公开(公告)号：KR101837800B1

公开(公告)日：2018-03-12

申请号：KR1020140148291

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미무라후미히로 ,  사토히데아키 ,  가미카와유지 ,  하라히로미 ,  햐쿠타케히로노부 ,  히라야마츠카사 ,  다카하시슈우헤이

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/02

Abstract: 본발명은, 에칭액의양을적게억제하는것을목적으로한다. 에칭방법은, 에칭처리부내에에칭액을충전하는초기준비공정과, 피처리체에에칭을행하는에칭공정을구비하고있다. 초기준비공정은, 고 Si 농도의신규에칭액을이용한액 공급공정을포함하고, 에칭공정은저 Si 농도의신규에칭액을이용한부분액교환공정을포함한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是在很小程度上抑制蚀刻溶液的量。 蚀刻方法包括将蚀刻剂填充到蚀刻处理部分中的初始准备步骤和蚀刻待处理对象的蚀刻步骤。 初始准备步骤，并以供给液体和的步骤，并使用Si浓度的新的蚀刻液中的蚀刻工艺包括使用低Si浓度的新的蚀刻溶液部分液体交换步骤。

公开(公告)号：KR1020160019379A

公开(公告)日：2016-02-19

申请号：KR1020150111573

申请日：2015-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  하라히로미 ,  김진현

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67086

Abstract: 본발명에따르면, 기판을양호하게액처리할수 있는기판액처리장치가제공된다. 본발명에서는, 기판(2)을처리액으로처리하는액처리부(3)와, 상기처리액을공급하는처리액공급부(4), 그리고상기처리액을희석하기위한희석액을공급하는희석액공급부(5)를갖는기판액처리장치(1)에있어서, 상기처리액의농도와대기압을검출시키고, 검출된상기처리액의농도가미리설정된농도(설정농도)가되도록상기희석액공급부(5)로부터공급하는상기희석액의양을제어시키는것으로하고, 상기설정농도를, 검출된대기압에따라서보정시키는것으로했다.

Abstract translation: 根据本发明，提供一种可以用液体适当地处理基板的基板液体处理装置。 基板液体处理装置（1）包括用处理液处理基板（2）的液体处理部（3） 供给处理液的处理液供给部（4） 以及供给用于稀释处理液的稀释液的稀释液供给部（5）。 基板液体处理装置检测处理液的浓度和大气压，并控制从稀释液供给部（5）供给的稀释液量，使检测出的处理液浓度成为规定浓度（设定 浓度）。 根据检测到的大气压力校正设定浓度。

公开(公告)号：KR1020160078244A

公开(公告)日：2016-07-04

申请号：KR1020150178176

申请日：2015-12-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미무라후미히로 ,  하라히로미

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248

Abstract: 본발명은기판액처리장치의스루풋을향상시키는것을과제로한다. 본발명에서는, 기판(2)을처리액으로액처리하는기판액처리장치(1)에있어서, 상기처리액을저류하는처리액저류부(3)와, 상기처리액을가열하는처리액가열부[히터(18)]와, 상기처리액가열부를제어하는제어부(8)와, 상기제어부(8)에접속된온도센서(21) 및농도센서(20)를가지고, 상기제어부(8)는, 상기농도센서(20)로상기처리액의농도를계측하며, 상기온도센서(21)로상기처리액의온도를계측하고, 계측된상기처리액의농도에대응하는비점을구하며, 그비점과계측된상기처리액의온도에기초하여상기처리액가열부의출력을제어하는것으로하였다.

Abstract translation: 提供了一种用处理液处理基板（2）并提高生产量的基板液体处理装置（1）。 基板液体处理装置（1）包括：处理液体存储单元（3），其构造为在其中存储处理液体; 被配置为加热处理液体的处理液体加热单元（18）; 配置为控制处理液加热单元的控制器（8） 温度传感器（21）; 和连接到控制器（8）的浓度传感器（20）。 控制器（8）被配置为：用浓度传感器（20）测量处理液的浓度，用温度传感器（21）测量处理液的温度，计算与测量的浓度相对应的沸点 处理液体，并且基于处理液的沸点和测量温度来控制处理液体加热单元的输出。

