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公开(公告)号:KR101116402B1
公开(公告)日:2012-03-09
申请号:KR1020090048234
申请日:2009-06-01
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C07F7/18 , C23C16/42 , H01L21/205
Abstract: 본발명에따른실리콘알콕사이드화합물은상온에서액체상태로존재하며낮은온도에서휘발되는특성을나타냄으로실리콘을포함하는물질의박막증착또는여러가지합금제조에실리콘원료물질로유용하게사용될수 있다.
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公开(公告)号:KR1020110038460A
公开(公告)日:2011-04-14
申请号:KR1020090095757
申请日:2009-10-08
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C07F3/00 , H01L21/205 , B82B3/00
CPC classification number: C07F3/003 , B82B3/00 , C01G23/006 , C01G35/006 , C01P2002/34 , C01P2004/64 , C23C16/404 , H01L21/205
Abstract: PURPOSE: A method for preparing novel alkali earth metal dialkyl glycine compounds is provided to ensure thermal stability. CONSTITUTION: An alkali earthg metal dialkyl glycine compound is denoted by chemical formula 1. In chemical formula 1, M is alkali earth metal of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, or Ra. The alkali earth metal dialkyl glycine compound is prepared by reacting alkali earth metal halide compound of chemical formula 2(MX_2) and sodium dialkyl glycine of chemical formula 3(NaOCOCH_2NR^1R^2). An alkali earth metal oxide nanoparticle is prepared using alkali earth metal dialkyl glycine compound as a precursor.
Abstract translation: 目的:提供一种制备新型碱土金属二烷基甘氨酸化合物的方法,以确保热稳定性。 构成:化学式1表示碱土金属二烷基甘氨酸化合物。在化学式1中,M为Be,Mg,Ca,Sr,Ba或Ra的碱土金属。 碱土金属二烷基甘氨酸化合物通过化学式2(MX_2)的碱土金属卤化物化合物与化学式3的二烷基甘氨酸钠(NaOCOCH 2 NR 1 1R 2)反应来制备。 碱土金属二烷基甘氨酸化合物作为前体制备碱土金属氧化物纳米粒子。
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13.
公开(公告)号:KR1020100129608A
公开(公告)日:2010-12-09
申请号:KR1020090048255
申请日:2009-06-01
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C07F7/18 , C23C16/42 , H01L21/205
CPC classification number: C07F7/1804 , C23C16/24 , C23C16/401 , C23C16/45525 , H01L21/2053
Abstract: PURPOSE: A silicon amino alkoxide compound is provided to use as a silicon ingredient for thin film deposition or alloy manufacturing. CONSTITUTION: A silicon amino alkoxide compound is denoted by chemical formula 1. A silicon amino alkoxide compound is prepared by reacting alkali metal salt of chemical formulas 4(M^1O-A^1-ONR^1R^2) and 5(M^2O-A^2-ONR^4R^5) with a silicon compound of chemical formula 3([R^6]_3-a-bX^1_bX^2_aSi-SiX^1_nX^2_m[R^3]_3-n-m). A silicon-containing thin film is prepared using the silicon amino alkoxide compound as a precursor. The thin film is formed by metal organic chemical vapor deposition or atom layer deposition.
Abstract translation: 目的:提供硅氨基醇盐化合物作为薄膜沉积或合金制造的硅成分。 组成:硅烷氧基化合物由化学式1表示。硅氨基烷氧基化合物是通过使化学式4的碱金属盐(M 1 O-A 1 - ONR ^ 1R ^ 2)和5(M' 2 O-A ^ 2-ONR ^ 4R ^ 5)与化学式3的硅化合物([R 6] 3-a-bX 1 1-x X 2 2-Si x Si 1 N x ^ 2] [R 3 3] _3nm) 。 使用硅氨基醇盐化合物作为前体制备含硅薄膜。 薄膜由金属有机化学气相沉积或原子层沉积形成。
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公开(公告)号:KR100992982B1
公开(公告)日:2010-11-09
申请号:KR1020080113164
申请日:2008-11-14
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C01G27/00
Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 하프늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 하프늄 알콕사이드 화합물은 열적으로 안정하여 하프늄 산화물 박막을 제조하는데 유리하게 이용될 수 있다.
[화학식 1]
Hf(OCR
1 R
2 R
3 )
4
[상기 화학식 1에서 R
1 및 R
2 는 독립적으로 C
1 -C
5 의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R
3 는
C
2 -C
5 의 선형 알케닐 혹은 알키닐기다.]
하프늄, 하프늄 산화물 전구체, 하프늄 산화물, 박막, 유기금속 화학기상 증착법(MOCVD), 원자층 증착법(ALD)
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