公开(公告)号：KR1020150040918A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：KR1020157003473

申请日：2013-05-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코가즈시 ,  후나자키가즈노리 ,  가토히데오

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32128 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32119 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32256 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/334 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4622

Abstract: 플라즈마처리장치는, 그내부에서플라즈마에의한처리를행하는처리용기와, 처리용기밖에배치되어고주파를발생시키는고주파발생기를포함하고, 고주파발생기에의해발생시킨고주파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마발생기구를구비한다. 고주파발생기는, 고주파를발진하는고주파발진기와, 고주파발진기에전력을공급하는전원부와, 고주파발진기에의해발진된고주파를부하측이되는처리용기측에전파하는도파로와, 고주파에의해도파로내에형성되는전압정재파의전압정재파비를전원부로부터공급되는전력에따라가변으로하는전압정재파비가변기구(61)를포함한다.

公开(公告)号：KR1020150010610A

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：KR1020140089101

申请日：2014-07-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코가즈시 ,  후나자키가즈노리 ,  하시모토유노스케

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32183 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/32935 ,  H05H2001/4682

Abstract: [과제] 고주파 발진기의 이상 발진을 적절히 판단하는 것을 과제로 한다.
[해결수단] 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시양태에 있어서, 처리 용기와, 고주파 발진기를 지니고, 이 고주파 발진기에 의해서 발진되는 고주파를 이용하여 처리 용기 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구와, 고주파 발진기에 부여되는 임피던스를 조정하는 임피던스 조정기와, 임피던스 조정기에 의해서 조정되는 임피던스를 변경하고, 임피던스가 변경된 상태에서 고주파 발진기에 의해서 발진되는 고주파인 기본파의 중심 주파수의 성분과, 기본파의 중심 주파수를 중심으로 하는 정해진 주파수 대역의 양단에 존재하는 주변 주파수의 성분에 기초하여, 고주파 발진기의 이상 발진을 판단하는 판단부를 구비했다.

Abstract translation: 提供本发明以适当地确定高频振荡器的异常振荡。 根据本发明实施例的等离子体处理装置包括：处理容器; 等离子体发生设备，其具有高频振荡器，并且通过使用由高频振荡器振荡的高频在处理容器中产生等离子体; 阻抗调节器，其调节给予高频振荡器的阻抗; 以及确定单元，其改变由所述阻抗调节器调节的阻抗，并且基于在改变的阻抗状态下由所述高频振荡器振荡的高频的基本频率的中心频率的分量来确定所述高频振荡器的异常振荡，以及 存在于基本频率的中心频率附近的预定频带的两端的外围频率的分量。

公开(公告)号：KR1020150007257A

公开(公告)日：2015-01-20

申请号：KR1020140086626

申请日：2014-07-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코가즈시 ,  이와오도시히코 ,  가와카미사토루

IPC: H05H1/46 ,  C23C16/511

CPC classification number: H01J37/32311 ,  H01J37/244 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32211 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32238 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299

Abstract: 본 발명은, 마이크로파에 의해 여기되는 플라즈마의 분포 균일성을 유지하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 처리 공간을 구획하는 처리 용기와, 처리 공간에 도입되는 처리 가스를 플라즈마화하기 위한 마이크로파를 발생하는 마이크로파 발생기와, 마이크로파를 복수의 도파관에 분배하는 분배기와, 처리 공간을 밀폐하도록 처리 용기에 설치되며, 분배기에 의해서 복수의 도파관에 분배되는 마이크로파를 처리 공간에 방사하는 안테나와, 복수의 도파관의 각각의 전압을 모니터하는 모니터부와, 모니터부에 의해서 모니터된 전압의 모니터치와 미리 정해진 전압의 기준치의 차에 대응하는 분배기의 분배비의 제어치를, 차와, 이 차에 대응하는 분배기의 분배비의 제어치를 대응시켜 기억하는 기억부로부터 취득하고, 취득한 제어치에 기초하여 분배기의 분배비를 제어하는 제어부를 구비한다.

Abstract translation: 提供本发明以保持由微波激发的等离子体的分布均匀性。 本发明的微波等离子体处理装置包括：分割处理空间的处理容器; 微波发生器，其产生微波以制造以等离子体形式进入处理空间的处理气体; 将微波分配到多个波导中的分配器; 安装在处理容器中的天线，以便密封处理空间并发射由分配器分配到多个波导的微波加工到处理空间; 监视单元，其监视所述多个波导中的每一个的电压; 以及控制单元，其通过将与所述控制器的所述差异进行匹配而从存储单元获取对应于所述监视单元监视的电压的预定电压和监视值之间的差异的所述分配器的分配率的控制值 值，其对应于分配器的分配率的差异，并且基于获得的控制值来控制分配器的分配率。