公开(公告)号：US5679125A

公开(公告)日：1997-10-21

申请号：US498157

申请日：1995-07-05

Applicant: Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Norio Komine

Inventor： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Norio Komine

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03B37/075 ,  C03C13/00 ,  G02B6/00

CPC classification number: G03F7/70058 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y10S65/90

Abstract: A method for producing a synthetic silica glass for use with vacuum ultraviolet light comprises the steps of: (a) producing a soot preform; (b) heating the soot preform in an atmosphere containing fluorine to obtain a fluorine-doped soot preform; (c) consolidating the fluorine-doped soot preform to obtain a fluorine-doped synthetic silica glass; and (d) heating the fluorine-doped synthetic silica glass in an atmosphere containing hydrogen gas to obtain a synthetic silica glass doped with fluorine and hydrogen molecules. A synthetic silica glass having both a high transmittance and high ultraviolet light resistance with respect to light in the vacuum ultraviolet wavelength range can be produced.

Abstract translation: 一种用于真空紫外光的合成石英玻璃的制造方法包括以下步骤：（a）制造烟灰预制件; （b）在含氟气氛中加热烟炱预制件以获得掺氟烟炱预制件; （c）固结氟掺杂烟炱预制件以获得掺氟合成石英玻璃; 和（d）在含有氢气的气氛中加热氟掺杂的合成石英玻璃，得到掺有氟和氢分子的合成二氧化硅玻璃。 可以制造在真空紫外线波长范围内相对于光具有高透射率和高耐紫外光性的合成二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US4426216A

公开(公告)日：1984-01-17

申请号：US337451

申请日：1982-01-06

Applicant: Shin Satoh ,  Kenzo Susa ,  Iwao Matsuyama ,  Tsuneo Suganuma

Inventor： Shin Satoh ,  Kenzo Susa ,  Iwao Matsuyama ,  Tsuneo Suganuma

IPC: C03B19/12 ,  C03C1/00 ,  C03B19/06

CPC classification number: C03B19/12 ,  C03C1/006 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  Y10S65/901

Abstract: Optical glass is produced by heating a porous gel to a high temperature to partly sinter it, heating it in a chlorine-containing atmosphere to subject it to hydroxyl group removal treatment, and then further heating it to sinter it. The optical glass produced by this process does not rise in bubbles even when heated.

Abstract translation: 通过将多孔凝胶加热至高温部分烧结而制成光学玻璃，在含氯气氛中加热，进行羟基去除处理，然后进一步加热烧结。 通过该方法制造的光学玻璃即使在加热时也不会起泡。

公开(公告)号：US4221825A

公开(公告)日：1980-09-09

申请号：US58471

申请日：1979-07-18

Applicant: Pierre Guerder ,  Andre Ranson

Inventor： Pierre Guerder ,  Andre Ranson

IPC: C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  C03C17/02 ,  C03C25/02 ,  G02B1/10

CPC classification number: C03B37/01413 ,  C03B37/014 ,  C03B37/01426 ,  C03C3/06 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2207/81 ,  C03B2207/85 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/44 ,  Y10S65/16

Abstract: The present invention relates to a process for the continuous manufacture of vitreous synthetic silica doped with fluorine. This process consists of decomposing a silicon compound free of hydrogen in the flame of an inductive plasma burner, thereby forming silica upon reacting with the oxygen contained in the burner feed gas. A gaseous inorganic fluorine compound free of hydrogen, is sent into the flame preferably from outside the burner. Said fluorine compound simultaneously with the silicon compound decomposes whereby fluorine is introduced into the silica, lowering its index of refraction. The doped silica is then deposited on a heat-stable support in the form of a vitreous mass. The doped synthetic silica is particularly useful for making preforms for optical transmission fibers.

