公开(公告)号：KR101687201B1

公开(公告)日：2016-12-16

申请号：KR1020120099522

申请日：2012-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67248 ,  H01L21/67057

Abstract: 건조처리조건에기인하여변동하는파티클의레벨을안정적으로낮게억제한다. 기판을세정하기위한세정액을저류하는세정조(69)를가지는세정처리부(62)와, 세정조의상방에설치되어휘발성유기용제의증기로이루어지는건조가스및 불활성가스를이용하여기판의건조를행하는건조챔버(65)를가지는건조처리부(61)를구비한배치식의기판처리장치에서, 미리정해진관계에기초하여, 건조챔버내에서다음에행해지는배치처리의배치사이즈에대응하는기판반입시 건조챔버내 온도를설정하고, 건조처리부의건조챔버로기판을반입하기전에, 건조챔버내의온도를설정한기판반입시 건조챔버내 온도로조정한다.

Abstract translation: 可以抑制根据干燥处理条件而变化的颗粒水平以稳定降低。 分批式基板处理装置包括具有清洗槽69的清洗处理单元62，清洗槽69内装有用于清洗基板的清洗液;干燥处理单元61，设置在清洗槽69的上方，并具有配置成在其中进行的干燥室65 在基材上的干燥过程。 基于以前研究的关系，将干燥室的内部温度设定为干燥室的内部温度，对应于在干燥室中进行的下一次批次处理的批次尺寸，并将内部温度设定为 在将基材装入干燥室之前，将干燥室调整为与干燥室的设定内部温度相同。

公开(公告)号：KR1020160134559A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：KR1020160058668

申请日：2016-05-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  나가이다카시 ,  하라히로미

IPC: H01L21/3213 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/31111 ,  B24B37/005 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26

Abstract: 본발명은기판의표면에형성된피막을양호하게에칭할수 있는기판액처리장치(기판액처리방법)를제공하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(8)의표면에형성한피막을에칭액으로액처리하는액처리부(38)와, 상기액처리부(38)에에칭액을공급하는에칭액공급부(39)와, 상기에칭액공급부(39)를제어하는제어부(7)를갖고, 상기제어부(7)는상기피막에대한에칭률이상대적으로낮은상태의에칭액을상기에칭액공급부(39)로부터상기액처리부(38)에공급하여상기액처리부(38)에서상기기판(8)을에칭처리하고, 그후, 상기피막에대한에칭률이상대적으로높은상태의에칭액을상기에칭액공급부(39)로부터상기액처리부(38)에공급하여상기액처리부(38)에서상기기판(8)을에칭처리하도록제어하는것으로하였다.

Abstract translation: 公开了一种基板液体处理装置，其包括：液体处理单元，其用蚀刻液对形成在基板表面上的膜进行液体处理; 蚀刻液供给单元，其向所述液体处理单元供给蚀刻液; 以及控制蚀刻液供给单元的控制器。 控制器被配置为执行控制，使得在蚀刻液供给单元中将具有相对低的蚀刻速率的蚀刻液供给到液体处理单元，使得在液体处理单元中蚀刻基板 然后，从蚀刻液供给单元向液体处理单元供给在膜的蚀刻速度相对较高的状态下的蚀刻液，使得在液体处理单元中蚀刻基板。

公开(公告)号：KR1020160064101A

公开(公告)日：2016-06-07

申请号：KR1020167007674

申请日：2014-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루가와다카히로 ,  후타마타유스케 ,  사토히데아키 ,  하라히로미 ,  가와즈다카히로 ,  시오가와도시유키 ,  사토다카미

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67075

Abstract: [과제] 에칭액을전부교환하지않으면서, 웨이퍼로부터용출되는, 에칭액내의용출성분의농도를결정된일정한범위로유지하여, 웨이퍼에대하여정밀하게에칭처리를실시한다. [해결수단] 에칭방법은, 복수의에칭공정과, 각에칭공정사이의인터벌공정을구비하고있다. 각에칭공정은, 에칭처리에제공된에칭액을제1 설정량만큼배출하고, 신규에칭액을제2 설정량만큼공급하는제1 부분교환패턴을포함한다. 인터벌공정은, 에칭처리에제공된에칭액을제3 설정량만큼배출하고, 신규에칭액을제4 설정량만큼공급하는제2 부분교환패턴을포함한다.

