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    세정 장치 및 그 방법, 도포 현상 장치 및 그 방법, 및 기억 매체
    1.
    发明授权
    세정 장치 및 그 방법, 도포 현상 장치 및 그 방법, 및 기억 매체 有权
    清洁装置，清洁方法，涂料开发设备，涂料开发方法和储存介质

    公开(公告)号：KR101451442B1

    公开(公告)日：2014-10-15

    申请号：KR1020090008423

    申请日：2009-02-03

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 야마모토타로 ,  요시타카나오토 ,  니시키도슈이치 ,  도쿠나가요이치

    IPC: H01L21/302

    CPC classification number: B05D3/105 ,  B05D3/065 ,  B05D5/06 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051

    Abstract: 본 발명은 기판의 표면 및 베벨(bevel)부 및 이면의 세정을 행할 수 있는 세정 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
    세정 장치(100)는, 이면을 하방으로 향하게 한 상태의 기판을 이면으로부터 지지하여 유지하는 2개의 기판 유지 수단[흡착 패드(2), 스핀척(3)]을 구비하고, 지지하는 영역이 겹치지 않도록 하면서 이들 기판 유지 수단 사이에서 기판을 전달한다. 세정 부재[브러시(5)]는 기판 유지 수단에 의해 지지되어 있는 영역 이외의 기판의 이면을 세정하고, 2개의 기판 유지 수단 사이에서 기판이 전달되는 것을 이용하여 기판의 이면 전체를 세정한다. 또한 기판이 스핀척(3)에 의해 유지되어, 회전될 때에, 기판의 이면의 세정과 아울러, 기판 표면 및 베벨부에 각각 세정액을 공급하여, 상기 표면과 베벨부의 세정을 행한다.

    막제거 장치, 막제거 방법 및 기판 처리 시스템
    3.
    发明公开
    막제거 장치, 막제거 방법 및 기판 처리 시스템 失效
    薄膜去除装置，薄膜​​去除方法和基板处理系统

    公开(公告)号：KR1020050083540A

    公开(公告)日：2005-08-26

    申请号：KR1020047007467

    申请日：2002-12-17

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 테라다쇼이치 ,  요시타카나오토 ,  아키모토마사미

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: B23K26/0853 ,  B08B7/0042 ,  B23K26/146 ,  B23K26/147 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6838 ,  H01L23/544 ,  H01L2924/0002 ,  H01L21/6704 ,  G03F7/30 ,  G03F7/422 ,  H01L2924/00

    Abstract: A film removing device, comprising a substrate holding part (60) for holding a substrate having coated film, a laser beam source (63) for partially peeling off the coated film from the substrate by locally radiating laser beam at an alignment mark position (14) on the substrate placed on the substrate holding part, a fluid feed mechanism (113 to 116, 201, 202) having main nozzles (64, 172, 200) for feeding specified fluid to the alignment mark position, a collecting mechanism (90) having sucking ports (66a, 171, 193) for sucking, on the substrate, the specified fluid fed to the alignment mark position together with peeled film components, and guide members (65, 170, 191) for guiding the specified fluid jetted from the main nozzles to the alignment mark position and guiding the fluid to the sucking ports of the collecting mechanism so that the specified fluid and peeled film components do not diffuse nor leak to the periphery of the alignment mark position.

    Abstract translation: 一种膜去除装置，包括用于保持具有涂膜的基板的基板保持部分（60），用于通过在对准标记位置（14）处局部照射激光束从基板部分地剥离涂膜的激光束源（63） ），具有用于将特定流体供给到对准标记位置的主喷嘴（64,172,200）的流体供给机构（113〜116,201,202），收集机构（90），位于基板保持部上的基板上， 具有吸引口（66a，171,193），用于在基板上吸引与剥离的膜部件一起供给到对准标记位置的指定流体，以及引导构件（65,170,191），用于引导从 主喷嘴到对准标记位置并将流体引导到收集机构的吸入口，使得指定的流体和剥离膜部件不会扩散或泄漏到对准标记位置的周边。

    세정 장치 및 그 방법, 도포 현상 장치 및 그 방법, 및 기억 매체
    7.
    发明公开
    세정 장치 및 그 방법, 도포 현상 장치 및 그 방법, 및 기억 매체 有权
    清洁装置，清洁方法，涂料开发设备，涂料开发方法和储存介质

    公开(公告)号：KR1020090087412A

    公开(公告)日：2009-08-17

    申请号：KR1020090008423

    申请日：2009-02-03

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 야마모토타로 ,  요시타카나오토 ,  니시키도슈이치 ,  도쿠나가요이치

    IPC: H01L21/302

    CPC classification number: B05D3/105 ,  B05D3/065 ,  B05D5/06 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051

    Abstract: A cleaning apparatus, cleaning method, coating-developing apparatus, coating-developing method, and storage medium are provided to density the installation space of the cleaning device by cleaning the back of the substrate. The first substrate holding member horizontally maintains the first area of the rear side of substrate. The second substrate holding member horizontally maintains the second part of the substrate which does not overlap with the first area. The surface cleaning nozzle(6) supplies the cleaning solution for the surface to the surface of the substrate. The bevel cleaning nozzle(7) supplies the cleaning solution for the bevel part to the bevel part of the substrate. The cleaning supplying unit supplies the cleaning solution to the rear side of the maintained substrate.

