-
公开(公告)号：KR100234538B1
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：KR1019960067453
申请日：1996-12-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 화학기상증착장치 등과 같은 공정챔버에 반응가스를 공급하기 위한 가스공급관을 통과하는 반응가스를 예열시킬 수 있는 예열장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 제조장치용 가스공급관의 예열장치는, 반응가스가 흐르는 가스공급관(2)내에 다수의 통기공(8)들이 형성된 다수의 격벽(7)들을 상기 가스공급관(2)의 내주면에 접촉시켜 취부시키고, 상기 가스공급관(2)의 외주면에 가열관(4)을 취부시키고, 내주면에 냉각관(6)이 취부된 외관(5)으로 상기 가열관(4)이 취부된 가스공급관(2)을 감싸서 이루어진다.
따라서, 공정챔버(1)에 공급되는 반응가스가 공정챔버(1)내로 유입되기 전에 미리 예열토록 함으로써 공정챔버(1) 내에서 최적의 반응조건을 형성할 수 있도록 하여 반도체 장치의 품질 및 수율을 향상시키는 효과가 있으며, 또한 반응가스의 예열에 의하여 파티클의 발생을 최소화하여 공정챔버(1)를 포함하는 가스공급관(2)들의 유지, 보수를 간편하게 하는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019990041352A
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019970061934
申请日：1997-11-21
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 보트의 경사도를 감지하여 웨이퍼를 자동으로 수평조절시키는 자동수평조절장치를 설치함으로써 수평정렬작업시간과 공수를 줄이고, 웨이퍼 가공불량을 방지하게 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치는, 하측에 수평유지되는 베이스를 구비하고, 웨이퍼가 적재되는 보트와, 상기 보트를 공정챔버내로 로딩 및 언로딩하는 엘리베이터와, 상기 보트의 수평여부를 감지하는 센싱수단과, 상기 보트의 베이스와 상기 엘리베이터 사이에 위치하며, 그 간격을 조절함으로써 상기 보트의 수평이 유지되도록 하는 수평조절수단 및 상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 인가받아 상기 수평조절수단에 제어신호를 인가하는 제어부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼의 정확한 수평정렬이 이루어지도록 하고, 정렬시간과 공수를 줄이며, 웨이퍼의 위치이탈을 방지하게 하는 효과를 갖는다.-
公开(公告)号：KR1019980048805A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960067453
申请日：1996-12-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 화학기상증착장치 등과 같은 공정챔버에 반응가스를 공급하기 위한 가스공급관을 통과하는 반응가스를 예열시킬 수 있는 예열장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 제조장치용 가스공급관의 예열장치는, 반응가스가 흐르는 가스공급관(2)내에 다수의 통기공(8)들이 형성된 다수의 격벽(7)들을 상기 가스공급관(2)의 내주면에 접촉시켜 취부시키고, 상기 가스공급관(2)의 외주면에 가열관(4)을 취부시키고, 내주면에 냉각관(6)이 취부된 외관(5)으로 상기 가열관(4)이 취부된 가스공급관(2)을 감싸서 이루어진다.
