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公开(公告)号：KR1020110042970A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：KR1020090099859
申请日：2009-10-20
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: An optical auto-focusing apparatus and a method thereof are provided to measure the amount of a reflected light from a target using a rotary wedge mirror. CONSTITUTION: In an optical auto-focusing apparatus and a method thereof, a light source(20) generating a light. An objective lens(180) measures a sample to be tested. A rotary wedge mirror(60) is arranged between the light source and the objective lens and includes the rotary wedge mirror for reflecting the light from the light source to the objective lens.
Abstract translation: 目的：提供一种光学自动对焦装置及其方法，用于使用旋转楔形镜测量来自目标的反射光的量。 构成：在光学自动对焦装置及其方法中，产生光的光源（20）。 物镜（180）测量要测试的样品。 旋转楔形镜（60）布置在光源和物镜之间，并且包括用于将来自光源的光反射到物镜的旋转楔形镜。
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公开(公告)号：KR1020100062654A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：KR1020080121379
申请日：2008-12-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: A pattern testing apparatus and a method thereof are provided to rapidly inspect the critical dimension and the height of a sample pattern with maintaining high accuracy by analyzing a detected spectrum. CONSTITUTION: A pattern testing apparatus method comprises the following steps. Light is directed on the entire area of a sample in one time(230). The topology data of the sample is created by using the reflected light from the sample(240). A spectrum is detected from the topology data of the sample(250). The detected spectrum is analyzed and the critical dimension and the height of the sample pattern are inspected(270). Light is directed on the entire area of a standard mirror in one time(200). The topology data of the standard mirror is created by using the reflected light from the standard mirror(210). A spectrum is detected from the topology data of the standard mirror(220). The spectrum of the sample is compensated by using the spectrum of the standard mirror(260).
Abstract translation: 目的：提供了一种图案测试装置及其方法，通过分析检测到的光谱，以高精度快速检查样品图案的临界尺寸和高度。 构成：图案测试装置的方法包括以下步骤。 灯一次被引导到样品的整个区域（230）。 通过使用来自样品（240）的反射光来创建样品的拓扑数据。 根据样品的拓扑数据（250）检测光谱。 分析检测到的光谱，检查样品图案的临界尺寸和高度（270）。 灯在一次（200）的指示在标准镜的整个区域。 通过使用来自标准反射镜（210）的反射光来创建标准反射镜的拓扑数据。 根据标准镜（220）的拓扑数据检测到光谱。 通过使用标准反射镜（260）的光谱来补偿样品的光谱。
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公开(公告)号：KR100251482B1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019970009602
申请日：1997-03-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H05K13/08
Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for checking a PCB(Printed Circuit Board) substrate are provided to check a state where components of a PCB substrate are packaged in a more fast and exact manner. CONSTITUTION: A PCB substrate checking apparatus has a plurality of sample soldering parts. An image judging part(11) judges a state of the sample soldering part by realizing the sample soldering parts of the PCB substrate(45) into a flat image through an optical image pick-up unit. A height checking part(21) checks quality due to a height difference by realizing the sample soldering parts of the PCB substrate into a three dimensional image. A control part judges the quality by checking, at the first check, the state of the sample soldering parts of the PCB substrate(45) through either side among the image judging part(11) and the height checking part(21) and, checking, at the second check, the sample soldering parts, which are judged to have a low reliability according to the first check.