Abstract translation: 本发明涉及连续制造掺杂有氟的玻璃态合成二氧化硅的方法。 该方法包括在感应等离子体燃烧器的火焰中分解不含氢的硅化合物，从而在与燃烧器进料气体中包含的氧反应时形成二氧化硅。 不含氢的气体无机氟化合物优选从燃烧器外部送入火焰中。 所述氟化合物与硅化合物同时分解，由此将氟引入二氧化硅中，降低其折射率。 然后将掺杂的二氧化硅以玻璃体的形式沉积在热稳定的载体上。 掺杂的合成二氧化硅特别可用于制造用于光传输纤维的预成型件。

公开(公告)号：NO902897A

公开(公告)日：1991-01-02

申请号：NO902897

申请日：1990-06-28

Applicant: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES

Inventor： ISHIKAWA SHINJI ,  OHGA YUICHI ,  TSUCHIYA ICHIRO ,  KANAMORI HIROO ,  YOKOTA HIROSHI ,  KYOTO MICHIHISA

IPC: G02B6/00 ,  C03B37/014 ,  C03B37/012

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  Y10S65/16 ,  Y10S65/90

公开(公告)号：WO2016094494A3

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：PCT/US2015064662

申请日：2015-12-09

Applicant: CORNING INC

Inventor： ANNAMALAI SEZHIAN ,  DURAN CARLOS ALBERTO ,  HRDINA KENNETH EDWARD

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/14 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/112 ,  C03C4/00 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/52

Abstract: A doped silica-titania glass article is provided that includes a glass article having a glass composition comprising (i) a silica-titania base glass, (ii) a fluorine dopant, and (iii) a second dopant. The fluorine dopant has a concentration of fluorine of up to 5 wt. % and the second dopant comprises one or more oxides selected from the group consisting of Al, Nb, Ta, B, Na, K, Mg, Ca and Li oxides at a total oxide concentration from 50 ppm to 6 wt.%. Further, the glass article has an expansivity slope of less than 0.5 ppb/K2 at 20⃘C. The second dopant can be optional. The composition of the glass article may also contain an OH concentration of less than 100 ppm.

Abstract translation: 提供掺杂二氧化硅 - 二氧化钛玻璃制品，其包括具有玻璃组合物的玻璃制品，所述玻璃组合物包含（i）二氧化硅 - 二氧化钛基底玻璃，（ii）氟掺杂剂和（iii）第二掺杂剂。 氟掺杂剂的氟浓度高达5wt。 ％，第二掺杂剂包含一种或多种选自Al，Nb，Ta，B，Na，K，Mg，Ca和Li氧化物的氧化物，总氧化物浓度为50ppm至6wt。％。 此外，玻璃制品在20℃时的膨胀斜率小于0.5ppb / K2。 第二掺杂剂可以是任选的。 玻璃制品的组成也可以含有小于100ppm的OH浓度。

公开(公告)号：WO2014128148A3

公开(公告)日：2014-11-27

申请号：PCT/EP2014053199

申请日：2014-02-19

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

Inventor： KUEHN BODO

IPC: C03C4/00 ,  C03B19/01 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03C4/04 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B1/02 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention relates to an optical component made of synthetic quartz glass for use in an ArF excimer laser lithography process with an applied wavelength of 193 nm, comprising a glass structure substantially free of oxygen defect sites, a hydrogen content ranging from 0.1 x 1016 molecules/cm3 to 1.0 x 1018 molecules/cm3, an SiH group content of less than 2 x 1017 molecules/cm3, and a hydroxyl group content ranging from 0.1 to 100 wt. ppm, said glass structure having a fictive temperature of less than 1070 °C. The aim of the invention is to allow a reliable prediction of the compacting behavior when using UV laser radiation with the applied wavelength on the basis of a measurement of the compacting behavior using a measured wavelength of 633 nm. This is achieved by an optical component design in which the component undergoes a laser-induced change in the refractive index in response to irradiation by means of a radiation with a wavelength of 193 nm using 5x109 pulses with a pulse width of 125 ns and a respective energy density of 500 µJ/cm2 at a pulse repetition frequency of 2000 Hz, said change totaling a first measured value M193nm when measured using the applied wavelength of 193 nm and totaling a second measured value M633nm when measured using a measured wavelength of 633 nm, wherein M193nm/M633nm