따라서, 공정챔버(1)에 공급되는 반응가스가 공정챔버(1)내로 유입되기 전에 미리 예열토록 함으로써 공정챔버(1) 내에서 최적의 반응조건을 형성할 수 있도록 하여 반도체 장치의 품질 및 수율을 향상시키는 효과가 있으며, 또한 반응가스의 예열에 의하여 파티클의 발생을 최소화하여 공정챔버(1)를 포함하는 가스공급관(2)들의 유지, 보수를 간편하게 하는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019970077095A
公开(公告)日：1997-12-12
申请号：KR1019960016738
申请日：1996-05-17
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 종형 기상 성장 장치용 캡에 관해 개시한다. 이 기상 성장 장치용 캡은 제1평판, 상기 제1평판과 소정 거리 평행하게 이격되어 있는 제2평판, 상기 제1평판과 제2평판 사이에 적충된 복수개의 단열판 및 상기 단열판들의 외주면에 접하며 상기 제1평판, 제2평판을 연결하는 복수개의 로드를 구비하고, 사기 제1, 2평판, 단열판 및 복수의 로드는 일체로 구성된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면 캡의 모든 구성요소들이 일체형으로 형성되어 있기 때문에 부품조립시 발생한 오염입자에 의한 공정불안정이 해결되고 장치의 설치, 교환 및 유지 관리가 용이해진다.-
公开(公告)号：KR100253094B1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019970066287
申请日：1997-12-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L27/108
CPC classification number: H01L28/84
Abstract: PURPOSE: A method for forming a capacitor of a semiconductor device and the capacitor formed by the method are provided to improve reliability of the device by increasing capacitance of the capacitor through a stable increase in a surface area of a lower electrode material layer. CONSTITUTION: In the method, insulating layers(22) with an uppermost oxide layer(24) are formed in sequence on a semiconductor substrate(20) with a pattern formed thereon, and then a portion of the insulating layers(22) is removed to form a contact hole. Next, the lower electrode material layer(28) of the capacitor is formed over the oxide layer(24) and in the contact hole. The lower electrode material layer(28) is then removed to expose a certain portion of the oxide layer(24), and the oxide layer(24) is undercut from the exposed portion. Next, after cleaning a surface including a lower surface of the lower electrode material layer(28) exposed by undercut of the oxide layer(24), a hemispherical grain process is performed to increase the surface area. Thus, the resultant capacitor has a lower electrode with a hemispherical-shaped surface.
Abstract translation: 目的：提供一种用于形成半导体器件的电容器和由该方法形成的电容器的方法，以通过增加下电极材料层的表面积的稳定增加电容器的电容来提高器件的可靠性。 构成：在该方法中，在其上形成有图案的半导体衬底（20）上依次形成具有最上部氧化物层（24）的绝缘层（22），然后将一部分绝缘层（22）去除 形成接触孔。 接下来，电容器的下电极材料层（28）形成在氧化物层（24）上和接触孔中。 然后去除下电极材料层（28）以暴露氧化物层（24）的某一部分，并且氧化物层（24）从露出部分切下。 接下来，在清洁包括由氧化物层（24）的底切露出的下电极材料层（28）的下表面的表面之后，进行半球形晶粒加工以增加表面积。 因此，所得电容器具有具有半球形表面的下电极。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100253091B1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019970061934
申请日：1997-11-21
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01L21/67259 , H01L21/67098 , H01L21/67754 , H01L21/67766 , Y10S414/135
Abstract: PURPOSE: An elevator apparatus for transferring a wafer boat is provided to allow an automatic control of a horizontal attitude of wafers in the boat. CONSTITUTION: The elevator apparatus automatically adjusts the inclination of the wafer boat(34) so that the wafers(10) in the boat(34) are horizontally maintained. The elevator apparatus includes the wafer boat(34), a base(35) on which the boat(34) is supported, an elevator(37) for loading or unloading the boat(34) into or from a processing chamber, a sensing unit(43) for detecting the inclination of the boat(34) relative to the horizontal, a horizontal control unit(36) which is interposed between the base(35) and the elevator(37) and is drivable to maintain the boat(34) in such a position that the wafers(10) in the boat(34) lie in horizontal planes, and a control unit(44) for receiving information from the sensing unit(43) and, based on the information, outputting a control signal to the horizontal control unit(36).