Abstract translation: 目的：提供一种用于检查PCB（印刷电路板）基板的装置和方法，以检查以更快速和准确的方式封装PCB基板的组件的状态。 构成：PCB基板检查装置具有多个试样焊接部。 图像判断部分11通过光学图像拾取单元将PCB基板（45）的样品焊接部件实现为平坦图像来判断样品焊接部件的状态。 高度检查部件（21）通过将PCB基板的样品焊接部件实现为三维图像，由于高度差来检查质量。 控制部通过在图像判断部11和高度检查部21之间的任一侧检查PCB基板45的样品焊接部的状态的第一次检查来判定质量， 在第二次检查时，根据第一次检查被判断为具有低可靠性的样品焊接部件。
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公开(公告)号：KR200147348Y1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR2019960039247
申请日：1996-11-08
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김창효
IPC: H04N5/30
Abstract: 본 고안은 피사체에 형성된 소정의 마크를 인식하기 위한 마크인식장치에 관한 것으로서, 조명수단과; 상기 조명수단과 상기 피사체의 광유로상에 개재되어 상기 조명수단으로부터의 광을 상기 피사체를 향해 반사시키며 상기 피사체로부터의 반사광을 투과시키는 빔스플리터와; 상기 빔스플리터를 투과한 광을 포착하는 촬상부를 가지며; 상기 빔스플리터는 편광코팅처리된 편광필터인 것을 특징으로 한다. 이에 의해 편광필터 및 컬러필터에 의해 간섭이 최소화 되어, 정지화상인 피사체의 인식정밀도가 향상되며, 매우 신뢰할 수 있는 마크인식장치가 제공된다.
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公开(公告)号：KR2019980026383U
公开(公告)日：1998-08-05
申请号：KR2019960039247
申请日：1996-11-08
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김창효
IPC: H04N5/30
Abstract: 본고안은피사체에형성된소정의마크를인식하기위한마크인식장치에관한것으로서, 조명수단과; 상기조명수단과상기피사체의광유로상에개재되어상기조명수단으로부터의광을상기피사체를향해반사시키며상기피사체로부터의반사광을투과시키는빔스플리터와; 상기빔스플리터를투과한광을포착하는촬상부를가지며; 상기빔스플리터는편광코팅처리된편광필터인것을특징으로한다. 이에의해편광필터및 컬러필터에의해간섭이최소화되어, 정지화상인피사체의인식정밀도가향상되며, 매우신뢰할수 있는마크인식장치가제공된다.
Abstract translation: 纸提案涉及用于识别形成在物体上，该照明装置的预定标记的标记识别设备; 被设置在所述照明装置和所述对象sikimyeo的矿物油朝向从所述照明装置和用于传送物体robuteoui反射光分束器的对象光反射; 具有图像拾取单元拍摄的透射汉王分束器; 分束器可以是在偏振滤光器的偏振涂层。 这是通过干扰由偏振滤光器和滤色器被最小化，以及静止图像的经销商识别精度在受试者改进，提供了一种其中可以标记识别的可靠性高的装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019960011382A
公开(公告)日：1996-04-20
申请号：KR1019940023458
申请日：1994-09-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01B11/24
Abstract: 광원으로부터 방출되는 여러색상의 광을 측정하고자하는 물체에 조사시키고 그로부터 반사되어 CCD 카메라에 맺히는 반사광의 형성을 유추하여 물체의 형상을 측정하는 물체형상 측정장치가 개시되어 있다. 이는 나의 광원(60)으로부터 RED, GREEN, BLUE 등의 색상을 추출하도록 백색광의 경로상에 복수의 필터부재(71)(81)(91)를 구비하고, 이들 필터부재를 통과하여 물체(50)에 각 색상의 광을 조사시키고, 이 물체로부터 반사되는 각 색상의 광을 CCD 카메라(40)에 맺히게 하여 이로부터 물체의 형상을 유추한다. 이러한 본 발명은 장치의 소형화 색상별 고른 광량 및 원가절감에 유리하다.
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公开(公告)号：KR1020090038966A
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：KR1020070104301
申请日：2007-10-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7085 , G01N21/956 , G03F7/70616 , H01L22/12
Abstract: An apparatus for checking uniformity of a critical dimension of a pattern is provided to shorten a check measurement time by performing a check in an atmosphere state. A Zeeman laser(20) irradiates a beam having a different frequency. A beam controller(60) controls a spot size of a laser beam irradiated form the Zeeman laser. A beam splitter(70) multiply separates a beam having a controlled spot size. An optical system(80) irradiates a multiply separated light to a sample(10) by changing an optical route, and guides an optical route of a beam reflected from the sample. A polarizer(30) transmits a reflected beam having changed polarization information. A detector(40) detects a light amount of the reflected beam. A lock-in amplifier(50) amplifies a beat frequency of the reflected beam detected in the detector and a reference signal frequency irradiated in the Zeeman laser, and measures an amplitude and a phase signal of a laser reflected from the sample at the same time. A check part(90) checks a critical dimension uniformity of a sample pattern.
