公开(公告)号：US4426216A

公开(公告)日：1984-01-17

申请号：US337451

申请日：1982-01-06

Applicant: Shin Satoh ,  Kenzo Susa ,  Iwao Matsuyama ,  Tsuneo Suganuma

Inventor： Shin Satoh ,  Kenzo Susa ,  Iwao Matsuyama ,  Tsuneo Suganuma

IPC: C03B19/12 ,  C03C1/00 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03B19/12 ,  C03C1/006 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  Y10S65/901

Abstract: Optical glass is produced by heating a porous gel to a high temperature to partly sinter it, heating it in a chlorine-containing atmosphere to subject it to hydroxyl group removal treatment, and then further heating it to sinter it. The optical glass produced by this process does not rise in bubbles even when heated.

Abstract translation: 通过将多孔凝胶加热至高温部分烧结而制成光学玻璃，在含氯气氛中加热，进行羟基去除处理，然后进一步加热烧结。 通过该方法制造的光学玻璃即使在加热时也不会起泡。

公开(公告)号：WO2017103123A3

公开(公告)日：2017-08-24

申请号：PCT/EP2016081448

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS

Inventor： WHIPPEY NIGEL ROBERT ,  GROMANN BORIS ,  SÖHN MATTHIAS

IPC: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/10 ,  C03B37/012 ,  C03C3/06 ,  F27D7/02

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/108 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: The invention relates to a method for producing a silica glass body, comprising the method steps: i.) providing silicon dioxide particles ii.) forming a glass melt from the silicon dioxide particles in a furnace and iii.) forming a silica glass body from at least one portion of the glass melt, wherein the furnace has a gas outlet, through which gas can be removed from the furnace and the dew point of the gas exiting the furnace through the gas outlet is less than 0°C. The invention also relates to a silica glass body that can be obtained by said method. In addition, the invention relates to a light guide, a lighting means and a shaped article, each of which can be obtained by further processing the silica glass body. The invention further relates to the adjustment of the dew point at the outlet of a furnace, comprising: providing a starting material in the furnace; operating said furnace, a gas flow being conducted through the furnace; and varying the residual moisture of the starting material or the gas exchange rate of the gas flow.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于制造石英玻璃体包括如下工艺步骤i。）提供的二氧化硅颗粒，二。）形成由二氧化硅粒子的熔融玻璃在烘箱中和iii）从所述熔融玻璃的至少一部分上形成石英玻璃体，炉内的气体出口 通过它从炉中取出气体，当气体通过气体出口离开炉的露点低于0℃时 本发明还涉及通过该方法可获得的石英玻璃体。 此外，本发明涉及一种光导，一种照明装置和一种成型体，每种光导体都可以通过对石英玻璃体进一步加工而获得。 本发明还涉及到露点在包括提供在所述炉中的输入材料，炉的操作中，其中，气体流通过烘箱，并改变起始材料的残留水分或气体流的气体交换率的炉子的出口处的调整。

公开(公告)号：WO2017103171A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081525

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar ,  KAYSER, Thomas

IPC: C03B20/00 ,  C03C12/00 ,  C03B19/10 ,  C03B37/012 ,  C03C3/06 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03B19/106 ,  C03B17/04 ,  C03B19/066 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei das Bereitstellen die Schritte I. Erzeugen eines Siliziumdioxidpulvers mit mindestens zwei Teilchen hergestellt aus einer Silizium-Chlor-Verbindung, II. Kontaktieren des Siliziumdioxidpulvers mit Ammoniak unter Erhalt eines behandelten Siliziumdioxidpulvers und III. Granulieren des behandelten Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat beinhaltet, und wobei der Chlorgehalt des Siliziumdioxidpulvers höher ist als der Chlorgehalt des Siliziumdioxidgranulats. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines Siliziumdioxidgranulats. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

公开(公告)号：WO2017103168A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081521

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： GROMANN, Boris ,  WHIPPEY, Nigel Robert

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  C03B5/06 ,  C03B5/033 ,  C03B5/167 ,  C03B17/04