公开(公告)号：KR1020150050455A

公开(公告)日：2015-05-08

申请号：KR1020140148291

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미무라후미히로 ,  사토히데아키 ,  가미카와유지 ,  하라히로미 ,  햐쿠타케히로노부 ,  히라야마츠카사 ,  다카하시슈우헤이

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67075

Abstract: 본발명은, 에칭액의양을적게억제하는것을목적으로한다. 에칭방법은, 에칭처리부내에에칭액을충전하는초기준비공정과, 피처리체에에칭을행하는에칭공정을구비하고있다. 초기준비공정은, 고 Si 농도의신규에칭액을이용한액 공급공정을포함하고, 에칭공정은저 Si 농도의신규에칭액을이용한부분액교환공정을포함한다.

Abstract translation: 本发明的目的是减少蚀刻溶液的量。 蚀刻方法包括用于在蚀刻处理单元中重新填充蚀刻溶液的初始制备工艺和用于对目标物体进行蚀刻的蚀刻工艺。 初始制备方法包括使用具有高浓度Si的新的蚀刻溶液的溶液提供方法。 蚀刻工艺包括使用具有低浓度Si的新的蚀刻溶液的部分溶液交换过程。

公开(公告)号：KR101399820B1

公开(公告)日：2014-05-27

申请号：KR1020100052937

申请日：2010-06-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은, 처리부로부터 배출되는 배액을 회수하여 재이용하는 데 있어서 보다 많은 양의 배액을 회수할 수 있고, 이 때문에 순수의 사용량을 줄일 수 있어서 비용을 절감할 수 있는 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 및 컴퓨터 판독가능한 기억 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
배출부(40)의 하류측에는 제1 배액 라인(42b) 및 제2 배액 라인(44b)이 분기되어 접속되고, 제1 배액 라인(42b) 및 제2 배액 라인(44b)으로부터 각각 처리액 공급부(30)에 배액이 회수액으로서 서로 독립적으로 보내어진다. 배출부(40)로부터 제1 배액 라인(42b) 또는 제2 배액 라인(44b)으로의 배액의 흐름을 전환하는 전환부(41)가 설치되어 있다. 처리액 공급부(30)는, 제1 배액 라인(42b)으로부터 보내어진 회수액 및 제2 배액 라인(44b)으로부터 보내어진 회수액을 선택적으로 처리부(10)에 공급한다.

公开(公告)号：KR101369410B1

公开(公告)日：2014-03-04

申请号：KR1020100082527

申请日：2010-08-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  에시마카즈요시 ,  하라히로미 ,  호시노히로즈미

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/12 ,  H01L21/67057

Abstract: 소형화 및 저가격화 가능한 복수의 세정조를 가지는 초음파 세정 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 초음파 세정 장치(1)는 세정액을 저장하며 피처리체(W)를 침지 가능한 복수의 세정조(10)와, 각 세정조(10)에 설치된 진동자(30)와, 각 진동자(30)에 초음파 진동을 발생시키는 단일의 초음파 발진기(41)를 구비하고 있다. 이 초음파 발진기(41)와 각 세정조(10)의 진동자(30)와의 사이에 이 초음파 발진기(41)에 접속되는 진동자(30)를 전환하는 출력 전환기(50)가 개재되어 있다. 또한, 초음파 발진기(41) 및 출력 전환기(50)를 제어하는 제어기(46)가 설치되어 있다. 이 제어기(46)는 한 세정조(10)의 진동자(30)에 초음파 진동을 발생시키는 타이밍과 다른 세정조(10)의 진동자(30)에 초음파 진동을 발생시키는 타이밍이 겹치지 않도록 초음파 발진기(41) 및 출력 전환기(50)를 제어한다.

