公开(公告)号：KR1020140134528A

公开(公告)日：2014-11-24

申请号：KR1020130054548

申请日：2013-05-14

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이재성 ,  오인환 ,  김기환 ,  하림싸히드

IPC: C01F11/00 ,  C01F11/18 ,  A01N59/06 ,  A01P13/00

CPC classification number: C01F11/06 ,  B09B5/00 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/16 ,  C02F1/281 ,  Y02W30/20 ,  Y02W30/52

Abstract: 본 발명의 패각분의 제조방법은, 패각분쇄물에 존재하는 유기물 성분을 제거하여 패각가공물을 제조하는 유기불순물제거단계; 상기 패각가공물을 산으로 처리하여 다공화 패각분쇄물을 제조하는 다공화단계; 상기 다공화 패각분쇄물을 염기로 처리하여 안정화된 다공화 패각분쇄물을 얻는 안정화단계; 그리고 상기 안정화된 다공화 패각분쇄물을 열처리하여 패각분의 기공의 분포를 조절하는 열처리단계;를 포함한다. 상기 패각분의 제조방법은, 폐기되는 패각으로부터 다공성의 표면 구조를 가진 활성화된 패각분을 제조하여, 건설현장의 흡착제, 담체, 반응체 등의 소재로 활용될 수 있으며 비점오염을 저감하기 위한 건설소재로 이용할 수 있다.

Abstract translation: 根据本发明的壳粉制造方法包括通过除去存在于粉碎壳中的有机成分来制造壳产品的有机杂质去除步骤; 通过用酸处理壳产物制造多孔粉碎壳的多孔性步骤; 通过用碱处理多孔粉碎壳获得稳定的多孔粉碎壳的稳定步骤; 以及通过对稳定的多孔粉碎壳进行热处理来调节壳粉末的孔分布的热处理步骤。 具有多孔表面结构的活性壳粉末可以根据制造壳粉末的方法从丢弃的壳制造，用作施工现场的吸附剂，载体，反应物等的材料，并且可以用作还原的构造材料 非点污染。

公开(公告)号：KR1020010026171A

公开(公告)日：2001-04-06

申请号：KR1019990037380

申请日：1999-09-03

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 강병하 ,  고석근 ,  김서영 ,  황규대 ,  박노성 ,  김기환

IPC: F25B15/00

CPC classification number: F25B15/00 ,  F28F13/182 ,  F28F2245/02 ,  Y02A30/277 ,  Y02B30/62

Abstract: PURPOSE: An absorbing refrigeration machine is provided to achieve an improved heat or substance transfer performance while reducing the size and weight of the machine, and installation cost, by allowing the heat transfer section with a plasma hydrophilic-reformed surface to be mounted in a heat exchanger. CONSTITUTION: In an absorbing refrigeration machine consisting of an evaporator, an absorber and a condenser, a heat transfer section has a plasma hydrophilic reformed surface which is a plasma polymer film having a receding contact angle of 30 degrees or lower. Since the pipe with plasma hydrophilic reformed surface has a thin water screen formed at the surface of the pipe, heat transfer performance is improved due to the increased heat transfer surface area and decreased heat resistance.

Abstract translation: 目的：提供一种吸收式制冷机，通过将具有等离子体亲水重整表面的传热部分安装在热量中来实现改进的热或物质转移性能，同时减小机器的尺寸和重量以及安装成本 器。 构成：在由蒸发器，吸收体和冷凝器组成的吸收性制冷机中，传热部具有等离子体亲水性重整面，其为具有30度以下的后退接触角的等离子体聚合物膜。 由于具有等离子体亲水性重整表面的管具有在管表面形成的薄水屏，由于传热表面积增加和耐热性降低，传热性能得到改善。

公开(公告)号：KR1020010013160A

公开(公告)日：2001-02-26

申请号：KR1019997011143

申请日：1998-12-03

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  주식회사 엘지이아이

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  강병하 ,  김기환 ,  하삼철 ,  김철환 ,  최성창

IPC: C23C16/44

CPC classification number: C23C16/503 ,  B05D1/62 ,  B05D3/148 ,  B05D5/083 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/515 ,  C23C16/56 ,  F25B47/003 ,  F28F13/18 ,  F28F2245/02 ,  F28F2245/04