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B5/167 ,  C03B17/04 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Ofen beinhaltend einen Schmelztiegel mit einer Tiegelwand, eine Feststoffzuführung mit einem Auslass, einen Gaseinlass und einen Gasauslass, wobei im Schmelztiegel der Gaseinlass unterhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist und der Gasauslass auf gleicher Höhe wie oder oberhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen und Einführen eines Schüttguts ausgewählt aus Siliziumdioxidgranulat und Quarzglaskörnung in den Ofen und Bereitstellen eines Gases, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Schüttgut und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist, sowie einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及包含与坩埚壁的坩埚炉中，布置具有出口，气体入口和气体出口，其中，在Feststoffzuf导航用途出口下方的气体入口的坩埚Feststoffzuf导航用途导向货币和 气体出口位于与固体供应出口相同的高度或上方。 本发明还涉及一种方法，用于制造石英玻璃＆OUML; rpers包括如下工艺步骤：i）提供和插入导航用途听到SCH导航用途ttguts选定＆AUML;从Siliziumdioxidgranulat HLT和在烘箱中的石英玻璃与OUML ;. Rning和提供气体，ii）形成玻璃熔体 从散装材料和iii）由至少部分玻璃熔体形成石英玻璃体。 本发明还涉及一种可通过该方法获得的石英玻璃体，以及可通过进一步处理石英玻璃体而获得的光导，发光装置和成型体

公开(公告)号：WO2017103123A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081448

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  SÖHN, Matthias

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  F27D7/02

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B19/108 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen von Siliziumdioxidpartikeln, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus den Siliziumdioxidpartikeln in einem Ofen und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Ofen einen Gasauslass aufweist, durch den Gas dem Ofen entnommen wird, wobei der Taupunkt des Gases beim Austritt aus dem Ofen durch den Gasauslass weniger als 0°C beträgt. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供二氧化硅rpers，ⅱ）在烘箱中形成从二氧化硅粒子的熔融玻璃和iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 是从熔融玻璃的至少一部分上，具有由气体到炉中取出的气体出口处的炉中，在从通过气体出口炉子出口的气体的露点是关于BEAR GT小于0℃。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2016094494A3

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/US2015064662

申请日：2015-12-09

Applicant: CORNING INC

Inventor： ANNAMALAI SEZHIAN ,  DURAN CARLOS ALBERTO ,  HRDINA KENNETH EDWARD

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/14 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/112 ,  C03C4/00 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/52

Abstract: A doped silica-titania glass article is provided that includes a glass article having a glass composition comprising (i) a silica-titania base glass, (ii) a fluorine dopant, and (iii) a second dopant. The fluorine dopant has a concentration of fluorine of up to 5 wt. % and the second dopant comprises one or more oxides selected from the group consisting of Al, Nb, Ta, B, Na, K, Mg, Ca and Li oxides at a total oxide concentration from 50 ppm to 6 wt.%. Further, the glass article has an expansivity slope of less than 0.5 ppb/K2 at 20⃘C. The second dopant can be optional. The composition of the glass article may also contain an OH concentration of less than 100 ppm.

Abstract translation: 提供掺杂二氧化硅 - 二氧化钛玻璃制品，其包括具有玻璃组合物的玻璃制品，所述玻璃组合物包含（i）二氧化硅 - 二氧化钛基底玻璃，（ii）氟掺杂剂和（iii）第二掺杂剂。 氟掺杂剂的氟浓度高达5wt。 ％，第二掺杂剂包含一种或多种选自Al，Nb，Ta，B，Na，K，Mg，Ca和Li氧化物的氧化物，总氧化物浓度为50ppm至6wt。％。 此外，玻璃制品在20℃时的膨胀斜率小于0.5ppb / K2。 第二掺杂剂可以是任选的。 玻璃制品的组成也可以含有小于100ppm的OH浓度。

