-
公开(公告)号：KR1020120075361A
公开(公告)日：2012-07-06
申请号：KR1020110128293
申请日：2011-12-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67051 , H01L21/68728
Abstract: PURPOSE: A liquid processing device and method are provided to uniformly discharge processing liquid to the bottom of a substrate by installing a plurality of first discharge ports from the location corresponding to a center portion of the substrate to the location corresponding to a peripheral portion of the substrate. CONSTITUTION: A substrate holding unit(30) maintains a substrate(W) with a horizontal state. A rotation driving unit(39) rotates the substrate holding unit. A first nozzle(60) is located at the lower side of the substrate maintained by the substrate holding unit. The first nozzle comprises a plurality of first liquid discharge paths and a plurality of first gas discharge paths. A liquid feed tool(70) supplies liquid to the plurality of first liquid discharge paths. A gas feed tool(80) supplies gas to the plurality of first gas discharge paths.
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和方法，用于通过从对应于基板的中心部分的位置到对应于基板的周边部分的位置安装多个第一排出口来将处理液均匀地排放到基板的底部 基质。 构成：基板保持单元（30）以水平状态维持基板（W）。 旋转驱动单元（39）使基板保持单元旋转。 第一喷嘴（60）位于由基板保持单元维持的基板的下侧。 第一喷嘴包括多个第一液体排出路径和多个第一气体排出路径。 液体供给工具（70）向多个第一液体排出路径供应液体。 气体供给工具（80）向多个第一气体排出路径供给气体。
-
公开(公告)号：KR1020120075350A
公开(公告)日：2012-07-06
申请号：KR1020110124277
申请日：2011-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68785 , H01L21/68792
Abstract: PURPOSE: A liquid processing device and method are provide to effectively wash the bottom of a wafer by crashing fluid spray to the bottom of the wafer without the degradation of energy of the fluid spray. CONSTITUTION: A substrate holding unit(30) maintains a substrate(W) with a horizontal state. A rotation driving unit(39) rotates the substrate holding unit. A first nozzle(60) is located at the lower side of the substrate maintained by the substrate holding unit. The first nozzle comprises a plurality of first liquid discharge paths and a plurality of first gas discharge paths. A liquid feed tool(70) supplies liquid to the plurality of first liquid discharge paths. A gas feed tool(80) supplies gas to the plurality of first gas discharge paths.
Abstract translation: 目的：提供液体处理装置和方法，以通过将流体喷雾撞击到晶片的底部而有效地洗涤晶片的底部，而不会降低流体喷雾的能量。 构成：基板保持单元（30）以水平状态维持基板（W）。 旋转驱动单元（39）使基板保持单元旋转。 第一喷嘴（60）位于由基板保持单元维持的基板的下侧。 第一喷嘴包括多个第一液体排出路径和多个第一气体排出路径。 液体供给工具（70）向多个第一液体排出路径供应液体。 气体供给工具（80）向多个第一气体排出路径供给气体。
-
公开(公告)号：KR1020110139096A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：KR1020110040840
申请日：2011-04-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67028 , H01L21/67173 , Y10T137/0324 , Y10T137/87684 , Y10T137/87877
Abstract: PURPOSE: A flow passage switching apparatus, a processing apparatus, a flow passage switching method, processing method and a storage medium are provided to reduce the number of a driving apparatus for changing a flow route by changing the flow route in only a rotary driving unit. CONSTITUTION: In a flow passage switching apparatus, a processing apparatus, a flow passage switching method, processing method and a storage medium, connection ports(51a~51c) are opened along the longitudinal direction of an outer tube(51). The connection ports are connected to the connection flow rate respectively. A rotary container(53) is inserted into the outer tube to be rotatable. A plurality of opening parts(53a~53c) are installed in the plural connection ports of the outer tube respectively. A rotary driving unit rotates the rotary container.