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用具有193nm的波长使用的光合成的石英玻璃部件，用玻璃结构基本没有氧缺陷，在0.1×1016分子/立方厘米至1的范围内的氢含量 0×1018分子/厘米3，SiH基团的含量小于2×1017摩尔/厘米3，并且具有羟基的0.1重量和100ppm之间的范围内，其中所述玻璃结构的含量为少的假想温度 具有1070℃ 为了在633测量波长为使得能够与所使用的波长的紫外激光辐射使用时，压实行为的可靠预测从Kompaktierungsverhaltens的测量开始，该光学装置的结构，提出了，这是对照射的193纳米与5×10 9的波长的辐射 用的125毫微秒的脉冲宽度和各500μJ/ cm 2的能量密度和2000Hz的与折射率的激光诱导的变化的脉冲重复频率的脉冲进行反应，所述量在测量用的193nm的第一测量值M193nm和测量与633nm的测定波长使用波长 第二测量值M633nm的产率，其中：M193nm / M633nm <1.7。

公开(公告)号：WO2013118389A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：PCT/JP2012/082369

申请日：2012-12-13

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 平野　正晃 ,  春名　徹也 ,  田村　欣章

IPC: C03B37/012 ,  C03B37/00 ,  C03C13/04

CPC classification number: C03B37/01815 ,  C03B37/01807 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/50 ,  C03B2207/90 ,  G02B6/02

Abstract: (1)平均粒径が１ｍｍ直径以下であるアルカリ金属塩原料を用い、このアルカリ金属塩原料を加熱して生成したアルカリ金属塩の蒸気をキャリアガスとともに石英系のガラスパイプの一端側からガラスパイプの内部に供給し、ガラスパイプの長手方向に相対的に移動する熱源によりガラスパイプを加熱して、アルカリ金属を酸化反応させてガラスパイプの内側に熱拡散させる熱拡散工程と、(2)この熱拡散工程後のガラスパイプを中実化してコアロッドを作製する中実化工程と、(3)この中実化工程で作製されたコアロッドの周囲にクラッド部を付加するクラッド部付加工程と、を備える。

Abstract translation: 光纤预制棒的制造方法包括：（1）使用平均粒径为1mm以下的碱金属盐原料的热扩散工序，与载气一起供给通过加热产生的碱金属盐蒸气 将碱金属盐原料从二氧化硅系玻璃管的一端侧插入到玻璃管内，通过在玻璃管的长度方向上相对移动的热源对玻璃管进行加热，并使玻璃中的碱金属热扩散 管通过氧化反应; （2）使经过热扩散步骤的玻璃管固化的固化步骤以制备芯棒; 和（3）用于在固化步骤中制造的芯棒周围添加包层部分的包层部分添加步骤。

公开(公告)号：WO2013084765A1

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：PCT/JP2012/080714

申请日：2012-11-28

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 中西　哲也 ,  小西　達也 ,  桑原　一也

IPC: G02B6/00 ,  C03B37/027 ,  C03C25/10 ,  G02B6/036 ,  G02F1/35

CPC classification number: G02B6/028 ,  C03B37/02718 ,  C03B37/02727 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2205/56 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046

Abstract: 　光伝送ネットワークにおいて好適に用いられる安価で低損失の光ファイバを提供する。光ファイバは、中心コア、光学クラッドおよびジャケットを備える。中心コアは、相対屈折率差が０.２％以上０.３２％以下であり、屈折率体積が９％・μｍ ２ 以上１８％・μｍ ２ 以下である。ジャケットは、相対屈折率差が０.０３％以上０.２０％以下である。中心コアを構成するガラスの仮想温度が１４００℃以上１５６０℃以下であり、中心コアに残留する応力が圧縮応力であり、２ｍファイバカットオフ波長が１３００ｎｍ以上であり、ファイバ長１００ｍでのカットオフ波長が１５００ｎｍ以下であり、波長１５５０ｎｍにおける実効断面積が１１０μｍ ２ 以上であり、波長１５５０ｎｍにおける伝送損失が０.１９ｄＢ／ｋｍ以下である。