Abstract translation: 目的：提供一种用于传送晶片舟的电梯装置，以便能够自动控制船中的晶片的水平姿态。 构成：电梯装置自动调节晶片舟（34）的倾斜度，使船体（34）中的晶片（10）水平地保持。 电梯设备包括晶片舟（34），支撑舟（34）的基座（35），用于将船（34）装载或从处理室中卸载的升降机（37），感测单元 （43），其用于检测所述船（34）相对于所述水平面的倾斜;水平控制单元（36），其插入在所述基座（35）和所述电梯（37）之间并且可驱动以维持所述船（34） 在这样一个位置上，舟皿（34）中的晶片（10）位于水平面上，以及用于从感测单元（43）接收信息的控制单元（44），并且基于该信息，将控制信号输出到 水平控制单元（36）。
-
公开(公告)号：KR100245651B1
公开(公告)日：2000-02-15
申请号：KR1019960041510
申请日：1996-09-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼가 적재되는 보트를 수직형 공정튜브의 하측 외부에서 상측 내부로 이송시키는 이송부가 구비된 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 있어서, 상기 이송부는, 소정의 직경을 갖는 원통형의 하단 및 상기 하단보다 직경이 작으며, 상기 하단에 삽입인출되는 상단으로 구성되는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재, 상기 상단의 최상단의 단부에 상기 보트의 안착이 용이하도록 형성된 판상구조체 및 상기 상단이 상기 하단으로부터 인출되도록 상기 선형부재의 하부로 유압을 가하는 유압부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 이송장치가 설비에서 차지하는 공간을 축소시켜 생산성을 극대화시켰고, 또한 최근의 추세에 맞게 이용할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020000002833A
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019980023770
申请日：1998-06-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A semiconductor wafer boat is provided to prevent fine scratches and slipping of a wafer, improving production and shrinkage rate of the semiconductor device. CONSTITUTION: The semiconductor wafer boat comprises; upper part members(12) and lower part members(13) stacked with many wafer(1); three holder members(14) connecting the upper part member(12) and the lower part member(13); many slots(15) formed on side of the holder(14); projection touching the surface of the wafer(1).
Abstract translation: 目的：提供半导体晶片舟，以防止晶片的细小划痕和滑动，提高半导体器件的生产和收缩率。 构成：半导体晶片舟包括： 与多个晶片（1）堆叠的上部件（12）和下部件（13）; 连接上部构件（12）和下部构件（13）的三个保持构件（14） 许多槽（15）形成在保持器（14）的一侧上; 接触晶片（1）的表面的突起。
-
公开(公告)号：KR100234530B1
公开(公告)日：1999-12-15
申请号：KR1019960035151
申请日：1996-08-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 보트에 관한 것이다.
본 발명은, 피스톤이 상하로 이동할 수 있도록 중앙부에 홀이 형성되어 있고, 복수개의 석영로드에 의해서 서로 연결된 복수의 웨이퍼 받침부를 구비하는 반도체 웨이퍼 보트에 있어서, 상기 웨이퍼 받침부는 중앙부에 상기 홀이 형성된 내부링과 상기 내부링과 소정간격 외부로 이격되어 상기 내부링을 둘러싸는 외부링과 상기 내부링 및 외부링을 서로 연결하는 복수의 연결부가 일체로 형성된 것을 특징으로 한다. 따라서, 웨이퍼 및 석영로드가 환경요인에 의해서 휘어지는 것을 방지함으로써 웨이퍼의 표면이 찢어지는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100187439B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019960005406
申请日：1996-02-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 작업자가 웨이퍼를 카세트에 담거나 카세트에서 웨이퍼를 꺼내어 공정을 수행하기 용이한 위치로 옮기는데 사용하는 반도체 웨이퍼의 이송을 위한 진공척에 관한 것이다.
본 발명은 웨이퍼의 가장자리부를 지지하는 테두리와, 웨이퍼의 중앙부를 지지하는 지지대와, 상기 테두리와 상기 지지대 사이에 형성된 내측홈부와, 몸체부의 내부에 형성되어 상기 내측홈부와 연통하는 진공통로로 구성된 반도체 웨이퍼의 이송을 위한 진공척에 있어서, 상기 내측홈부와 상기 진공통로 사이를 집기관으로 차단하고, 상기 테두리의 내주연을 따라 내부에 진공홀이 형성되어 상기 집기관과 연통되며, 상기 진공홀상에 다수개의 흡입구가 테두리의 표면으로 관통되어 이루어진다.
따라서, 웨이퍼와 접촉하는 접촉면을 줄임으로써 이물질의 전달에 의한 웨이퍼의 오염을 방지하고, 흡입구를 효과적으로 배치하여 흡착력을 증대시킴으로써 안정적으로 웨이퍼를 이송시킬 수 있는 효과가 있다.
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
53
records
(took 0.019 seconds)