公开(公告)号：WO2014128148A3

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/EP2014053199

申请日：2014-02-19

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

Inventor： KUEHN BODO

IPC: C03C4/00 ,  C03B19/01 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention relates to an optical component made of synthetic quartz glass for use in an ArF excimer laser lithography process with an applied wavelength of 193 nm, comprising a glass structure substantially free of oxygen defect sites, a hydrogen content ranging from 0.1 x 1016 molecules/cm3 to 1.0 x 1018 molecules/cm3, an SiH group content of less than 2 x 1017 molecules/cm3, and a hydroxyl group content ranging from 0.1 to 100 wt. ppm, said glass structure having a fictive temperature of less than 1070 °C. The aim of the invention is to allow a reliable prediction of the compacting behavior when using UV laser radiation with the applied wavelength on the basis of a measurement of the compacting behavior using a measured wavelength of 633 nm. This is achieved by an optical component design in which the component undergoes a laser-induced change in the refractive index in response to irradiation by means of a radiation with a wavelength of 193 nm using 5x109 pulses with a pulse width of 125 ns and a respective energy density of 500 µJ/cm2 at a pulse repetition frequency of 2000 Hz, said change totaling a first measured value M193nm when measured using the applied wavelength of 193 nm and totaling a second measured value M633nm when measured using a measured wavelength of 633 nm, wherein M193nm/M633nm

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用具有193nm的波长使用的光合成的石英玻璃部件，用玻璃结构基本没有氧缺陷，在0.1×1016分子/立方厘米至1的范围内的氢含量 0×1018分子/厘米3，SiH基团的含量小于2×1017摩尔/厘米3，并且具有羟基的0.1重量和100ppm之间的范围内，其中所述玻璃结构的含量为少的假想温度 具有1070℃ 为了在633测量波长为使得能够与所使用的波长的紫外激光辐射使用时，压实行为的可靠预测从Kompaktierungsverhaltens的测量开始，该光学装置的结构，提出了，这是对照射的193纳米与5×10 9的波长的辐射 用的125毫微秒的脉冲宽度和各500μJ/ cm 2的能量密度和2000Hz的与折射率的激光诱导的变化的脉冲重复频率的脉冲进行反应，所述量在测量用的193nm的第一测量值M193nm和测量与633nm的测定波长使用波长 第二测量值M633nm的产率，其中：M193nm / M633nm <1.7。

公开(公告)号：WO2011016177A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：PCT/JP2010/004228

申请日：2010-06-25

Applicant: 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

Inventor： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC: C03B20/00 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06

CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/32 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  C30B35/002 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/2982

Abstract: 　本発明は、回転対称性を有するシリカ基体を備えてなるシリカ容器を製造する方法であって、減圧用の孔を有する外型枠を回転させながら外型枠の内壁に基体用原料粉（シリカ粒子）を導入し、所定形状に仮成形する工程、除湿により所定の露点温度以下とした、Ｏ ２ ガスと不活性ガスとを含む混合ガスを、仮成形体の内側から供給し、外型枠内のガスを換気して、外型枠内における湿度を調整しつつ、仮成形体を外周側から減圧しながら、炭素電極による放電加熱溶融法により仮成形体の内側から加熱することによって、仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、内側部分を溶融ガラス体とし、シリカ基体を形成する工程、を含むシリカ容器の製造方法である。これにより、高寸法精度を有し、炭素及びＯＨ基の含有量が極めて少ないシリカ容器を、シリカを主成分とする粉体を主原料として低コストで製造できるシリカ容器の製造方法、並びにこのようなシリカ容器が提供される。

Abstract translation: 本发明公开了一种二氧化硅容器的制造方法，该二氧化硅容器具有旋转对称性的二氧化硅基体，其特征在于，包括：将具有所述基材的原料粉末（二氧化硅粒子）导入并设置在外模具的内壁上的工序， 在旋转外模时抽出的孔，并将粉末临时模塑成给定的形状; 并且从临时成型物体的内部供给包含O 2气体和惰性气体并且已经被除湿以具有给定或低露点的混合气体以替换外部模具中存在的气体的步骤，以及 调节外模具内的湿度，同时通过利用碳电极放电加热熔融的方法将临时成型物体从临时成型物体的内部加热，同时从外周侧排出预成型物体 从而将临时成型物体的外周部分转换为烧结物体，并将内部部分转化为熔融玻璃物体以形成二氧化硅基底。 因此，以作为主要原料的以二氧化硅为主要成分的粉末，可以低成本地制造尺寸精度高，碳和OH基含量极低的二氧化硅容器。 还提供了二氧化硅容器。