Abstract translation: 提供一种适用于光传输网络的便宜且低损耗的光纤。 光纤包括中心芯，光学包层和外壳。 中心芯的相对折射率差在0.2％至0.32％之间，折射率体积在9％·mum2和18％·mum2之间。 护套的相对折射率差为0.03％至0.20％。 构成中心芯的玻璃的假想温度在1400℃和1560℃之间。 中心芯中的应力是压应力。 2m光纤截止波长至少为1300nm。 纤维长度为100μm的截止波长为1500nm以下。 在1,550nm波长处的有效截面为至少110mum2。 在1,550nm波长处的传输损耗为0.19dB / km或更小。

公开(公告)号：WO2012005333A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：PCT/JP2011/065603

申请日：2011-07-07

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  宮坂 順子 ,  小池 章夫

Inventor： 宮坂　順子 ,  小池　章夫

IPC: C03B20/00 ,  B29C33/38 ,  C03B8/04 ,  C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03B20/00 ,  B29C33/38 ,  B29K2909/08 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  G03F7/0002

Abstract: 　本発明は、ＴｉＯ ２ 濃度が３～８質量％であり、ＯＨ濃度が５０質量ｐｐｍ以下であり、波長３６５ｎｍにおける厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ ３６５ が９５％以上である、ＴｉＯ ２ 含有石英ガラス基材に関する。

Abstract translation: 公开了一种含TiO 2的石英玻璃基板，其中，TiO 2浓度为3-8质量％，OH浓度为50质量ppm以下，在365nm的波长下，每1mm厚的内部透射率（T365）为 至少95％。

公开(公告)号：WO2011016177A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：PCT/JP2010/004228

申请日：2010-06-25

Applicant: 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

Inventor： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC: C03B20/00 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06

CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/32 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  C30B35/002 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/2982

Abstract: 　本発明は、回転対称性を有するシリカ基体を備えてなるシリカ容器を製造する方法であって、減圧用の孔を有する外型枠を回転させながら外型枠の内壁に基体用原料粉（シリカ粒子）を導入し、所定形状に仮成形する工程、除湿により所定の露点温度以下とした、Ｏ ２ ガスと不活性ガスとを含む混合ガスを、仮成形体の内側から供給し、外型枠内のガスを換気して、外型枠内における湿度を調整しつつ、仮成形体を外周側から減圧しながら、炭素電極による放電加熱溶融法により仮成形体の内側から加熱することによって、仮成形体の外周部分を焼結体とするとともに、内側部分を溶融ガラス体とし、シリカ基体を形成する工程、を含むシリカ容器の製造方法である。これにより、高寸法精度を有し、炭素及びＯＨ基の含有量が極めて少ないシリカ容器を、シリカを主成分とする粉体を主原料として低コストで製造できるシリカ容器の製造方法、並びにこのようなシリカ容器が提供される。

Abstract translation: 本发明公开了一种二氧化硅容器的制造方法，该二氧化硅容器具有旋转对称性的二氧化硅基体，其特征在于，包括：将具有所述基材的原料粉末（二氧化硅粒子）导入并设置在外模具的内壁上的工序， 在旋转外模时抽出的孔，并将粉末临时模塑成给定的形状; 并且从临时成型物体的内部供给包含O 2气体和惰性气体并且已经被除湿以具有给定或低露点的混合气体以替换外部模具中存在的气体的步骤，以及 调节外模具内的湿度，同时通过利用碳电极放电加热熔融的方法将临时成型物体从临时成型物体的内部加热，同时从外周侧排出预成型物体 从而将临时成型物体的外周部分转换为烧结物体，并将内部部分转化为熔融玻璃物体以形成二氧化硅基底。 因此，以作为主要原料的以二氧化硅为主要成分的粉末，可以低成本地制造尺寸精度高，碳和OH基含量极低的二氧化硅容器。 还提供了二氧化硅容器。