Abstract translation: 提供了用于检查图案的临界尺寸的均匀性的装置，以通过在大气状态下执行检查来缩短检查测量时间。 塞曼激光器（20）照射具有不同频率的光束。 光束控制器（60）控制从塞曼激光器照射的激光束的光斑尺寸。 分束器（70）将具有受控光斑尺寸的光束分开。 光学系统（80）通过改变光学路线将多重分离的光照射到样品（10），并且引导从样品反射的光束的光路。 偏振器（30）透射具有改变的偏振信息的反射光束。 检测器（40）检测反射光束的光量。 锁定放大器（50）放大检测器中检测到的反射光束的拍频和在塞曼激光器中照射的参考信号频率，同时测量从样品反射的激光的振幅和相位信号 。 检查部件（90）检查样品图案的临界尺寸均匀性。
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公开(公告)号：KR100691325B1
公开(公告)日：2007-03-12
申请号：KR1020050067520
申请日：2005-07-25
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 표시패널의 검사방법과 표시패널의 검사장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표시패널의 검사방법은 표시패널에 밝기불량검출을 위한 패턴을 인가하고 영상 처리를 통해 밝기불량부분을 검출하는 단계와; 상기 표시패널에 다양한 계조를 가진 휘도패턴을 인가하는 단계와; 상기 밝기불량부분의 휘도와 인접한 부분과의 휘도를 비교하여 상기 밝기불량부분의 계조를 계산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 계조를 검출하여 표시패널의 불량여부를 정확히 판단할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100494386B1
公开(公告)日：2005-06-13
申请号：KR1020020073005
申请日：2002-11-22
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: 본 발명은, 웨이퍼의 직경보다 작은 직경으로 상기 웨이퍼 상에 형성된 감광막의 결함을 검사하는 웨이퍼의 감광막 결함검사 시스템 및 감광막 결함검사 방법에 관한 것이다. 본 웨이퍼의 감광막 결함검사 시스템은, 상기 웨이퍼를 수평방향으로 수용하기 위한 웨이퍼수용장치와; 상기 웨이퍼수용장치에 수용된 웨이퍼를 회전시키기 위한 회전수단과; 상기 웨이퍼수용장치에 수용된 웨이퍼의 평면에 대해 수직방향으로 배치되어, 상기 회전수단에 의해 회전되는 상기 웨이퍼 및 상기 감광막을 라인으로 촬상하기 위한 촬상수단과; 상기 촬상수단에 의해 촬상된 영상에 기초하여 상기 감광막의 외곽원주와 상기 웨이퍼의 외곽원주의 관계에 따라 상기 웨이퍼와 상기 감광막의 중심일치 여부를 판단하는 영상데이터처리장치를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 웨이퍼와의 중심 불일치에 따른 감광막의 결함을 자동 검사할 수 있는 웨이퍼의 감광막 결함검사 시스템 및 감광막 결함검사 방법을 제공할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020050042657A
公开(公告)日：2005-05-10
申请号：KR1020030077705
申请日：2003-11-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G01N21/95 , G01N2021/9513
Abstract: 본 발명은 대상물에 대하여 렌즈의 광축이 경사진 위치에서 대상물을 촬영할 때 대상물 전체에 대하여 선명한 상을 맺도록 하기 위한 광학계에 관한 것으로,
본 발명에 따른 광학계는 대상물에서 오는 빛을 굴절시키는 렌즈와, 상기 렌즈에서 굴절된 빛에 의한 상이 맺히는 결상면과, 상기 결상면을 가변시키기 위한 결상면 조절부를 포함하고, 상기 결상면 조절부는 상기 렌즈의 광축에 대한 상기 결상면의 각도를 조절하기 위한 각도 조절부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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