Abstract translation: 目的：提供流路切换装置，处理装置，流路切换方法，处理方法和存储介质，以通过仅在旋转驱动单元中改变流路来减少用于改变流路的驱动装置的数量 。 构成：在流路切换装置，处理装置，流路切换方法，处理方法和存储介质中，连接口（51a〜51c）沿着外管（51）的长度方向开口。 连接端口分别连接到连接流量。 旋转容器（53）插入到外管中以可旋转。 多个开口部分（53a〜53c）分别安装在外管的多个连接口中。 旋转驱动单元旋转旋转容器。
-
公开(公告)号：KR1020110022542A
公开(公告)日：2011-03-07
申请号：KR1020100082559
申请日：2010-08-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/04 , B08B11/02 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68742 , H01L21/68792
Abstract: PURPOSE: A liquid treating apparatus and a liquid treating method thereof are provided to prevent the treating liquid from sticking to the other side of the substrate after liquid treatment by preventing the treating liquid from remaining on the lift pin. CONSTITUTION: A retaining plate(30) keeps a substrate(W). A lift pin plate(20) includes a lift pin(22) supporting a substrate from underneath. A rotation driving(39) rotates the retaining plate. The treatment liquid supplying unit supplies the treatment liquid to the other side of the substrate maintained by the supporting plate.
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理设备及其液体处理方法，以防止处理液体通过防止处理液体残留在提升销上而在液体处理之后粘附到基板的另一侧。 构成：保持板（30）保持基板（W）。 提升销板（20）包括从下面支撑基板的提升销（22）。 旋转驱动（39）使保持板旋转。 处理液供给单元将处理液供给到由支撑板维持的基板的另一侧。
-
公开(公告)号：KR101819952B1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：KR1020170011934
申请日：2017-01-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은기판을처리액으로처리하는기판액처리장치에관한것이다. 본발명의기판액처리장치는, 기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에고정한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에서승강가능하게설치된승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을고정커버에대하여승강시키기위한컵 승강기구를가지고, 승강컵에는구획벽에승강가능하게삽입관통된승강로드가접속되어있고, 승강로드는컵 승강기구와접속되어있으며, 승강컵이승강할때, 배기구와고정커버와의사이의상기소정의간격은일정하게유지되어, 배기압력의변동을방지한다.
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170027295A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：KR1020160110720
申请日：2016-08-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/67
CPC classification number: G03F7/423
Abstract: 처리에필요한토출형태에따라토출불량없이처리유체를토출하는것이다. 실시형태에따른기판처리장치는, 노즐과배관을구비한다. 노즐은기판을향해처리유체를토출한다. 배관은노즐에처리유체를공급한다. 또한, 배관은내측으로부터차례로제 1 층, 제 2 층및 제 3 층을이루는 3 층구조를가지고, 노즐과제 1 층의선단및 제 3 층의선단이접합되고, 제 1 층의선단이제 2 층의선단보다처리유체의토출방향에대하여돌출되지않은위치에있다.
Abstract translation: 可以根据所涉及的处理的排放类型排出处理流体，而没有排出缺陷。 基板处理装置包括喷嘴和管道。 喷嘴被配置为将处理流体朝向基板排出，并且处理流体通过管道供应到喷嘴。 管线具有从其内侧开始依次具有第一层，第二层和第三层的三层结构。 此外，第一层的前端部和第三层的前端部分接合到喷嘴，并且第一层的前端部位于不比第一层的前端部突出的位置 相对于处理流体的排出方向的第二层。
-
17.发明授权기판 액처리 장치, 기판 액처리 장치의 제어 방법 및 기판 액처리 장치의 제어 방법을 기판 액처리 장치로 실시하게 하는 기록 매체 有权用于控制其基板方法的液体处理装置和用于执行该方法的存储介质
公开(公告)号：KR101621990B1
公开(公告)日：2016-05-17
申请号：KR1020110037938
申请日：2011-04-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , Y10T137/8593
Abstract: 본발명에따른기판액처리장치는, 기판을유지하는배치대와, 배치대를회전시키는회전구동부와, 배치대에배치된상기기판에액체를공급하는액체공급부와, 배치대에배치되어회전하는기판으로부터비산되는액체를아래쪽으로안내하기위해서, 위에서부터차례로마련된, 액체안내상부컵과, 액체안내중앙컵및 액체안내하부컵을포함하고있다. 액체안내상부컵, 액체안내중앙컵및 액체안내하부컵은, 구동기구에의해승강하도록되어있다. 구동기구는, 액체안내중앙컵에접속되어있다.