Abstract: PURPOSE: Provided is a plasma polymerization for forming a polymer with hydrophilicity or hydrophobicity on a surface of a material by using a DC discharge plasma or an RF discharge plasma. CONSTITUTION: A method for surface processing by plasma polymerization of a surface of a metal, for enhancing its usefulness in a refrigerating and air-conditioning apparatus by using a DC discharge plasma, comprises the steps of: (a) positioning an anode electrode which is substantially of a metal to be surface-modified and a cathode electrode in a chamber; (b) maintaining a pressure in the chamber at a predetermined vacuum level; (c) blowing a reaction gas comprising an unsaturated aliphatic hydrocarbon monomer gas at a predetermined pressure and a non-polymerizable gas at a predetermined pressure into the chamber, the non-polymerizable gas being 50-90% of the entire reaction gas; and (d) applying a voltage to the electrodes in order to obtain a DC discharge, whereby to obtain a plasma consisting of positive and negative ions and radicals generated from the unsaturated aliphatic hydrocarbon monomer gas and the non-polymerizable gas, and then forming a polymer with hydrophilicity on the surface of the anode electrode by plasma deposition.

Abstract translation: 目的：提供通过使用DC放电等离子体或RF放电等离子体在材料表面形成具有亲水性或疏水性的聚合物的等离子体聚合。 构成：通过等离子体聚合金属表面处理方法，通过使用DC放电等离子体来提高其在制冷空调装置中的用途，包括以下步骤：（a）将阳极电极 基本上待表面改性的金属和室中的阴极电极; （b）将腔室内的压力保持在预定的真空度; （c）将预定压力的不饱和脂族烃单体气体和预定压力的不可聚合气体的反应气体吹入室内，所述非可聚合气体为整个反应气体的50-90％; 和（d）向电极施加电压以获得DC放电，从而获得由不饱和脂族烃单体气体和非可聚合气体产生的正离子和负离子和自由基组成的等离子体，然后形成 通过等离子体沉积在阳极电极的表面上具有亲水性的聚合物。

公开(公告)号：KR100391778B1

公开(公告)日：2003-07-22

申请号：KR1020010000571

申请日：2001-01-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  한성 ,  조준식 ,  김기환

IPC: C23C16/54

Abstract: PURPOSE: A method is provided to improve adhesion force between polymer and metal layer or easily form the metal layer on the polymer having low plating property without a metal seed layer, and simplify treating processes when forming the metal layer on the polymer by electroless or electrolytic plating. CONSTITUTION: The method for improving adhesion force between polymer and metal comprises the processes of partially breaking polymer bonds on the surface of the polymer by irradiating ion beams having an energy onto the polymer as injecting a reactive gas into a vacuum chamber; injecting the reactive gas into the vacuum chamber so that atoms on the surface of the bond broken polymer are reacted with the reactive gas, thereby changing the property of the surface of the polymer into hydrophilic property; and depositing a metal layer on the surface of the polymer changed into the hydrophilic property, wherein an acceleration voltage of the ion beams is 300 to 2000 V, the ion is an ionization gas such as argon, nitrogen, hydrogen, helium, oxygen, ammonia, or a mixture thereof, the reactive gas is oxygen, nitrogen, ammonia, hydrogen, or a mixture thereof, and the deposition of the metal layer is done by an electroless or electrolytic plating.

Abstract translation: 目的：提供一种提高聚合物与金属层之间的粘合力或在没有金属籽晶层的情况下容易地在具有低电镀性能的聚合物上形成金属层的方法，并简化了通过无电解或电解质在聚合物上形成金属层时的处理过程 电镀。 构成：提高聚合物与金属之间的粘附力的方法包括通过向聚合物上照射具有能量的离子束以将反应气体注入真空室中来部分地破坏聚合物表面上的聚合物键的过程; 将反应气体注入真空室，使键合断裂聚合物表面上的原子与反应气体反应，从而将聚合物表面的性质改变为亲水性; 并且在聚合物表面上沉积金属层改变为亲水性，其中离子束的加速电压为300至2000V，离子为电离气体如氩，氮，氢，氦，氧，氨 或它们的混合物，反应气体是氧气，氮气，氨气，氢气或它们的混合物，金属层的沉积通过无电镀或电解镀完成。

公开(公告)号：KR100305906B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980054848

