公开(公告)号：KR1020140051243A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：KR1020147000945

申请日：2012-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라카와오사무 ,  요시타카나오토 ,  마츠나가마사타카 ,  오카모토노리히코

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67103

Abstract: 본 발명은 접합 처리 스테이션과, 피처리 기판, 지지 기판, 또는 피처리 기판과 지지 기판이 접합된 중합 기판을, 접합 처리 스테이션에 대하여 반입반출하는 반입반출 스테이션을 갖고, 접합 처리 스테이션은, 피처리 기판 또는 지지 기판에 접착제를 도포하는 도포 장치와, 접착제가 도포된 이들 기판을 정해진 온도로 가열하는 열처리 장치와, 가열된 피처리 기판과 접합되는 지지 기판, 또는 가열된 지지 기판과 접합되는 피처리 기판의 표리면을 반전시켜, 접착제를 개재해 이들 기판을 눌러 접합하는 접합 장치와, 도포 장치, 열처리 장치 및 접합 장치에 대하여, 이들 기판을 반송하기 위한 반송 영역을 갖는다.

公开(公告)号：KR1020130064691A

公开(公告)日：2013-06-18

申请号：KR1020120131164

申请日：2012-11-19

Applicant: 인텔 코포레이션 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라카와오사무 ,  혼다마사루 ,  후쿠토미아키라 ,  다무라다케시 ,  하라다지로 ,  노다가즈타카 ,  브룅자비에르프랑스와

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/301

CPC classification number: B32B38/10 ,  B32B43/006 ,  B32B2457/14 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67288 ,  Y10T156/11 ,  Y10T156/1189 ,  Y10T156/19 ,  Y10T156/1972

Abstract: PURPOSE: A separation apparatus, a separation system, a separation method, and a computer storage medium are provided to easily delaminate an object substrate and a support substrate by using a transport device for moving a first and a second holding part in a horizontal direction. CONSTITUTION: A first holding part(110) maintains an object substrate(W). A second holding part(111) maintains a support substrate(S). A transport device(150) moves the second holding part and the support substrate in vertical and horizontal directions. The transport device includes a vertical transport part(151) and the horizontal transport part(152). A load measurement part(180) measures the load of the object substrate and the support substrate. A control part(350) controls the transport device based on the load measured by the load measurement part.

Abstract translation: 目的：提供分离装置，分离系统，分离方法和计算机存储介质，以通过使用用于沿水平方向移动第一和第二保持部分的传送装置来容易地分层对象基板和支撑基板。 构成：第一保持部（110）维持物体基板（W）。 第二保持部（111）保持支撑基板（S）。 运送装置（150）使第二保持部和支撑基板沿垂直方向和水平方向移动。 输送装置包括垂直输送部（151）和水平输送部（152）。 负载测量部分（180）测量对象基板和支撑基板的负载。 控制部（350）基于由负载测量部测量的负载来控制输送装置。

公开(公告)号：KR1020120091323A

公开(公告)日：2012-08-17

申请号：KR1020127014724

申请日：2011-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라카와오사무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6719 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68721

Abstract: 본 발명의 기판 처리 장치는, 상대적 이동이 가능하고, 또한 양자가 일체가 되어 처리 공간을 형성하는 상부 용기 및 하부 용기와, 하부 용기 내에 설치되고, 기판을 배치하여 유지하는 기판 유지부와, 상부 용기의 하면으로부터 수직 하방으로 연장되는 지지 부재와, 지지 부재에 지지되고, 기판의 외주부를 유지하며, 기판 유지부와의 사이에서 기판의 전달을 행하는 전달 부재를 구비한 전달 아암을 가지며, 전달 아암은 상부 용기와 함께 하부 용기에 대하여 수직 방향으로 상대적으로 이동 가능하고, 기판 유지부의 외주부에는, 전달 부재에 대응하는 위치에 전달 부재를 수용 가능한 노치홈이 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR1020060128903A

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：KR1020067013456

申请日：2004-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  히라카와오사무

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67271 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253 ,  G03F7/2041

Abstract: A coater/developer in which entrance of water is prevented while maintaining a high throughput when a substrate is developed after it is coated with resist and immersion-exposed. A substrate coated with resist and immersion-exposed is mounted on a substrate mounting part, and then the liquid adhering to the surface of the substrate and forming at least a liquid layer is detected by a liquid detecting section. It is judged whether or not the substrate is dried from the results of the detection by the liquid detecting section, and a substrate judged to be dried is dried by a drying means. With such an arrangement, entrance of water into the apparatus can be prevented and a high throughput can be maintained because only a substrate needing to be dried is dried.

Abstract translation: 一种涂布机/显影剂，其中当在其上涂覆有抗蚀剂并浸没曝光后在衬底显影时，防止水的入口，同时保持高通量。 将涂布有抗蚀剂和浸渍曝光的基板安装在基板安装部上，然后通过液体检测部检测粘附到基板的表面并形成至少液体层的液体。 从液体检测部的检测结果判断基板是否干燥，判断为干燥的基板通过干燥机构进行干燥。 通过这样的布置，可以防止水进入装置，并且由于仅需要干燥的基板被干燥，所以可以保持高通量。

公开(公告)号：KR1019960002242B1

公开(公告)日：1996-02-13

申请号：KR1019890007138

申请日：1989-05-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  테루큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 우시지마미츠루 ,  히라카와오사무 ,  아키모토마사미 ,  아나이노리유키 ,  아나이노리유키

IPC: G03F7/16

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05B15/55 ,  B05C11/08

Abstract: Disclosed is a coating apparatus for applying a resist or developing solution to a semiconductor wafer. This coating apparatus comprises a plurality of nozzles supplied with various resist from a resist source and each adapted to drip the different solution onto the wafer, a vessel in which the nozzles is kept on stand-by, while maintaining the liquids in a predetermined state in the vicinity of discharge port portions of the nozzles, when the nozzles need not be operated, and a nozzle operating mechanism for selecting one of the nozzles kept on stand-by in the vessel, and transporting the selected nozzle to the location of the wafer, whereby the resist is applied to the wafer by means of only the nozzle transported by the nozzle operating mechanism.