-
公开(公告)号：KR101373325B1
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020110041924
申请日：2011-05-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: 본 발명에 따른 기판 액처리 장치는, 기판 유지대에 유지되어 회전하는 기판으로부터 비산된 처리액을 안내하는 안내 회전컵과, 안내 회전컵에 의해 안내된 처리액을 하방으로 안내하는 안내컵을 포함하고 있다. 안내컵은, 안내컵 본체의 내주단부로부터 하방으로 연장되는 하방 연장부와, 이 내주단부로부터 하방 연장부보다 내주측으로 연장되고, 안내 회전컵 및 하방 연장부와 함께 안내 회전컵이 회전함으로써 선회하는 기체를 하방으로 안내하는 기체 안내 공간을 형성하는 내주측 연장부를 갖고 있다.
-
公开(公告)号：KR101351740B1
公开(公告)日：2014-01-14
申请号：KR1020090010195
申请日：2009-02-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 도포액을 스핀코팅법에 의해서 기판에 도포하는데 있어서, 기판 이면측으로의 파티클의 부착을 줄여, 이 파티클을 세정하기 위한 용제의 사용량을 억제하는 것이다.
컵(10)내의 스핀척(11)에 유지된 웨이퍼(W)의 둘레가장자리부 이면과 대향하도록, 종단면이 산모양인 도포액의 튀어서 되돌아옴 방지용의 가이드부(2)를 설치하고, 이 가이드부(2)의 안쪽에 연속하여 컵(10)의 아래쪽 외부공간과 구획하는 수평면(22)을 형성하는 이 수평면(22)과 웨이퍼(W)와의 사이의 뒤쪽공간(23)은 웨이퍼(W)의 회전에 의해 분위기가 부압이 되는 공간이며, 상기 수평면(22)에 개구부 (25)를 형성한다. 그리고, 웨이퍼(W)의 회전수에 기초하여 셔터(6)에 의해 개구부 (25)의 개구량을 조정하고, 또한 컵(10)의 바닥부에 접속된 배기로중의 댐퍼의 개도를 제어한다.
기판, 도포, 스핀코팅-
公开(公告)号：KR1020130006349A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：KR1020120073413
申请日：2012-07-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B05B14/00 , B05C11/08 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B15/02 , G03F7/40 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/02052
Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing apparatus and a substrate liquid processing method are provided to reduce the size of the substrate liquid processing apparatus by separating processing solutions from the atmosphere in a collecting cup to omit a gas-liquid separating device. CONSTITUTION: A substrate rotating device(23) rotates a griped substrate(2). A processing solution supply device(24) selectively supplies various kinds of processing solutions to the substrate. A collecting cup(56) collects the processing solutions supplied to the substrate. Liquid collecting units(61,62,63) are formed in the collecting cup to collect the processing solutions. Discharge parts(64,65,66) discharge the processing solutions collected from a solution collecting unit. Exhaust parts(70,71) are formed on the upper side of the discharge part.
Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置和基板液体处理方法，用于通过从处理溶液与收集杯中的大气分离来减小基板液体处理装置的尺寸，以省略气液分离装置。 构成：基板旋转装置（23）旋转夹持的基板（2）。 处理液供给装置（24）选择性地向基板供给各种处理方法。 收集杯（56）收集供应到基底的处理溶液。 液体收集单元（61,62,63）形成在收集杯中以收集处理溶液。 排放部件（64,65,66）排出从溶液收集单元收集的处理溶液。 排气部（70,71）形成在排出部的上侧。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
45
records
(took 0.026 seconds)