公开(公告)号：KR1020160115777A

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：KR1020160034664

申请日：2016-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  나가이다카시 ,  하라히로미

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

Abstract: 본발명은농도계측부에의해희석액으로희석된처리액의농도를정상적으로측정할수 없는경우에도기판의액처리를계속해서행하여수율의향상을도모하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(8)을희석액으로희석된처리액으로처리하는액처리부(38)와, 상기처리액을공급하는처리액공급부(39)와, 상기처리액을희석하기위한희석액을공급하는희석액공급부(40)와, 상기희석액으로희석된처리액의농도를계측하는농도계측부[농도센서(54)]와, 상기농도계측부에의해계측한상기희석액으로희석된처리액의농도에따라상기처리액공급부및 희석액공급부를제어하는제어부(7)를갖고, 상기액처리부에서상기기판의처리중에상기농도계측부에의해상기처리액의농도를정상적으로계측할수 없다고판단한경우, 상기처리액및 희석액의공급상태를미리결정된공급상태로유지하여, 상기액처리부에서의상기기판의처리를계속하는것으로하였다.

公开(公告)号：KR1020150091245A

公开(公告)日：2015-08-10

申请号：KR1020150013609

申请日：2015-01-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하라히로미 ,  사토히데아키 ,  가와주다카히로 ,  나가이다카시

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67023 ,  B08B3/08 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/302

Abstract: 본발명은미리정해진농도의약제의수용액을처리액으로서이용하여기판을액처리하는기판액처리장치에있어서기판을처리액으로양호하게처리할수 있도록하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 처리액을처리액저류부에저류해두고, 상기처리액과는상이한농도의약제의수용액을상기처리액저류부에공급하고, 상기처리액저류부로부터상기처리액을배출하여, 상기처리액저류부에저류되는상기처리액을갱신하며, 그때에, 상기처리액저류부에미리정해진양의상기수용액을공급하고, 상기처리액저류부로공급되는상기수용액에함유되는상기약제의양과동일양의약제를함유하는상기처리액을상기처리액저류부로부터배출하는것으로하였다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种通过使用作为规定浓度的化学品的水溶液的处理液令人满意地处理基板的基板液体处理装置。 本发明将处理液储存在处理液储存单元中，将不同浓度的化学品的水溶液供给到处理液储存单元，并从处理液储存单元排出处理液，以更新储存在 处理液体存储单元。 此时，本发明将规定量的水溶液供给到处理液储存单元，并且将包含与供给到处理液的水溶液中所含的化学物质的量相等的化学物质的处理液排出 存储单元。

公开(公告)号：KR101168109B1

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：KR1020090088513

申请日：2009-09-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  하라히로미

IPC: G05F1/00 ,  G05F1/66 ,  H01L21/02

CPC classification number: H05B1/0244 ,  F24H9/2014 ,  F24H9/2028

Abstract: 본 발명은 가열 주기 사이에서 유체에 대한 가열의 정도가 시간의 경과에 따라 크게 변화되는 것을 억제할 수 있는 가열 유닛, 기판 처리 장치 및 유체의 가열 방법을 제공한다.
본 발명의 가열 유닛에 있어서, 제어부(50)는, 요구 출력량(Q)에 기초하여, (A) 요구 출력량(Q)이 소정의 설정값 이하인 경우에는, 가열 주기의 전체 기간에서 항상 온이 되는 가열기(24a)를 두지 않고, 모든 또는 일부의 가열기(24a)를 시분할 제어하는 제어를 행하며, (B) 요구 출력량(Q)이 소정의 설정값보다 큰 경우에는, 가열 주기의 전체 기간에서 모든 또는 일부의 가열기(24a)를 항상 온으로 하고, 나머지 가열기(24a) 중 모든 또는 일부의 가열기(24a)를 시분할 제어하는 제어를 행한다. 이 때에, 가열 주기에 있어서 가열기(24a)가 온이 되는 최대의 수와 최소의 수와의 차가 1 이하가 되도록 한다.

公开(公告)号：KR1020110027568A

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：KR1020100082527

申请日：2010-08-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  에시마카즈요시 ,  하라히로미 ,  호시노히로즈미

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/12 ,  H01L21/67057

Abstract: PURPOSE: An ultrasonic cleaning apparatus, an ultrasonic cleaning method, and a recording medium storing a computer program for executing the ultrasonic cleaning method are provided to generate ultrasonic vibration by a single ultrasonic oscillator, thereby miniaturizing an ultrasonic cleaning apparatus with cleaning tubs. CONSTITUTION: The first cleaning tub(10a) and the second cleaning tub(10b) store cleaning liquid. A vibrator is installed in the cleaning tubs. A mega-sonic controller(40) generates ultrasonic vibration in each vibrator. An output switching device(50) switches a vibrator connected to an ultrasonic oscillator. A controller controls the ultrasonic oscillator and the output switching device.

