Abstract:
광 검출 소자 및 광 검출 소자의 제작 방법에 관한 것으로, 광 검출 소자는 게이트 전극을 포함하고, 유전체층 및 자가결합계면층이 형성된 기판, 자가결합계면층의 상부에 서로 이격 되어 형성된 소스 전극 및 드레인 전극, 소스 전극과 드레인 전극을 연결하는 그래핀 채널층 및, 그래핀 채널층 상부에 형성된 페로브스카이트 박막을 포함한다.
Abstract:
The present invention relates to a graphene field effect transistor with dielectrics and gate electrodes having stable behaviors despite high strains and a method for manufacturing the same. According to an embodiment of the present invention, the method of manufacturing a graphene field effect transistor with dielectrics and gate electrodes having stable behaviors despite high strains includes a step of preparing a monolithically patterned graphene layer; a step of forming an insulating layer; and a step of forming a gate electrode. [Reference numerals] (AA) Patterned graphene; (BB) Rubber; (CC) Aerosol jet printing; (DD) Nozzle; (EE) Ion gel printing; (FF) Ethanol; (GG,HH) Stretch(transformation); (II) PEDOT:PSS printing; (JJ) Hexane evaporation
Abstract:
본 발명은 투명 도전막, 그 제조 방법, 및 투명 도전막을 포함하는 디바이스 및 전자장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 투명 도전막은 금속 나노구조체와 상기 금속 나노구조체가 배치된 지지기재를 포함하는 투명 도전막으로, 상기 금속 나노구조체는 이방성 형상을 가지는 복수의 금속 나노구조가 하나 이상의 접합 부위를 갖도록 연결된 것이고, 상기 투명 도전막은 550nm 파장에서의 투과율이 90 % 이상이고, 시트 저항값이 10 Ω/sq 이하이며, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기EL디스플레이(OLED), 유기EL조명, 터치 스크린, 및 태양 전지 등의 전자장치에 활용될 수 있다.