公开(公告)号：WO2017103131A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081462

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  KAYSER, Thomas ,  WITTRIN, Mirko

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  C03C1/02 ,  C03B19/10 ,  C03B17/04

CPC classification number: C03B19/106 ,  C03B17/04 ,  C03B19/1095 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats I hergestellt aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Behandeln des Siliziumdioxidgranulats I mit einem Reaktanden bei einer Temperatur in einem Bereich von 1000 bis 1300°C, iii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iv.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind. Die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zum Herstellen eines Siliziumdioxidgranulats II.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML; rpers包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats我制成的热解二氧化硅粉末的，ii）与在一个温度下的反应物处理所述Siliziumdioxidgranulats我.. 至1300℃的范围内的1000，iii）形成的玻璃从熔化Siliziumdioxidgranulat和iv）一种形成石英玻璃＆oUML; ..玻璃熔体中的至少一个部分的rpers。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，光源和模制＆OUML;主体，每个由石英玻璃＆OUML的进一步处理;是ltlich; rpers ERH＆AUML。 本发明涉及AU ROAD此外，用于制造Siliziumdioxidgranulats II 的方法。

公开(公告)号：WO2016007806A1

公开(公告)日：2016-01-14

申请号：PCT/US2015/039854

申请日：2015-07-10

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BERKEY, George Edward ,  BOOKBINDER, Dana Craig ,  LI, Ming-Jun ,  TANDON, Pushkar

IPC: C03C13/04 ,  C03B37/018 ,  C03B37/014 ,  C03B37/012

CPC classification number: G02B6/02014 ,  C03B37/01205 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01262 ,  C03B37/01282 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01433 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/018 ,  C03B37/01815 ,  C03B37/0183 ,  C03B37/01838 ,  C03B37/01853 ,  C03B37/01869 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/24 ,  C03B2205/42 ,  C03B2207/30 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  C03C25/1061 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/54 ,  C03C2213/00 ,  G02B6/02019 ,  G02B6/03627

Abstract: An optical fiber having a core comprising silica and greater than 1.5 wt% chlorine and less than.5 wt% F, said core having a refractive index Δ1MAX, and a inner cladding region having refractive index Δ2MIN surrounding the core, where Δ1MAX > Δ2MIN.

Abstract translation: 一种光纤，其具有包含二氧化硅和大于1.5重量％氯且小于5重量％F的芯，所述芯具有折射率Δ1MAX，以及围绕芯的折射率为Δ2MIN的内包层区域，其中Δ1MAX>Δ2MIN。

公开(公告)号：WO2016007691A1

公开(公告)日：2016-01-14

申请号：PCT/US2015/039647

申请日：2015-07-09

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： BOOKBINDER, Dana Craig ,  DESORCIE, Robert Brett ,  MATTHEWS, Hazel Benton III ,  TANDON, Pushkar

IPC: C03B37/018 ,  G02B6/02

CPC classification number: C03C25/66 ,  C03B37/01205 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B37/027 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/42 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/24 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C25/1061 ,  C03C25/1068 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/31 ,  C03C2203/54 ,  G02B6/02 ,  G02B6/021 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/0365 ,  Y02P40/57

Abstract: The present disclosure is directed to a method of making an optical fiber with improved bend performance, the optical fiber having a core and at least one cladding layer, and a chlorine content in the in the last layer of the at least one cladding layer that is greater than 500 ppm by weight. The fiber is prepared using a mixture of a carrier gas, a gaseous chlorine source material and a gaseous reducing agent during the sintering of the last or outermost layer of the at least one cladding layer. The inclusion of the reducing gas into a mixture of the carrier gas and gaseous chlorine material reduces oxygen-rich defects that results in at least a 20% reduction in TTP during hydrogen aging testing.

Abstract translation: 本公开涉及一种制造具有改善的弯曲性能的光纤的方法，所述光纤具有芯和至少一个包覆层，以及在所述至少一个包覆层的最后层中的氯含量为 大于500ppm重量。 在至少一个包覆层的最后层或最外层的烧结期间，使用载气，气态氯源材料和气态还原剂的混合物来制备纤维。 将还原气体包含在载气和气态氯物质的混合物中可以减少富氧缺陷，导致氢老化试验期间TTP至少降低20％。

公开(公告)号：WO2015034991A3

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：PCT/US2014054001

申请日：2014-09-04

Applicant: CORNING INC

Inventor： HARPER BRIAN LEE ,  KHRAPKO ROSTISLAV RADIYEVICH ,  MISHRA SNIGDHARAJ KUMAR ,  RANEY SONYA MARIE ,  TANDON PUSHKAR

IPC: C03C13/04 ,  C03B37/014 ,  C03B37/018

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/014 ,  C03B37/01453 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/20

Abstract: One embodiment of the disclosure relates to a method of making an optical fiber comprising the steps of: (i) exposing a silica based preform with at least one porous glass region having soot density of r to a gas mixture comprising SiCl4 having SiCl4 mole fraction ySiCl4 (preferably of less than 0.03) at a doping temperature Tdop such that parameter X is larger than 0.03 to form the chlorine treated preform, wherein X is defined as a function of density r, doping temperature Tdop, SiCl4 mole fraction ySiCl4, and the density ps of the fully densified soot layer; and (ii) exposing the chlorine treated preform to temperatures above 1400 °C to completely sinter the preform to produce sintered optical fiber preform with a chlorine doped region; and (iii) drawing an optical fiber from the sintered optical preform.

