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公开(公告)号：KR100686724B1
公开(公告)日：2007-02-26
申请号：KR1020050057623
申请日：2005-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은, 화학기상증착(CVD)장치에 관한 것으로서, 상부에 반응가스가 공급되는 가스유입공을 갖는 반응챔버를 형성하는 반응기와; 상기 반응챔버 내에서 작업물을 지지하는 지지대와; 상기 가스유입공으로부터 반응가스를 상기 작업물에 분사하며, 중심축선으로부터 반경방향의 외측으로 갈수록 유동길이가 길어지도록 마련된 다수의 노즐공이 형성된 노즐유닛을 갖는 샤워헤드를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 증착막이 균일하게 형성될 수 있는 화학기상증착장치가 제공된다.
Abstract translation: 化学气相沉积设备技术领域本发明涉及一种化学气相沉积设备，包括：用于形成具有供应反应气体的气体入口孔的反应室的反应器; 支持反应室中的工作的支撑; 从工件的气体入口孔注入反应性气体，其特征在于：它包括具有多个形成在设置成使得流体长度变长到外部从所述中心轴线的径向方向上的喷嘴单元的喷嘴孔的喷头。 由此，提供了可以均匀地形成蒸镀膜的化学蒸镀装置。
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公开(公告)号：KR101110635B1
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：KR1020050020123
申请日：2005-03-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 웨이퍼의 표면에 증착되는 막의 두께를 균일화할 수 있도록 하는 반도체 제조장치를 개시한다.
개시한 반도체 제조장치는 웨이퍼의 지지를 위해 반응실 내에 회전 가능하게 설치되는 지지부재와, 웨이퍼 상부로 공정가스를 분산 공급하기 위한 가스공급장치를 포함하며, 가스공급장치는 웨이퍼의 회전중심으로부터의 이격거리가 상호 다른 위치에 형성되는 다수의 가스출구들을 갖춘 가스분배판을 포함하는 것이다.-
公开(公告)号：KR1020080008598A
公开(公告)日：2008-01-24
申请号：KR1020060068042
申请日：2006-07-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/136
CPC classification number: G02F1/136259 , G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/136263
Abstract: A TFT(Thin Film Transistor) substrate and a repair method thereof are provided to include a subsidiary connection member for performing a repair process when generating the short between a gate line and a data line. A data line(200) is insulated and crossed by a gate line. A TFT is formed at the crossing portion of the gate line and data line. A pixel electrode(400) is connected with the TFT. A main connection member connects the data line with a source electrode of the TFT. A subsidiary connection member(100) is located oppositely to the main connection member by interposing the gate line and connects the data line with the source electrode of the TFT. The subsidiary connection member is formed on the same plane with the same materials as the source and drain electrodes of the TFT. When the short between a gate electrode and either the source or drain electrodes occurs, the subsidiary connection member and the main connection member are opened by a laser irradiation process.
Abstract translation: 提供TFT（薄膜晶体管）基板及其修复方法，以包括用于在栅极线和数据线之间产生短路时执行修复处理的辅助连接构件。 数据线（200）被栅极线绝缘并交叉。 在栅极线和数据线的交叉部分形成TFT。 像素电极（400）与TFT连接。 主连接构件将数据线与TFT的源电极连接。 辅助连接构件（100）通过插入栅极线与主连接构件相对地定位，并将数据线与TFT的源电极连接。 辅助连接部件在与TFT的源电极和漏电极相同的材料形成在同一平面上。 当栅电极和源电极或漏电极之间的短路发生时，辅助连接构件和主连接构件通过激光照射工艺打开。
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公开(公告)号：KR100716293B1
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：KR1020050077690
申请日：2005-08-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 기판반송장치에 관한 것으로서, 기판을 지지하는 플레이트를 갖는 기판지지부; 소정의 기판반송방향으로 연장되어 기판지지부를 이동 가능하도록 지지하는 레일부; 및 레일부를 따라 기판지지부를 이동하여 기판을 반송하는 구동부를 포함한다. 이에 의해 기판의 균일성을 확보하도록 기판을 안정적으로 반송할 수 있다.
기판반송장치, 액정표시장치, 균일성, 기판 처짐, 이동식 기판반송지지-
公开(公告)号：KR100676824B1
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：KR1020050077784
申请日：2005-08-24
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: A panel transfer apparatus is provided to easily transfer a panel cassette and accurately control a position of the panel cassette by simplifying a process of transferring the panel cassette. A cassette load chamber(30) has a cassette accommodation portion(31) accommodating a panel cassette(25). A stage(40) is provided on the cassette accommodation portion to support the panel cassette. A transfer unit(50) is provided on the cassette receiving portion to transfer the stage between a loading position and an unloading position. A rotation unit(70) is interposed between the transfer unit and the stage to rotate the stage around a transfer direction of the transfer unit. A sensor(60) is provided in the cassette accommodation portion to detect the panel cassette.
