公开(公告)号：KR100241293B1

公开(公告)日：2000-02-01

申请号：KR1019940013531

申请日：1994-06-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Inventor： 니시가쓰오 ,  데라다가즈오 ,  오오카세와타루 ,  야마가겐이치

IPC: H01L21/304

CPC classification number: C30B31/12 ,  C23C16/46 ,  C30B25/10 ,  G05D23/1934

Abstract: 고속열처리 장치의 온도제어 방법은, 프로세스 튜브 내에 더미 기판을 모의적으로 히터로 가열하여, 더미기판이 목표온도에 도달할 때까지의 기판 승온 패턴과 가열수단이 목표온도에 도달할 때까지의 히터승온 패턴을 프로세스 튜브 내의 각 영역마다 공도검출 수단에 의하여 각각 미리 검출하여 파악하여 놓고, 처리할 기판을 면접촉(face to face) 배열로 되도록 프로세스 튜브 내에 수용하고, 웨이퍼를 가열할 때에, 상기 온도센서에 의하여 각 영역의 온도 및 히터 엘레멘트의 온도를 각각 검출하며, 각 영역의 기판의 온도가 목표온도로 도달하여 안정할 때까지의 사이에서, 상기 각 검출온도와 상기 기판 승온 패턴 및 히터 승온패턴에 의거하여 각 히터를 콘트롤러에 의하여 제어하고, 신속하고도 균일하게 기판을 승온시킨다.

公开(公告)号：KR101384320B1

公开(公告)日：2014-04-14

申请号：KR1020090130685

申请日：2009-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  데라다가즈오

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/02101

Abstract: 본 발명은 패턴 붕괴의 발생을 억제하고, 작업 처리량이 많으며, 유지보수(maintenance) 주기가 긴 초임계 처리 장치 등을 제공한다.
기판(W)에 부착된 액체를 초임계 상태의 처리 유체에 의해 제거하는 초임계 처리 장치(3)에 있어서, 가열부(323)는 처리 용기(31) 내에 공급된 처리 유체를 초임계 상태로 하기 위해 상기 처리 유체를 가열하고, 냉각 기구(322)는 기판(W)이 배치대(321)에 배치될 때까지 기판(W)으로부터의 액체의 증발을 억제하기 위해, 상기 가열부(323)로부터 상기 기판에 열이 전달되는 영역을 강제 냉각한다.

公开(公告)号：KR1020120082365A

公开(公告)日：2012-07-23

申请号：KR1020120003827

申请日：2012-01-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후꾸오까데쯔오 ,  데라다가즈오 ,  기따노다까히로

IPC: H01G9/058 ,  H01G9/155

CPC classification number: Y02E60/13 ,  H01G13/04 ,  H01G11/06 ,  H01G11/34 ,  H01G11/86 ,  H01G13/02 ,  H01M4/04 ,  H01M4/139 ,  Y02E60/122

Abstract: PURPOSE: An apparatus for manufacturing an electrode, and a method thereof, and a computer storage medium are provided to adjust a film thickness of an active material mixture by adjusting a distance between a surface of a corresponding roller itself and the surface of a metal film. CONSTITUTION: A unwind roll(10) unwinds a strip-shaped metal film. A coating part(11) applies an active material mixture on both sides of the metal film. A drying part(12) forms the active material layer by drying the active material mixture on the metal film. A winding roll(13) winds the metal film. The dryer part is arranged in a long direction of the metal film side by side. A plurality of LEDs(30a,30b,30c) emits infrared rays. The drying part is divided into a plurality of regions(Ta,Tb,Tc).

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造电极的设备及其方法和计算机存储介质，以通过调节相应辊本身的表面与金属膜表面之间的距离来调节活性材料混合物的膜厚度 。 构成：展开卷（10）展开条形金属膜。 涂覆部件（11）在金属膜的两面上施加活性物质混合物。 干燥部件（12）通过干燥金属膜上的活性物质混合物形成活性物质层。 卷绕辊（13）卷绕金属膜。 干燥部分并排设置在金属膜的长方向上。 多个LED（30a，30b，30c）发射红外线。 干燥部分被分成多个区域（Ta，Tb，Tc）。

公开(公告)号：KR1020100089752A

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：KR1020100006070

申请日：2010-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  데라다가즈오

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67346 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  B65G49/065 ,  G03F7/70733

Abstract: PURPOSE: A substrate transferring unit and a substrate processing unit are provided to transfer a substrate having a liquid on top by making a liquid undercurrent to a tray. CONSTITUTION: A bottom plate(521) is installed on the top side of a carrier tray(50) and supports a substrate. The carrier tray includes tray members(51,52) having an opening between them. The opening is formed on the bottom of the carrier tray. A transport apparatus horizontally moves the carrier tray. A space forming unit(54) forms a temporal space so that an elevating member passes between the opening and the carrier tray.

Abstract translation: 目的：提供基板转印单元和基板处理单元，以通过向盘托液体下流而将具有液体的基板传送到顶部。 构成：底板（521）安装在托架（50）的顶侧并支撑基板。 托盘包括在它们之间具有开口的托盘构件（51,52）。 开口形成在托盘的底部。 运送装置水平移动托盘。 空间形成单元（54）形成时间空间，使得升降构件在开口和托盘之间通过。

公开(公告)号：KR100181524B1

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019930009205

申请日：1993-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Inventor： 니시히로노부 ,  데라다가즈오

IPC: H01L21/68

Abstract: 피처리 물체를 재치하여 지지하는 복수의 링 트레이가 평행하게 종 방향으로 소정 간격 배치되고, 로드에 의하여 지지된다. 이 링 트레이는 로드와의 연결을 피한 적어도 3개소의 위치에 링 트레이의 중공부에 연통하지 아니한 절결부가 설치된다. 아암에 설치된 지지이빨은 구동장치에 의하여 절결부에 따라서 삽입되고, 지지이빨을 링 트레이를 두고 종방향의 양쪽에 상대적으로 이동시키어 웨이퍼를 링 트레이와 지지이빨과의 사이에서 이동 변환할 수 있다. 이것에 의하여 피처리 물체의 각종의 열처리에 있어서, 피처리물체의 슬립등 방지를 가능하게 하고, 또한, 복수매의 피처리물체를 10번에 이동 변환하여 이동 변환시간을 단축 할 수가 있다.