申请日：1998-12-14

Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  최성창 ,  김기환 ,  한성 ,  석진우

IPC: C08J7/00

Abstract: 본 발명은 이온빔을 이용하여 친수성으로 표면개질된 고분자 콘택트렌즈 및 그 표면개질방법에 관한 것으로, 고분자 콘택트렌즈 표면으로, 반응성 기체를 유입시키면서 2000 eV 이하의 에너지를 가진 이온빔을 조사시킴으로써 상기 이온빔으로 고분자 콘택트렌즈의 표면을 활성화시키면서 활성화된 고분자 콘택트렌즈의 표면과 상기 반응성 기체를 반응시켜 그 표면에 친수성기를 형성시키는 고분자 콘택트렌즈의 표면개질방법과 그에 의해 표면개질된 고분자 콘택트렌즈를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020010028257A

公开(公告)日：2001-04-06

申请号：KR1019990040418

申请日：1999-09-20

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  최병연

Inventor： 고석근 ,  최병연 ,  김기환

IPC: B29C71/04

CPC classification number: C08J7/12 ,  C08J2383/04 ,  B29C71/04 ,  B29K2083/00

Abstract: PURPOSE: A surface treated silicon rubber by ionic reaction is provided which improves hydrophilicity of the silicon rubber surface and enable the surface to be plated, colored and apply adhesive. Therefore, the silicon rubber is applied into various industries such as sports, construction, automobile, and the like. CONSTITUTION: The method for treating the surface of silicon rubber is characterized by irradiating ion endowed with energy and infusing reactant gas into the surface of silicon rubber to modify the surface and to improve its hydrophilicity and adhesivness. Wherein, ion energy ranges form 0.5-5.0 keV and the amount of the irradiating ranges from 10¬13-10¬18/cm¬2.

Abstract translation: 目的：提供通过离子反应进行表面处理的硅橡胶，改善了硅橡胶表面的亲水性，使表面能够镀，着色并涂上粘合剂。 因此，将硅橡胶应用于运动，建筑，汽车等各种行业。 构成：处理硅橡胶表面的方法的特征在于照射离子赋予能量并将反应气体注入硅橡胶的表面以改性表面并提高其亲水性和粘合性。 其中，离子能量范围为0.5-5.0keV，照射量范围为10〜13〜18 / cm 2。

公开(公告)号：KR1020000041712A

公开(公告)日：2000-07-15

申请号：KR1019980057666

申请日：1998-12-23

Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  최성창 ,  한성 ,  김기환

IPC: C08J7/00

Abstract: PURPOSE: A hydrophilic polymer membrane the surface of which is modified is provided which has still lower wetting angle compared with common polymer membrane, does not destroy the surface structure of the membrane to preserve the characteristics of the membrane, and has excellent reproducibility, by irradiating ion beam to the membrane. CONSTITUTION: A hydrophilic polymer membrane the surface of which is modified is prepared from a surface-modifying method of the polymer membrane using a vacuum chamber equipped with a gas inlet, an ion source and a substrate holder, characterized in that it comprises a step of fixing a polymer membrane to the substrate holder; a step of introducing a reactive gas into the vacuum chamber through the gas inlet; a step of activating the surface of the polymer membrane by irradiating an ion beam having an energy of 2000 eV or less, generated from the ion source; and a step of reacting the activated surface of the polymer membrane with the reactive gas to form a hydrophilic group on the surface thereof.

Abstract translation: 目的：提供其表面改性的亲水性聚合物膜，其与普通聚合物膜相比具有较低的润湿角度，不破坏膜的表面结构以保持膜的特性，并且通过照射具有优异的再现性 离子束到膜。 构成：使用配备有气体入口，离子源和衬底保持器的真空室的聚合物膜的表面改性方法制备其表面被改性的亲水性聚合物膜，其特征在于它包括以下步骤： 将聚合物膜固定到衬底保持器; 通过气体入口将反应性气体引入真空室的步骤; 通过照射由离子源产生的具有2000eV以下的能量的离子束来活化聚合物膜的表面的工序; 以及使聚合物膜的活化表面与反应性气体反应以在其表面上形成亲水基团的步骤。

公开(公告)号：KR100343717B1

公开(公告)日：2002-07-20

申请号：KR1019997011143

申请日：1998-12-03

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  주식회사 엘지이아이

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  강병하 ,  김기환 ,  하삼철 ,  김철환 ,  최성창