公开(公告)号：KR1020100036181A

公开(公告)日：2010-04-07

申请号：KR1020090088513

申请日：2009-09-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  하라히로미

IPC: G05F1/00 ,  G05F1/66 ,  H01L21/02

CPC classification number: H05B1/0244 ,  F24H9/2014 ,  F24H9/2028

Abstract: PURPOSE: A heating unit, a substrate processing apparatus and a method for heating fluid are provided to suppress the variation of heating the fluid according to time variation by controlling a heating apparatus by a time-division method. CONSTITUTION: In a heating unit, a substrate processing apparatus and a method for heating fluid, a heating unit heats fluid. The heating unit comprises a plurality of heaters and controllers. The controller controls the on/OFF of the heater. The controller produces the required power output of the heating unit. The controller produces a period of a heat-up cycle. The controller controls the heating apparatus by a time-division method.

Abstract translation: 目的：提供加热单元，基板处理装置和加热流体的方法，以通过时分方法控制加热装置来抑制根据时间变化来加热流体的变化。 构成：在加热单元中，基板处理装置和加热流体的方法，加热单元加热流体。 加热单元包括多个加热器和控制器。 控制器控制加热器的开/关。 控制器产生加热单元所需的功率输出。 控制器产生一个加热周期。 控制器通过时分方法控制加热装置。

公开(公告)号：KR1020050048632A

公开(公告)日：2005-05-24

申请号：KR1020057004363

申请日：2003-09-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키

IPC: H02P3/08 ,  H02P7/14

CPC classification number: H02P27/00

Abstract: A rotation drive device includes a torque generation circuit (72) for generating torque of a servo motor (30) by voltage supplied from a power source (71), a motor control circuit (73) for controlling rotation of the motor, and a capacitor (76) arranged in the torque generation circuit (72) for detecting the supply voltage level and a lowering time in such a manner that the voltage lowering information detected by the capacitor (76) can be transmitted to an upper node controller (70). The upper node controller (70) stores in advance power recovery information on the voltage lowering and time under an instantaneous power interruption which can be recovered within a predetermined time and motor rotation control pattern information corresponding to the power recovery information and compares the voltage lowering information to the power recovery information and the motor rotation control pattern information, so as to control rotation of the servo motor (30) according to the control signal. Thus, by controlling the rotation while coping with the voltage lowering during drive, it is possible to suppress increase of the drive time, improve the throughput, and suppress vibration caused by the rotation stop as a result of voltage lowering.

Abstract translation: 旋转驱动装置包括用于通过从电源（71）供给的电压产生伺服电动机（30）的转矩的转矩产生电路（72），用于控制电动机的旋转的电动机控制电路（73） （76），其布置在所述转矩产生电路（72）中，用于检测所述电源电压电平和下降时间，使得由所述电容器（76）检测的所述降压信息可以被发送到上级节点控制器（70）。 上级节点控制器70预先存储能够在预定时间内恢复的瞬时电力中断时的电压下降和时间以及与电力恢复信息对应的电动机旋转控制模式信息的电力恢复信息，并将电压下降信息 根据控制信号控制伺服马达（30）的旋转。 因此，通过在驱动期间控制电压降低来控制旋转，可以抑制驱动时间的增加，提高生产量，并且抑制由于电压下降而导致的由于停转引起的振动。

公开(公告)号：KR101987524B1

公开(公告)日：2019-06-10

申请号：KR1020160006297

申请日：2016-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  사토다카미

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

公开(公告)号：KR101837800B1

公开(公告)日：2018-03-12

申请号：KR1020140148291

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미무라후미히로 ,  사토히데아키 ,  가미카와유지 ,  하라히로미 ,  햐쿠타케히로노부 ,  히라야마츠카사 ,  다카하시슈우헤이

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/02

Abstract: 본발명은, 에칭액의양을적게억제하는것을목적으로한다. 에칭방법은, 에칭처리부내에에칭액을충전하는초기준비공정과, 피처리체에에칭을행하는에칭공정을구비하고있다. 초기준비공정은, 고 Si 농도의신규에칭액을이용한액 공급공정을포함하고, 에칭공정은저 Si 농도의신규에칭액을이용한부분액교환공정을포함한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是在很小程度上抑制蚀刻溶液的量。 蚀刻方法包括将蚀刻剂填充到蚀刻处理部分中的初始准备步骤和蚀刻待处理对象的蚀刻步骤。 初始准备步骤，并以供给液体和的步骤，并使用Si浓度的新的蚀刻液中的蚀刻工艺包括使用低Si浓度的新的蚀刻溶液部分液体交换步骤。