公开(公告)号：KR102020446B1

公开(公告)日：2019-09-10

申请号：KR1020130002954

申请日：2013-01-10

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  국제엘렉트릭코리아 주식회사

Inventor： 강성호 ,  구봉진 ,  주용규 ,  허성호 ,  김희석 ,  박용성

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/205

公开(公告)号：KR1020150061163A

公开(公告)日：2015-06-04

申请号：KR1020130144680

申请日：2013-11-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박재영 ,  강성호 ,  김기철 ,  이선영 ,  이한기 ,  구본영

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L27/0886 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/302 ,  H01L21/306 ,  H01L21/32053 ,  H01L21/76224 ,  H01L21/76802 ,  H01L21/76877 ,  H01L21/823412 ,  H01L21/823418 ,  H01L21/823431 ,  H01L21/823437 ,  H01L21/823475 ,  H01L21/823481 ,  H01L29/0649 ,  H01L29/0657 ,  H01L29/0847 ,  H01L29/34 ,  H01L29/45 ,  H01L29/66545 ,  H01L29/66636 ,  H01L29/66795

Abstract: 본발명은표면처리방법, 이를이용한반도체제조방법및 이에의해제조된반도체장치를제공한다. 이표면처리방법에서는 700℃이하의저온에서비활성가스의플라즈마를이용하여기판의표면을처리하여기판전체가아닌기판의표면에만열을전달하여표면의거칠기를개선할수 있다.

Abstract translation: 本发明提供一种表面处理方法，使用该方法的半导体的制造方法以及由此制造的半导体器件。 在处理表面的方法中，通过在700℃的低温下使用惰性气体的等离子体处理衬底的表面来仅仅传递衬底表面上的热量而不是整个衬底来提高表面的粗糙度 摄氏度以下。

公开(公告)号：KR1020130095495A

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：KR1020120016976

申请日：2012-02-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호 ,  구봉진 ,  김기석 ,  김기철 ,  김익수 ,  주용규 ,  하상철

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/683 ,  H01L21/67303 ,  H01L21/67309

Abstract: PURPOSE: A boat for loading a semiconductor substrate is provided to reduce process time, by not using a dummy wafer. CONSTITUTION: A top plate (20) and a bottom plate (10) are separated from each other. A load (30) is formed between the top plate and the bottom plate. A plurality of buffer plates (40) is arranged with a first gap along the length direction of the load. A supporting part is formed between a first buffer plate and a second buffer plate. The supporting part supports a semiconductor substrate.

Abstract translation: 目的：提供用于加载半导体衬底的船，以通过不使用虚设晶片来减少处理时间。 构成：顶板（20）和底板（10）彼此分离。 在顶板和底板之间形成负载（30）。 多个缓冲板（40）沿着负载的长度方向布置有第一间隙。 在第一缓冲板和第二缓冲板之间形成支撑部。 支撑部支撑半导体基板。

公开(公告)号：KR1020100038825A

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：KR1020080097941

申请日：2008-10-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김년태 ,  정지운 ,  강성호 ,  정순미

IPC: G09G3/36 ,  G09G3/20 ,  G09G5/04 ,  G02F1/133

CPC classification number: G09G3/3648 ,  G09G3/3688 ,  G09G2300/0426 ,  G09G2310/08 ,  G09G2330/021 ,  G09G2330/06 ,  G09G2370/08 ,  G09G2370/14

Abstract: PURPOSE: A timing controller, a display driver and a driver module and a display device having the same, and a method for transferring a signal are provided to improve EMI by reducing the number of PCB layer. CONSTITUTION: A timing controller comprises a clock generator(21) and a data processing unit(22). The clock generator receives a first clock. The clock generator generates a second clock. The clock generator transmits the second clock to a plurality of display drivers. The data processing unit changes data. The data processing unit distributes transformed data into a plurality of display drivers.

Abstract translation: 目的：提供定时控制器，显示驱动器和驱动器模块以及具有该控制器的显示装置和用于传送信号的方法，以通过减少PCB层的数量来改善EMI。 构成：定时控制器包括时钟发生器（21）和数据处理单元（22）。 时钟发生器接收第一个时钟。 时钟发生器产生第二个时钟。 时钟发生器将第二时钟发送到多个显示驱动器。 数据处理单元更改数据。 数据处理单元将变换后的数据分配给多个显示驱动器。

公开(公告)号：KR1020090075044A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：KR1020080000803

申请日：2008-01-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김년태 ,  정순미 ,  이재열 ,  박대진 ,  강성호

IPC: G09G3/20 ,  G09G3/36 ,  G09G3/30

Abstract: A display driver integrated circuit is provided to reduce data transmission speed between a timing controller and a display circuit by reducing a lock time of a delay locked loop. Source drivers(210, 220, 230) operate a panel by using a data signal and a clock signal from a timing controller. Clock signal generators(211, 221, 231) generate an arranged clock signal to drive the operation panel, and a coast signal generator(240) generates a coast signal having more than one active section by corresponding to the operation of a source driver, and controls the arrangement of clock signal generator in the active section disable.

