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公开(公告)号：CN103781935B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：CN201180072988.7
申请日：2011-08-25
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C8/04 , C23C2/006 , C23C4/01 , C23C10/04 , C23C14/042 , C23C16/042
Abstract: 在此叙述配置用以沉积层于一矩形基板上的遮罩结构，例如配置用以沉积层于矩形基板上的边缘排除遮罩。遮罩结构包括遮罩框，用于在层沉积过程中遮盖基板的边缘，其中遮罩框包括至少两个遮罩框侧边部分，于至少两个遮罩框侧边部分之间的角落区域形成角落，其中遮罩框是以与矩形基板的边缘重迭的方式成形，使得位于遮罩框侧边部分处的第一重迭宽度大于位于角落区域的第二重迭宽度。
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公开(公告)号：CN103748255B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201180072993.8
申请日：2011-08-25
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/042 , C23C16/042
Abstract: 描述了一种遮蔽配置（300），用以在层沉积时遮蔽基板。遮蔽配置包括掩模结构（340），所述掩模结构形成开口，用以在层沉积时暴露出基板，还包括保护遮罩（150），所述保护遮罩邻接掩模结构，所述保护遮罩保护遮蔽配置的一或多个部分在层沉积时不被涂布，且其中在保护遮罩与掩模结构之间形成有界面（360），并且其中所述掩模结构包括顶部（342），所述顶部延伸超出所述界面，且其中顶部与部分的保护遮罩形成间隙（344）。
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公开(公告)号：CN104619619A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201280075737.9
申请日：2012-09-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·林德伯格
IPC: B65G49/06 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67748 , B65G13/00 , B65G47/52 , B65G49/063 , B65G49/067 , B65G2201/02 , C23C14/50 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/677 , H01L21/67751 , H01L21/6776
Abstract: 提供了一种传输装置，用于沿着传输方向进行基板传输且用于在沿着传输方向延伸的第一传输路径与第二传输路径间进行交换。第一传输路径在垂直于传输方向的转换方向中相对于第二传输路径移开。传输装置包括第一基板支撑组件，定义第一轨道以支撑腔体内的基板或基板载体。传输装置更包括第二基板支撑组件，定义第二轨道以支撑腔体内的基板或基板载体。第一基板支撑组件及第二基板支撑组件至少在转换方向中相对于彼此可移动。
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公开(公告)号：CN103748255A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201180072993.8
申请日：2011-08-25
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/042 , C23C16/042
Abstract: 描述了一种遮蔽配置（300），用以在层沉积时遮蔽基板。遮蔽配置包括掩模结构（340），所述掩模结构形成开口，用以在层沉积时暴露出基板，还包括保护遮罩（150），所述保护遮罩邻接掩模结构，所述保护遮罩保护遮蔽配置的一或多个部分在层沉积时不被涂布，且其中在保护遮罩与掩模结构之间形成有界面（360），并且其中所述掩模结构包括顶部（342），所述顶部延伸超出所述界面，且其中顶部与部分的保护遮罩形成间隙（344）。
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公开(公告)号：CN106165058B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201480077982.2
申请日：2014-04-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用于材料在基板上的沉积的设备。所述设备包括沉积阵列(222)，所述沉积阵列具有三个或更多个阴极(122)，其中所述沉积阵列包括：第一外侧沉积组件(301)，所述第一外侧沉积组件至少包括所述三个或更多个阴极中的第一阴极；第二外侧沉积组件(302)，所述第二外侧沉积组件与所述第一外侧沉积组件相对，所述第二外侧沉积组件(302)至少包括所述三个或更多个阴极中的第二阴极；内侧沉积组件(303)，所述内侧沉积组件包括位于所述第一外侧沉积组件与所述第二外侧沉积组件之间的至少一个内侧阴极。所述第一外侧沉积组件(301)和所述第二外侧沉积组件(302)中的至少一者被配置成用于在相同时间中、在相同基板上、以比所述内侧沉积组件(303)高的速率来沉积材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104619619B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201280075737.9
申请日：2012-09-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·林德伯格
IPC: B65G49/06 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67748 , B65G13/00 , B65G47/52 , B65G49/063 , B65G49/067 , B65G2201/02 , C23C14/50 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/677 , H01L21/67751 , H01L21/6776
Abstract: 提供了一种传输装置，用于沿着传输方向进行基板传输且用于在沿着传输方向延伸的第一传输路径与第二传输路径间进行交换。第一传输路径在垂直于传输方向的转换方向中相对于第二传输路径移开。传输装置包括第一基板支撑组件，定义第一轨道以支撑腔体内的基板或基板载体。传输装置更包括第二基板支撑组件，定义第二轨道以支撑腔体内的基板或基板载体。第一基板支撑组件及第二基板支撑组件至少在转换方向中相对于彼此可移动。
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公开(公告)号：CN103314130B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201180065117.2
申请日：2011-10-24
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/32532 , C23C14/3407 , C23C14/35 , H01J37/3405 , H01J37/345 , H01J37/3452 , H01J37/3455
Abstract: 提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括：旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。
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公开(公告)号：CN105849310A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201380081823.5
申请日：2013-12-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/458 , C23C14/50 , B65G49/06
CPC classification number: C23C16/4587 , C23C14/50
Abstract: 提供一种用于在真空层沉积期间保持基板(20)的保持设备(10)。所述保持设备(10)包括：框架，所述框架具有一或多个框架元件；以及一或多个接触界面(50、500)，所述一或多个接触界面提供在所述框架元件中的一或多个处，并且被配置来接触输送系统的一或多个输送辊(60)，其中所述一或多个接触界面(50、500)的材料的萧氏D硬度在85至90的范围内。
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公开(公告)号：CN104781448A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201280076987.4
申请日：2012-11-15
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01J37/3441 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/564 , C23C14/568 , C23C16/042 , C23C16/4401 , H01J2237/3323 , H01L21/67173 , H01L21/67751 , H01L21/6776
Abstract: 提供了一种用于自基板处理系统的处理腔体取出遮蔽元件或插入遮蔽元件至处理腔体中的方法。基板处理系统包括处理腔体、第一遮蔽元件、及基板传输系统。第一遮蔽元件用于排除材料应用于基板的数个部分。基板传输系统用于传输数个基板或数个基板载体至处理腔体内或至处理腔体外。此方法包括通过基板传输系统传输第一遮蔽元件。
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公开(公告)号：CN103890226A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201180072999.5
申请日：2011-08-09
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/042 , C23C16/042
Abstract: 说明了一种用以形成沉积材料层于基板上的沉积设备。沉积设备包括：基板支撑件，用以支撑基板；以及边缘（660）排除遮罩（640），用以在层沉积期间覆盖基板（610）的周边。遮罩具有至少一框部，该至少一框部定义一孔洞。遮罩的该至少一框部用以根据在遮罩的该至少一框部上沉积的沉积材料的数量来相对于基板移动（670，680）。进一步来说，说明了一种利用边缘排除遮罩来沉积沉积材料层于基板上的方法。
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