Abstract translation: 目的：提供一种超声波清洗装置，超声波清洗方法和存储用于执行超声波清洗方法的计算机程序的记录介质，以通过单个超声波振荡器产生超声波振动，从而使具有清洗槽的超声波清洗装置小型化。 构成：第一清洗槽（10a）和第二清洗槽（10b）存储清洗液。 振动器安装在清洁桶中。 超音速控制器（40）在每个振动器中产生超声波振动。 输出切换装置（50）切换连接到超声波振荡器的振动器。 控制器控制超声波振荡器和输出开关装置。

公开(公告)号：KR1020160134559A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：KR1020160058668

申请日：2016-05-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토히데아키 ,  나가이다카시 ,  하라히로미

IPC: H01L21/3213 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/31111 ,  B24B37/005 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26

Abstract: 본발명은기판의표면에형성된피막을양호하게에칭할수 있는기판액처리장치(기판액처리방법)를제공하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(8)의표면에형성한피막을에칭액으로액처리하는액처리부(38)와, 상기액처리부(38)에에칭액을공급하는에칭액공급부(39)와, 상기에칭액공급부(39)를제어하는제어부(7)를갖고, 상기제어부(7)는상기피막에대한에칭률이상대적으로낮은상태의에칭액을상기에칭액공급부(39)로부터상기액처리부(38)에공급하여상기액처리부(38)에서상기기판(8)을에칭처리하고, 그후, 상기피막에대한에칭률이상대적으로높은상태의에칭액을상기에칭액공급부(39)로부터상기액처리부(38)에공급하여상기액처리부(38)에서상기기판(8)을에칭처리하도록제어하는것으로하였다.

Abstract translation: 公开了一种基板液体处理装置，其包括：液体处理单元，其用蚀刻液对形成在基板表面上的膜进行液体处理; 蚀刻液供给单元，其向所述液体处理单元供给蚀刻液; 以及控制蚀刻液供给单元的控制器。 控制器被配置为执行控制，使得在蚀刻液供给单元中将具有相对低的蚀刻速率的蚀刻液供给到液体处理单元，使得在液体处理单元中蚀刻基板 然后，从蚀刻液供给单元向液体处理单元供给在膜的蚀刻速度相对较高的状态下的蚀刻液，使得在液体处理单元中蚀刻基板。

公开(公告)号：KR1020160064101A

公开(公告)日：2016-06-07

申请号：KR1020167007674

申请日：2014-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루가와다카히로 ,  후타마타유스케 ,  사토히데아키 ,  하라히로미 ,  가와즈다카히로 ,  시오가와도시유키 ,  사토다카미

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67075

Abstract: [과제] 에칭액을전부교환하지않으면서, 웨이퍼로부터용출되는, 에칭액내의용출성분의농도를결정된일정한범위로유지하여, 웨이퍼에대하여정밀하게에칭처리를실시한다. [해결수단] 에칭방법은, 복수의에칭공정과, 각에칭공정사이의인터벌공정을구비하고있다. 각에칭공정은, 에칭처리에제공된에칭액을제1 설정량만큼배출하고, 신규에칭액을제2 설정량만큼공급하는제1 부분교환패턴을포함한다. 인터벌공정은, 에칭처리에제공된에칭액을제3 설정량만큼배출하고, 신규에칭액을제4 설정량만큼공급하는제2 부분교환패턴을포함한다.

公开(公告)号：KR1020150050455A

公开(公告)日：2015-05-08

申请号：KR1020140148291

申请日：2014-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미무라후미히로 ,  사토히데아키 ,  가미카와유지 ,  하라히로미 ,  햐쿠타케히로노부 ,  히라야마츠카사 ,  다카하시슈우헤이

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/30604 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67075

Abstract: 본발명은, 에칭액의양을적게억제하는것을목적으로한다. 에칭방법은, 에칭처리부내에에칭액을충전하는초기준비공정과, 피처리체에에칭을행하는에칭공정을구비하고있다. 초기준비공정은, 고 Si 농도의신규에칭액을이용한액 공급공정을포함하고, 에칭공정은저 Si 농도의신규에칭액을이용한부분액교환공정을포함한다.

Abstract translation: 本发明的目的是减少蚀刻溶液的量。 蚀刻方法包括用于在蚀刻处理单元中重新填充蚀刻溶液的初始制备工艺和用于对目标物体进行蚀刻的蚀刻工艺。 初始制备方法包括使用具有高浓度Si的新的蚀刻溶液的溶液提供方法。 蚀刻工艺包括使用具有低浓度Si的新的蚀刻溶液的部分溶液交换过程。