Abstract translation: 提供了一种显示驱动器集成电路，通过减少延迟锁定环的锁定时间来减少时序控制器和显示电路之间的数据传输速度。 源驱动器（210,220,230）通过使用来自定时控制器的数据信号和时钟信号来操作面板。 时钟信号发生器（211,221,231）生成布置的时钟信号以驱动操作面板，并且滑行信号发生器（240）通过对应于源驱动器的操作产生具有多于一个有效部分的滑行信号，以及 控制主动部分中时钟信号发生器的布置禁用。

公开(公告)号：KR1020070038294A

公开(公告)日：2007-04-10

申请号：KR1020050093468

申请日：2005-10-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호 ,  하상철 ,  전교준 ,  이광영 ,  김영민 ,  전두한

IPC: H01L21/20

CPC classification number: C23C16/455 ,  C23C16/4412

Abstract: 원자층 적층을 수행하기 위한 챔버 내부에 반도체 기판을 위치시킨다. 그리고, 상기 원자층 적층을 수행하기 위한 주-공정을 수행하기 이전에 상기 챔버 내부에 아르곤 가스, 질소 가스 등과 같은 불활성 가스를 포함하는 제1 퍼지 가스를 제공한다. 이때, 상기 제1 퍼지 가스는 후속되는 제1 반응 가스를 제공하는 시간에 비해 충분히 장시간에 걸쳐 제공하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 상기 제1 퍼지 가스를 장시간에 걸쳐 제공할 때 상기 제1 퍼지 가스가 경유하는 부재들 즉, 밸브, 유량 제어기 등을 점검한다. 그리고, 상기 부재들의 점검에 근거하여 상기 제1 퍼지 가스가 상기 챔버 내부로 이상 없이 제공되는 가를 확인한다. 상기 확인 결과, 상기 제1 퍼지 가스가 상기 챔버 내부로 이상 없이 제공될 경우에 한정하여 후속되는 주-공정을 수행한다.

公开(公告)号：KR1020070030434A

公开(公告)日：2007-03-16

申请号：KR1020050085082

申请日：2005-09-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최재형 ,  정정희 ,  김대옥 ,  강성호 ,  서종범 ,  이태종 ,  오세훈

IPC: H01L27/108

CPC classification number: H01L21/022 ,  H01L21/02178 ,  H01L21/02181 ,  H01L21/0228 ,  H01L28/40

Abstract: 쓰루풋이 증가한 유전막 구조물 형성 방법 및 이를 이용한 커패시터 형성 방법에 있어서, 배치 타입의 챔버 내에 다수의 반도체 기판을 로딩하고, 상기 챔버 내에서 상기 다수의 반도체 기판 상에 금속 산화물로 이루어지는 제1 유전막을 형성한다. 이어서, 상기 다수의 반도체 기판에 각각 형성된 제2 유전막 상에 누설 전류를 감소시키기 위한 제2 유전막을 형성한다. 이로써, 제1 유전막 및 제2 유전막으로 이루어진 유전막 구조물을 형성할 수 있다. 상기 유전막 구조물을 배치 타입의 챔버 내에서 형성됨으로써, 쓰루풋이 증가하며 공정을 수행하는데 소요되는 비용을 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100677605B1

公开(公告)日：2007-02-02

申请号：KR1020050069117

申请日：2005-07-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임안기 ,  요코다사부로 ,  연경열 ,  마키노모토 ,  김승주 ,  강성호

IPC: G03G5/04 ,  G03G5/047

Abstract: An electrophotographic photoreceptor is provided to reduce image deterioration accompanied with repeated use by improving optical fatigue resistance and thermal fatigue resistance, and therefore to obtain images with high quality. The electrophotographic photoreceptor(5) includes: a conductive support; a primer layer containing a metal oxide, a binder resin and a heat stabilizer; an electric charge generating layer containing a binder resin and a phthalocyanine-based electric charge generating material; and an electric charge transporting layer containing an electric charge transporting material, a binder resin and a heat stabilizer, in order. Particularly, in the primer layer and electric charge transporting layer, a phenol-based heat stabilizer, a mixture of a phenol-based heat stabilizer and a phosphite-based heat stabilizer, or a mixture of a phenol-based heat stabilizer and a thioether-based heat stabilizer, on the basis of the weight of binder resin are contained, respectively.