公开(公告)号：WO2010010915A1

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/JP2009/063168

申请日：2009-07-23

Applicant: 株式会社ニコン ,  吉成 俊雄 ,  安住 美菜子 ,  木村 幸泰

Inventor： 吉成　俊雄 ,  安住　美菜子 ,  木村　幸泰

IPC: G03F1/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1469 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/50

Abstract: 　フォトマスク用光学部材は、合成石英ガラスにＴｉＯ ２ を添加してなる光学部材である。ＴｉＯ ２ は３．０から６．５重量パーセント含有される。フォトマスク用光学部材の製造方法は、石英ガラスインゴットを合成した後、平板状の所定形状に成形し、その後、酸化雰囲気中でアニールする。アニールにより石英ガラスインゴット中のＴｉ ３＋ をＴｉ ４＋ に変化させてＴｉ ３＋ による光の吸収を低減することができる。波長３６５ｎｍの光に対する透過率が９０％以上であるので、波長３６５ｎｍ付近でも実用上十分な透過率を有し、かつ石英ガラスより熱膨張しにくい。

Abstract translation: 通过将TiO2添加到合成石英玻璃中来提供光掩模用光学部件。 光学部件含有3.0〜6.5重量％的TiO 2。 在制造光学构件的方法中，在合成石英玻璃锭之后，将锭以预定的平板形状形成，然后在氧化气氛中退火。 通过将石英玻璃锭中的Ti 3+通过退火改变为Ti4 +，可以减少由于Ti3 +引起的光吸收。 由于对波长365nm的光的透射率为90％以上，所以即使对于波长接近365nm的光，光学部件也具有足够的透射率，与石英玻璃相比热不易膨胀。

公开(公告)号：WO2008031742A3

公开(公告)日：2008-05-22

申请号：PCT/EP2007059217

申请日：2007-09-04

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD ,  WEBER JUERGEN ,  SATO TATSUHIRO ,  SCHNEIDER RALF ,  HOFMANN ACHIM ,  GEBAUER CHRISTIAN

Inventor： WEBER JUERGEN ,  SATO TATSUHIRO ,  SCHNEIDER RALF ,  HOFMANN ACHIM ,  GEBAUER CHRISTIAN

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03C4/20

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C4/20 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3435 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54

Abstract: The invention starts from a known component of quartz glass for use in semiconductor manufacture, which component at least in a near-surface region shows a co-doping of a first dopant and of a second oxidic dopant, said second dopant containing one or more rare-earth metals in a concentration of 0.1-3% by wt. each (based on the total mass of SiO 2 and dopant). Starting from this, to provide a quartz glass component for use in semiconductor manufacture in an environment with etching action, which component is distinguished by both high purity and high resistance to dry etching and avoids known drawbacks caused by co-doping with aluminum oxide, it is suggested according to the invention that the first dopant should be nitrogen and that the mean content of metastable hydroxyl groups of the quartz glass is less than 30 wtppm.

Abstract translation: 本发明从用于半导体制造的已知石英玻璃部件开始，该部件至少在近表面区域中显示第一掺杂剂和第二氧化掺杂剂的共掺杂，所述第二掺杂剂包含一种或多种稀有 - 浓度为0.1-3重量％的金属 - 金属。 各自（基于SiO 2和/或掺杂剂的总质量）。 从这个角度出发，为了在具有蚀刻作用的环境中提供用于半导体制造的石英玻璃部件，该部件以高纯度和高抗干法蚀刻为特征，并且避免了由于与氧化铝共掺杂导致的已知缺陷， 根据本发明建议，第一掺杂剂应该是氮，并且石英玻璃的亚稳态羟基的平均含量小于30重量ppm。