Abstract translation: 本公开的一个实施方案涉及制造光纤的方法，其包括以下步骤：（i）将具有至少一个具有烟灰密度为r的多孔玻璃区域的二氧化硅基预成型件暴露于包含SiCl4的气体混合物，所述SiCl4具有SiCl4摩尔分数ySiCl4 （优选小于0.03），使得参数X大于0.03以形成经氯处理的预成型物，其中X被定义为密度r，掺杂温度T dop，SiCl 4摩尔分数y SiCl 4和密度 ps的完全致密的烟灰层; 和（ii）将氯处理的预成型件暴露于1400℃以上的温度以完全烧结预成型件以生产具有氯掺杂区域的烧结光纤预成型件; 和（iii）从烧结光学预制棒拉制光纤。

公开(公告)号：WO2009084296A1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：PCT/JP2008/068128

申请日：2008-09-30

Applicant: ASAHI GLASS CO., LTD. ,  KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya ,  OKAMURA, Kenji

Inventor： KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya ,  OKAMURA, Kenji

IPC: C03C3/06 ,  C03C15/02 ,  C03C23/00 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C15/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/08 ,  G03F7/70958 ,  H01J2237/0812

Abstract: The present invention is to provide an optical member for Extreme Ultra-Violet Lithography which is used for a reflective type mask, a mirror, etc. for EUVL and has excellent flatness and surface roughness on an optical surface thereof and in which chamfer parts are inhibited from being chipped. The present invention relates to a surface treatment method of an optical member for EUVL, including applying Gas Cluster Ion Beam etching using a source gas containing at least one of fluorine and chlorine to an optical surface of an optical member for EUVL, wherein the optical member is made of a silica glass material having an OH concentration of 100 ppm or more, containing TiO 2 and containing SiO 2 as a major component.

Abstract translation: 本发明提供一种用于极紫外光刻的光学部件，其用于EUVL的反射型掩模，反射镜等，并且在其光学表面上具有优异的平坦度和表面粗糙度，并且其中倒角部分被抑制 从破碎。 本发明涉及一种用于EUVL的光学部件的表面处理方法，其包括使用含有至少一种氟和氯的源气体的气体聚集离子束蚀刻到EUVL的光学部件的光学表面，其中光学部件 由具有100ppm以上的OH浓度的二氧化硅玻璃材料制成，含有TiO 2并含有SiO 2作为主要成分。

公开(公告)号：WO2006108766A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：PCT/EP2006/061192

申请日：2006-03-30

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  WEBER, Juergen ,  POGGE, Tobias ,  TROMMER, Martin ,  KUEHN, Bodo ,  KIRST, Ulrich ,  WERDECKER, Waltraud

Inventor： WEBER, Juergen ,  POGGE, Tobias ,  TROMMER, Martin ,  KUEHN, Bodo ,  KIRST, Ulrich ,  WERDECKER, Waltraud

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  H01L21/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/54 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  Y02P40/57

Abstract: Ein ideales Quarzglas für einen Wafer-Halter zum Einsatz in ätzend wirkender Umgebung zeichnet sich sowohl durch hohe Reinheit als auch durch eine hohe Trockenätzbeständigkeit aus. Um ein Quarzglas anzugeben, das diese Anforde rungen weitgehend erfüllt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Quarz glas mindestens in einem oberflächennahen Bereich mit Stickstoff dotiert ist, einen mittleren Gehalt an metastabilen Hydroxylgruppen von weniger als 30 Gew.-ppm aufweist, und dass seine fiktive Temperatur unterhalb von 1250 °C und seine Vis kosität bei einer Temperatur von 1200°C mindestens 1013 dPas betragen. Ein wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglases umfasst folgende Verfahrensschritte: Erschmelzen eines SiO2-Rohstoffs zu einem Quarz- glas-Rohling, wobei der SiO2-Rohstoff oder der Quarzglas-Rohling einer Entwäs serungsmaßnahme unterzogen werden, ein Erhitzen des SiO2-Rohstoffs oder des Quarzglas-Rohlings auf eine Nitridierungstemperatur im Bereich zwischen 1050°C und 1850 °C unter einer Ammoniak enthaltenden Atmosphäre, eine Temperatur behandlung, mittels der das Quarzglas des Quarzglas-Rohlings auf eine fiktive Temperatur von 1250 °C oder weniger eingestellt wird, und eine Oberflächenbe handlung des Quarzglas-Rohlings unter Bildung des Quarzglas-Halters.

Abstract translation: 用于在腐蚀性环境中使用的晶片保持器的理想的石英玻璃的演技由两个高纯度和高耐干蚀性区分。 为了提供一个石英玻璃，其支柱很大程度上满足这些Anforde，本发明提出的是，石英玻璃至少与氮的近表面区域掺杂，具有按重量计小于30ppm的亚稳定羟基的平均含量，且其虚拟 以下1250℃，粘度温度由显示是在1200℃的温度下为至少1013 dPa·s相当。 用于制造这样的石英玻璃的经济的方法包括下列步骤：形成SiO 2原料的熔融，以获得石英玻璃坯料中，SiO 2原材料或石英玻璃坯料的Entwässerungsmaßnahme进行SiO 2的原料的加热或石英玻璃 Döhring添加包含在氨气氛下1050℃和1850℃之间的范围内的氮化温度下，通过该石英玻璃坯料中石英玻璃被设置为1250℃或更低的温度处理的假想温度的装置，和一个治疗Oberflächenbe 该石英玻璃坯料与形成在石英玻璃夹具的。