    Abstract translation: 提供清洁装置，清洁方法，涂布显影装置，涂布显影方法和存储介质，以通过清洁基板的背面来密度清洁装置的安装空间。 第一基板保持构件水平地保持基板的后侧的第一区域。 第二基板保持构件水平地保持基板的与第一区域不重叠的第二部分。 表面清洁喷嘴（6）将表面的清洁溶液供应到基材的表面。 斜面清洁喷嘴（7）将斜面部分的清洁溶液供应到基板的斜面部分。 清洁供给单元将清洁溶液供给到维持基板的后侧。

    접합 시스템
    9.
    发明公开
    접합 시스템 审中-实审
    粘接系统

    公开(公告)号：KR1020150026854A

    公开(公告)日：2015-03-11

    申请号：KR1020140108560

    申请日：2014-08-20

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 마츠나가마사타카 ,  요시타카나오토 ,  니시무라사토시

    IPC: H01L21/58 ,  H01L21/677 ,  H01L21/02

    CPC classification number: H01L21/67173 ,  B32B2457/14 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/68 ,  H01L24/75 ,  H01L2224/7515 ,  H01L2224/753 ,  H01L2224/7565 ,  H01L2224/75981 ,  H01L2924/06 ,  H01L2924/15788 ,  H01L2924/20106 ,  H01L2924/00

    Abstract: 본 발명은 풋프린트를 작게 하는 것을 목적으로 한다.
    실시형태에 따른 접합 시스템은, 제1 처리 스테이션과, 제2 처리 스테이션과, 반입출 스테이션을 구비한다. 제1 처리 스테이션은, 제1 반송 영역과, 도포 장치와, 열처리 장치와, 제1 전달 블록을 구비한다. 또한, 제2 처리 스테이션은, 복수의 접합 장치와, 제2 반송 영역과, 제2 전달 블록을 구비한다. 복수의 접합 장치는 제1 기판과 제2 기판을 접합한다. 제2 반송 영역은, 복수의 접합 장치에 대하여 제1 기판 및 제2 기판을 반송하는 영역이다. 제2 전달 블록은, 제1 반송 영역과 제2 반송 영역 사이에서, 제1 기판, 제2 기판 및 중첩 기판을 전달한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是减少足迹。 根据本发明的接合系统包括第一处理站，第二处理站和输入/输出站。 第一处理站包括：第一转印区域，喷涂装置，热处理装置和第一转印块。 此外，第二处理站包括接合装置，第二转印区域和第二转印块。 接合装置结合第一基板和第二基板。 第二转印区域是相对于接合装置转印第一基板和第二基板的区域。 第二传送块在第一传送区域和第二传送区域之间传送第一基板，第二基板和重叠基板。

    접합 시스템, 기판 처리 시스템 및 접합 방법
    10.
    发明公开
    접합 시스템, 기판 처리 시스템 및 접합 방법 审中-实审
    焊接系统，基板加工系统和粘接方法

    公开(公告)号：KR1020140051243A

    公开(公告)日：2014-04-30

    申请号：KR1020147000945

    申请日：2012-06-25

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 히라카와오사무 ,  요시타카나오토 ,  마츠나가마사타카 ,  오카모토노리히코

    IPC: H01L21/20 ,  H01L21/677

    CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67103

    Abstract: 본 발명은 접합 처리 스테이션과, 피처리 기판, 지지 기판, 또는 피처리 기판과 지지 기판이 접합된 중합 기판을, 접합 처리 스테이션에 대하여 반입반출하는 반입반출 스테이션을 갖고, 접합 처리 스테이션은, 피처리 기판 또는 지지 기판에 접착제를 도포하는 도포 장치와, 접착제가 도포된 이들 기판을 정해진 온도로 가열하는 열처리 장치와, 가열된 피처리 기판과 접합되는 지지 기판, 또는 가열된 지지 기판과 접합되는 피처리 기판의 표리면을 반전시켜, 접착제를 개재해 이들 기판을 눌러 접합하는 접합 장치와, 도포 장치, 열처리 장치 및 접합 장치에 대하여, 이들 기판을 반송하기 위한 반송 영역을 갖는다.

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