry direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1null1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

公开(公告)号：US06541168B2

公开(公告)日：2003-04-01

申请号：US09841517

申请日：2001-04-24

Applicant: John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Lisa A. Moore ,  Susan L. Schiefelbein ,  Robert S. Pavlik, Jr.

Inventor： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Lisa A. Moore ,  Susan L. Schiefelbein ,  Robert S. Pavlik, Jr.

IPC: G03F900

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01202 ,  C03B37/01406 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03B2207/40 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/54 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: High purity direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a dry direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1×1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

公开(公告)号：US06499317B1

公开(公告)日：2002-12-31

申请号：US09581263

申请日：2000-10-17

Applicant: Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

Inventor： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Noriaki Shimodaira ,  Akio Masui ,  Shuhei Yoshizawa

IPC: G01N2300

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/90 ,  Y10S501/905

Abstract: A synthetic quartz glass for optical use, to be used by irradiation with light within a range of from the ultraviolet region to the vacuum ultraviolet region, which contains fluorine, which has a ratio of the scattering peak intensity of 2250 cm−1 (I2250) to the scattering peak intensity of 800 cm−1 (I800), i.e. I2250/I800, of at most 1×10−4 in the laser Raman spectrum, and which has an absorption coefficient of light of 245 nm of at most 2×10−3 cm−1.

Abstract translation: 一种用于光学用的合成石英玻璃，其用于通过在从含有氟的紫外线区域到真空紫外线区域的光的照射下使用，其具有2250cm -1（I2250）的散射峰强度比， 对于激光拉曼光谱中至多为1×10 -4的800cm -1（I800）的散射峰强度（I800），即I2250 / I800，其吸光系数为245nm，最多为2×10 -3 cm -3， 1。