公开(公告)号：KR100613919B1

公开(公告)日：2006-08-18

申请号：KR1020000042704

申请日：2000-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세게이조 ,  세키구치겐지 ,  이노우에도모히데 ,  미야자키다카노리 ,  우에노긴야

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  B08B2203/0288 ,  Y10S134/902

Abstract: 반도체 웨이퍼와 같은 기판의 세정장치에 있어서, 그 세정구(24)의 헤드(66)에, 순수(純水)공급로(60)로부터 순수가 공급되는 투액성의 합성수지제 코어재 (68)가 설치된다. 코어재(68)의 아래면에는 평면부(72)가 형성되고, 코어재(68)의 바깥면을 피복하도록 다공성 수지시트(69)가 접합된다. 세정구(24)를, 스핀회전중인 기판(W)의 면에 대하여 누르는 로드(31)에 대해 상하방향으로 추력(推力)을 부여하는 에어베어링 실린더(30)가 설치되고, 로드(31)의 내부에 순수공급로 (60)가 마련된다. 순수공급로(60)로부터 공급된 순수는, 코어재(68)와 다공성 수지시트(69)를 투과하여 헤드(66) 밖으로 보내지고, 헤드(66)와 기판(W)의 면 사이에 순수의 유동막이 형성된다. 따라서 기판의 오염이나 손상이 방지되고, 헤드의 형상이 흐트러지지 않는다.

公开(公告)号：KR1020050054493A

公开(公告)日：2005-06-10

申请号：KR1020050044528

申请日：2005-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마사토시 ,  미야자키다카노리 ,  다니야마히로키 ,  아리히사도시카즈

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

公开(公告)号：KR100530700B1

公开(公告)日：2006-04-06

申请号：KR1019980033458

申请日：1998-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마사토시 ,  미야자키다카노리 ,  다니야마히로키 ,  아리히사도시카즈

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

公开(公告)号：KR1020010015426A

公开(公告)日：2001-02-26

申请号：KR1020000042704

申请日：2000-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세게이조 ,  세키구치겐지 ,  이노우에도모히데 ,  미야자키다카노리 ,  우에노긴야

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  B08B2203/0288 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning device, a substrate cleaning system, and a method for the same are provided to protect a substrate from a friction or a scratch and clean efficiently the substrate by maintaining an initial contact pressure. CONSTITUTION: A core material(68) for supplying pure water from a pure water supply path(60) is installed at a head(66) of a cleaning device(24). A plane portion(72) is formed at a lower portion of the core material(68). An outer face of the core material(68) is coated by a porous resin sheet(69). A rod(31) presses the cleaning device(24) to a substrate. An air bearing cylinder(30) is installed to transmit power to the rod(31). The pure water supply path(60) is formed inside the rod(31). The pure water supplied from the pure water supply path(60) is passed through the core material(68) and the porous resin sheet(69). A floating layer of the pure water is formed between the head(66) and the substrate.

Abstract translation: 目的：提供基板清洁装置，基板清洁系统及其方法，以保护基板免受摩擦或划痕，并通过维持初始接触压力有效地清洁基板。 构成：用于从纯净水供应路径（60）供应纯净水的芯材（68）安装在清洁装置（24）的头部（66）上。 在芯材（68）的下部形成有平面部（72）。 芯材（68）的外表面被多孔树脂片（69）涂覆。 杆（31）将清洁装置（24）按压到基板。 安装空气轴承缸（30）以将动力传递到杆（31）。 纯水供给路径（60）形成在杆（31）的内部。 从纯水供给路径（60）供给的纯水通过芯材（68）和多孔树脂片（69）。 在头部（66）和基底之间形成有纯水的漂浮层。

公开(公告)号：KR1019990078403A

公开(公告)日：1999-10-25

申请号：KR1019990010995

申请日：1999-03-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시하라아키라 ,  요네미즈아키라 ,  미야자키다카노리

IPC: H01L21/304

Abstract: 스크러브 세정장치는, 처리할 기판을 실질적으로 수평으로 유지하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 세정액을 공급하는 노즐과, 승강 및 수평이동 가능하게 지지된 아암과, 이 아암의 선단부에 설치된 출력축과, 이 출력축에 직접 또는 간접으로 연결되고, 스핀척상의 기판에 접촉하여 스크러브하는 스폰지브러쉬와, 출력축과 함께 스폰지브러쉬를 아래쪽으로 이동시켜, 스핀척상의 기판에 스폰지브러쉬를 가압하는 가압기구와, 출력축으로 걸어맞춤가능하게 가압기구의 위쪽에 설치되고, 출력축으로 걸어맞춤하여 스폰지브러쉬를 직접회전시키는 모터를 구비한다.

公开(公告)号：KR1019990023678A

公开(公告)日：1999-03-25

申请号：KR1019980033458

申请日：1998-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마사토시 ,  미야자키다카노리 ,  다니야마히로키 ,  아리히사도시카즈

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.