DISPOSITIF ET PROCEDE DE GESTION DU CLAQUAGE DE TRANSISTORS D'ACCES DE MEMOIRE EEPROM.

    公开(公告)号:FR3048115B1

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:FR1651301

    申请日:2016-02-18

    Abstract: Il est proposé un dispositif de mémoire du type mémoire non volatile électriquement effaçable et programmable, comprenant un plan-mémoire matriciel (PM) de cellules-mémoire (CEL) connectées à des lignes de bit (BL), des moyens de programmation (MPR) configurés pour sélectionner une cellule-mémoire (CEL) et appliquer une impulsion de programmation (VSBL) sur la ligne de bit (BL) correspondante. Selon une caractéristique générale, le plan-mémoire (PM) est situé dans un caisson local à potentiel flottant (PW) et les moyens de programmation (MPR) sont configurés pour augmenter le potentiel dudit caisson local (PW) simultanément à l'application de l'impulsion de programmation sur la ligne de bit (BL) d'une cellule-mémoire (CEL) sélectionnée.

    DISPOSITIF COMPACT DE MEMOIRE NON VOLATILE DU TYPE A PIEGEAGES DE CHARGE DANS UNE INTERFACE DIELECTRIQUE

    公开(公告)号:FR3059458A1

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:FR1661500

    申请日:2016-11-25

    Abstract: Chaque cellule-mémoire est du type à piégeage de charges dans une interface diélectrique et comprend un transistor d'état (T) sélectionnable par un transistor de sélection vertical enterré dans un substrat et comportant une grille de sélection enterrée. Les colonnes de cellules-mémoires comportent des paires de cellules-mémoires jumelles, les deux transistors de sélection d'une paire de cellules-mémoires jumelles ayant une grille de sélection commune, les deux transistors d'état d'une paire de cellules-mémoires jumelles ayant une grille de commande commune. Le dispositif comprend en outre, pour chaque paire de cellules-mémoires jumelles (Ci,j ;Ci-1,j) une région diélectrique (RDi-1,j) située entre la grille de commande (CGi,i- 1) et le substrat et chevauchant ladite grille de sélection commune (CSGi,i-1 ) de façon à former de part et d'autre de la grille de sélection les deux interfaces diélectriques de piégeage de charges (IDi,j ;IDi-1,j) respectivement dédiées aux deux cellules-mémoires jumelles.

    STOCKAGE DANS UNE MEMOIRE NON VOLATILE

    公开(公告)号:FR3058813A1

    公开(公告)日:2018-05-18

    申请号:FR1661108

    申请日:2016-11-16

    Abstract: L'invention concerne un procédé de brouillage d'adresses dans une mémoire non volatile, organisée en pages (P), dans lequel : la mémoire présente une granularité d'écriture de mots (W) comportant un ou plusieurs octets ; la mémoire comporte une granularité d'effacement de blocs (B) comportant une ou plusieurs pages (P) de plusieurs mots chacune ; et des adresses logiques (L-ADD) sont converties en adresses physiques en respectant les conditions suivantes : les adresses de données sont brouillées (32) en respectant la structure des pages et les adresses de code sont brouillées (31) en respectant la structure des mots.

    DIODE ZENER A FAIBLE TENSION DE CLAQUAGE AJUSTABLE

    公开(公告)号:FR3033937B1

    公开(公告)日:2018-04-27

    申请号:FR1552289

    申请日:2015-03-19

    Abstract: L'invention concerne une diode Zener comprenant : une région de cathode (CD1) ayant un premier type de conductivité, formée en surface dans un substrat semi-conducteur (SUB) ayant un second type de conductivité, une région d'anode (AD1) ayant le second type de conductivité, formée sous la région de cathode, les régions de cathode et d'anode étant isolées du reste du substrat par des tranchées isolantes (STI1), des premières régions conductrices (CDC, EDC, ED1) configurées, lorsqu'elles sont soumises à des tensions adéquates, pour générer un premier champ électrique perpendiculaire à une interface entre les régions de cathode et d'anode, et des secondes régions conductrices (GT1, GTC) configurées lorsqu'elles sont soumises à des tensions adéquates, pour générer un second champ électrique parallèle à une interface entre les régions de cathode et d'anode.

    PROCEDE D'AMELIORATION DE L'OPERATION D'ECRITURE DANS UNE MEMOIRE EEPROM ET DISPOSITIF CORRESPONDANT

    公开(公告)号:FR3048114B1

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:FR1651431

    申请日:2016-02-22

    Abstract: Le procédé d'écriture dans un point-mémoire (PTM) de type mémoire électriquement effaçable et programmable, comprend au moins une opération d'écriture d'une donnée comportant une étape d'effacement (EFF) et/ou une étape de programmation (PRG) utilisant chacune un effet tunnel. Le point-mémoire (PTM) comprend une première cellule-mémoire (CLER) comportant un premier transistor (TFGR) ayant un premier oxyde (OXR) surmonté par une première grille flottante (FGR) et une deuxième cellule-mémoire (CLEB) comportant un second transistor (TFGB) ayant un second oxyde (OXB) surmonté par une seconde grille flottante (FGB) connectée à la première grille flottante (FGR), et l'étape d'effacement (EFF) et/ou l'étape de programmation (PRG) comporte chacune une première phase (Pel, Ppl) dans laquelle on met en œuvre un effet tunnel identique à travers chaque oxyde (OXR, OXB), et une seconde phase (Pe2, Pp2) dans laquelle on augmente la tension aux bornes de l'un des premier et second oxydes (OXR, OXB), tout en diminuant la tension aux bornes de l'autre oxyde (OXB, OXR) de l'autre transistor de l'autre cellule-mémoire.

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