IPC: C23C16/44

CPC classification number: C23C16/503 ,  B05D1/62 ,  B05D3/148 ,  B05D5/083 ,  C23C16/30 ,  C23C16/50 ,  C23C16/515 ,  C23C16/56 ,  F25B47/003 ,  F28F13/18 ,  F28F2245/02 ,  F28F2245/04

Abstract: 본발명에따르면, (a) 챔버내에표면처리되는금속인양극과, 음극을위치시키고; (b) 상기챔버내의압력을소정진공상태로유지하고; (c) 소정압력의불포화지방족탄화수소단량체가스및 중합불능가스를전체반응가스에대하여상기중합불능가스의비율을 50 - 90%가되도록상기챔버내로도입하고; (d) 상기전극에전압을인가하여 DC 방전에의해, 상기챔버내에도입된불포화지방족탄화수소단량체가스및 상기중합불능가스로부터양(+) 및음(-) 이온과라디칼로이루어지는플라즈마를얻고, 플라즈마증착에의해상기양극표면에친수성을갖는고분자중합막을형성하는; DC 방전플라즈마를이용하여열교환기와같은냉동공조에이용되는금속재료표면상에고분자중합막을합성하는방법이제공된다.

公开(公告)号：KR1019990041210A

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019970061767

申请日：1997-11-21

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  김기환 ,  김철환 ,  정형진 ,  최원국 ,  하삼철

IPC: C23C16/00

Abstract: 반응성 가스를 일정량 주입하면서 고분자를 합성하는 고분자 합성방법에 있어서, 반응성 가스를 직류 또는 고주파로 방전시켰을 때 반응성 가스의 플라즈마를 이용하여 재료의 표면에 성질이 다른 중합막을 형성하는 기술로서, 특히 방전의 직류전류, 직류전압, 고주파전력, 재료의 위치 및 증착시간등을 최적화 하면서 중합막의 성질을 바꾸는 고분자 합성방법에 관한 것이다. 진공상태하에서 반응성 가스를 진공챔버에 주입하여 플라즈마의 상태에서 기판 시료를 양극(또는 능동전극) 또는 음극(또는 수동전극)으로 하여 전압을 인가시키면 기판의 표면에 중합물이 증착된다. 본 발명에서는 낮은 에너지와 저 진공상태에서, 시료와 증착시키고자 하는 입자사이에 전위차를 발생시키므로써, 시료의 표면에 새로운 화학적 구조를 가진 물질을 생성하게 되는데, 시료에 증착된 물질의 표면은 반응가스의 종류, 직류전류, 전압, 고주파전력, 증착시간에 따라 여러 가지 다른 화학적 결합이 이루어져 필요에 따라 표면강도의 변화, 접착(adhesion), 흡착(adsorption), 친수성(hydrophilic), 소수성(hydrophobic) 등의 특성을 얻을 수 있다. 이러한 공정을 이용하면 재료 기판의 고유한 성질에는 영향을 주지 않고 시료의 표면에 새로운 물질을 생성할 수 있다.

公开(公告)号：KR100162867B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950021554

申请日：1995-07-21

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  김기환

IPC: H01L21/3205

Abstract: 본 발명은 이온 클러스터 빔을 이용한 반도체 소자용 구리박막 제조방법에 관한 것으로, 증착할 구리를 도가니에 채우는 단계와, 기판을 증착위치에 올려 놓은 후, 증착조건의 진공을 유지하는 단계와, 구리가 채워진 도가니를 도가니 필라멘트와 도가니 밤바드먼트를 조절함으로써 클러스터 이온 빔을 형성시키는 단계와, 이온화 필라멘트와 이온화 전압을 조절하여 이온 빔의 일부분을 이온화시키는 단계와, 가속 전압을 조절하여 이온화된 클러스터 이온을 가속시켜 가속된 클러스터 이온 빔과 중성 클러스터 이온 빔을 기판에 증착시키는 단계의 순서로 진행하는 구리박막 제조방법을 제공하여 반도체의 필요조건인 스텝 커버리지를 만족할 뿐 아니라 구리박막의 결정성이 우수해지고, 제조한 박막의 박막저항이 구리 본래의 저항에 가까운 값을 갖 는 효과가 있으며, 기판과의 접착력이 우수하여 고품위 반도체 소자용으로 사용시 우수한 특성을 가지도록 한 것이다.