Abstract translation: 提供一种电子照相感光体，其通过改善耐光疲劳性和耐热疲劳性来降低伴随重复使用而引起的图像劣化，并且因此获得高质量的图像。 电子照相感光体（5）包括：导电性支撑体; 含有金属氧化物，粘合剂树脂和热稳定剂的底漆层; 含有粘合剂树脂和酞菁类电荷产生物质的电荷产生层; 以及依次包含电荷输送材料，粘结剂树脂和热稳定剂的电荷输送层。 特别地，在底漆层和电荷输送层中，酚类热稳定剂，酚类热稳定剂和亚磷酸酯类热稳定剂的混合物，或酚类热稳定剂和硫醚类热稳定剂的混合物， 以粘合剂树脂的重量为基准，分别含有热稳定剂。

公开(公告)号：KR1020070012893A

公开(公告)日：2007-01-30

申请号：KR1020050067113

申请日：2005-07-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이광영 ,  김대옥 ,  김기석 ,  강성호 ,  김영민 ,  전두한

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01L21/67069

Abstract: A shower head is provided to firmly fix a shower nozzle to a manifold by increasing the area of a bracket(300a) for connecting a shower head to a manifold such that the bracket is located between the shower head and the manifold. A shower nozzle(200) injects etchant to the upper surface of a wafer in a chamber, including a body(220) and a pipe connection part(210) protruding from the body. A manifold(100) is fixed to the chamber, separated from the shower nozzle and having a hole(100a) into which the pipe connection part is inserted. A bracket is positioned between the manifold and the body of the shower nozzle to fix the shower nozzle to the manifold, including first and second connection parts(310a,320). The first connection part separates the shower nozzle from the manifold by a predetermined distance, and the second part is positioned on the lateral surface of the body to fix the shower nozzle. A pipe(400) supplies the etchant to the shower nozzle, connected to the pipe connection part. The second connection part is fixed to the body by a bolt. The bracket includes quartz.

Abstract translation: 提供淋浴喷头以通过增加用于将喷头连接到歧管的支架（300a）的面积来将喷淋头牢固地固定在歧管上，使得支架位于淋浴头和歧管之间。 淋浴喷嘴（200）在包括主体（220）和从主体突出的管连接部分（210）的腔室中的晶片的上表面上注入蚀刻剂。 歧管（100）固定到腔室，与淋浴喷嘴分离并具有孔（100a），管连接部分插入其中。 支架定位在歧管和淋浴喷嘴的主体之间，以将淋浴喷嘴固定到歧管，包括第一和第二连接部分（310a，320）。 第一连接部分将淋浴喷嘴与歧管隔开预定距离，并且第二部分位于主体的侧表面上以固定淋浴喷嘴。 管道（400）将蚀刻剂供应到连接到管连接部分的淋浴喷嘴。 第二连接部通过螺栓固定在主体上。 支架包括石英。

公开(公告)号：KR1020070011784A

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：KR1020050066346

申请日：2005-07-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김기석 ,  이석민 ,  김봉현 ,  최정식 ,  이광영 ,  강성호 ,  김대옥

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/31116 ,  H01L21/67069

Abstract: An aging method of a dry etching apparatus is provided to shorten an aging process time for embodying the normal number of particles and etch rate by sufficiently depositing reaction byproducts on the inner wall of an etch chamber within a short interval of time. A test wafer having a processed layer is loaded into a chamber of a dry etching apparatus(S121). Etch gas of a plasma state is supplied to the inside of the chamber to etch the processed layer(S124). An etch process using the etch gas is performed on the processed layer for a time interval of 30~200 minutes to form a reaction byproduct layer on the wafer(S126). The reaction byproduct layer is separated from the wafer, and a heat treatment is performed on the wafer to deposit the separated reaction byproduct on the inner wall of the chamber. In the process for forming the reaction byproduct layer, an etch process performed for a time interval of 15 minutes or more is carried out at least twice.

Abstract translation: 提供了干蚀刻装置的老化方法，以通过在短时间内充分沉积在蚀刻室内壁上的反应副产物来缩短体现正常数量的颗粒和蚀刻速率的老化处理时间。 将具有处理层的测试晶片装载到干蚀刻设备的室中（S121）。 将等离子体状态的蚀刻气体供应到室的内部以蚀刻处理层（S124）。 使用蚀刻气体的蚀刻工艺在处理层上进行30〜200分钟的时间间隔，以在晶片上形成反应副产物层（S126）。 将反应副产物层与晶片分离，并对晶片进行热处理，以将分离的反应副产物沉积在室的内壁上。 在形成反应副产物层的方法中，进行15分钟或更长时间间隔的蚀刻工艺至少进行两次。