Abstract translation: 通过简化传送面板盒的过程，提供面板传送装置以容易地传送面板盒并精确地控制面板盒的位置。 盒装载室（30）具有容纳面板盒（25）的盒容纳部（31）。 一个台架（40）设置在磁带盒容纳部分上以支撑面板磁带盒。 传送单元（50）设置在盒子接收部分上以在载入位置和卸载位置之间传送载物台。 旋转单元（70）插入在传送单元和平台之间以围绕传送单元的传送方向旋转平台。 传感器（60）设置在盒容纳部分中以检测面板盒。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070002218A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020050057623
申请日：2005-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/52
Abstract: A chemical vapor deposition apparatus is provided to uniformly form deposition layers by increasing a flow length of each nozzle hole in a nozzle unit progressively from a center axis line to an outside of a semi-diameter direction of the nozzle hole. A reactor(30) comprises a reactive chamber(31) having a gas inlet hole(33). A reactive gas is supplied to an upper portion of the gas inlet hole. A support(70) supports a target in the reactive chamber. A shower head(40) sprays the reactive gas to the target from the gas inlet hole. The shower head has a nozzle unit(50) where plural nozzle holes(51) are formed. A flow length of a center axis line of the nozzle hole is shorter than an outside of a semi-diameter direction thereof. Outlet ends(55) of the nozzle holes are uniformly separated from the support. Inlet ends(53) of the nozzle holes at the outside of the semi-diameter direction are farther from the support than the center axis line thereof.
Abstract translation: 提供一种化学气相沉积装置以通过将喷嘴单元中的每个喷嘴孔的流动长度逐渐从喷嘴孔的半径方向的中心轴线向外侧逐渐增加来均匀地形成沉积层。 反应器（30）包括具有气体入口孔（33）的反应室（31）。 反应气体被供应到气体入口孔的上部。 支撑件（70）支撑反应室中的目标。 淋浴头（40）从气体入口孔向反应气体喷射反应气体。 淋浴头具有形成有多个喷嘴孔（51）的喷嘴单元（50）。 喷嘴孔的中心轴线的流动长度比其半径方向的外侧短。 喷嘴孔的出口端（55）与支架均匀分离。 在半径方向外侧的喷嘴孔的入口端（53）比支撑体的中心轴线更远。
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公开(公告)号：KR100768896B1
公开(公告)日：2007-10-19
申请号：KR1020050088584
申请日：2005-09-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은, 기판의 공정장치에 관한 것으로서, 기판의 이송방향을 따라 이격된 복수의 열로 배치되는 복수의 롤러와, 롤러를 회전가능하게 하는 롤러구동부와; 롤러에 대응하여 롤러개구부를 가진 판상의 형태로 형성되며, 롤러의 이송방향에 열과 열 사이에서 승강가능하게 설치되어 롤러에 의해 이송된 기판을 승강시키는 스테이지와; 스테이지를 승강가능하게 하는 승강구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 기판의 공정균일성을 유지하도록 평탄도를 향상시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020070034191A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：KR1020050088584
申请日：2005-09-23
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은, 기판의 공정장치에 관한 것으로서, 상기 기판의 이송방향을 따라 이격된 복수의 열로 배치되는 복수의 롤러와, 상기 롤러를 회전가능하게 하는 롤러구동부와; 상기 롤러의 상기 이송방향에 열과 열 사이에서 승강가능하게 설치되어 상기 롤러에 의해 이송된 상기 기판을 승강시키는 스테이지와; 상기 스테이지를 승강가능하게 하는 승강구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 기판의 공정균일성을 유지하도록 평탄도를 향상시킬 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于基板的处理装置，包括：多个辊，所述多个辊布置成在所述基板的进给方向上彼此间隔开的多行;辊驱动单元，用于旋转所述辊; 沿着所述辊的输送方向设置在所述热和所述热之间以便能够使由所述辊输送的所述基板升降的台; 以及用于升降舞台的升降和驱动单元。 因此，可以改善平坦度以保持衬底的工艺均匀性。
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公开(公告)号：KR100688980B1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：KR1020050059283
申请日：2005-07-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 플라즈마 모니터링 장치와 플라즈마 모니터링 방법에 관한 것이다. 본발명에 따른 플라즈마 모니터링 장치는 플라즈마로부터의 광선 빔(light beam)을 감지하는 광학 센서와, 상기 광학 센서가 감지한 광선 빔으로부터 특정 영역 별로 방출 강도를 나타내는 발광분광분석기(emission spectrometer)와, 상기 특정 영역 별로의 방출 강도로부터 특정 물질의 농도변화를 계산하는 데이터 처리부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 플라즈마 내에서의 특정 물질의 농도를 실시간으로 관찰할 수 있는 플라즈마 모니터링 장치가 제공된다.
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公开(公告)号：KR1020070023279A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：KR1020050077690
申请日：2005-08-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , B65G49/061 , G02F1/1313
Abstract: 본 발명은 기판반송장치에 관한 것으로서, 기판을 지지하는 플레이트를 갖는 기판지지부; 소정의 기판반송방향으로 연장되어 기판지지부를 이동 가능하도록 지지하는 레일부; 및 레일부를 따라 기판지지부를 이동하여 기판을 반송하는 구동부를 포함한다. 이에 의해 기판의 균일성을 확보하도록 기판을 안정적으로 반송할 수 있다.
기판반송장치, 액정표시장치, 균일성, 기판 처짐, 이동식 기판반송지지Abstract translation: 本发明提供了一种能够稳定地转移衬底以确保衬底的均匀性的衬底转移装置。 基板转印装置包括：基板支撑部，其具有支撑基板的板; 轨道部分，其沿着基板的特定传送方向延伸并且可移动地支撑基板支撑部分;以及驱动部分，其使得基板支撑部分沿着轨道部分移动并传送基板。
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