신규의 알루미늄 알콕사이드 화합물 및 그 제조 방법
    1.
    发明公开
    신규의 알루미늄 알콕사이드 화합물 및 그 제조 방법 失效
    新型烷氧基铝复合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020100054317A

    公开(公告)日:2010-05-25

    申请号:KR1020080113192

    申请日:2008-11-14

    CPC classification number: C07F5/06

    Abstract: PURPOSE: Novel aluminum alkoxide compounds and a preparing method thereof are provided, which can obtain heat stability and excellent volatility and enable manufacture of a film of the high purity containing aluminum. CONSTITUTION: An aluminium alkoxide compound is represented as the chemical formula 1, Al(O-A-NR^1R^2)_x(R^3)_3-x. In the chemical formula 1, A is alkylene of C2-C5 and is substituted for linear or branched alkyl of one or more C1-C5, R^1 to R^3 are independently linear or branched alkyl of C1-C5, and X is fixed number of 1 to 3. The manufacturing method of the aluminium alkoxide compound is to react aluminum compound of the chemical formula 3, AlR^3_3 and alcohol of the chemical formula 4, HO-A-NR^1R^2.

    Abstract translation: 目的:提供新的烷氧基铝化合物及其制备方法,其可以获得热稳定性和优异的挥发性,并且能够制造含有高纯度的铝的膜。 构成:烷氧化铝化合物表示为化学式1,Al(O-A-NR 1 R 1)2(X 3)3-x。 在化学式1中,A是C 2 -C 5的亚烷基并且被一个或多个C 1 -C 5的直链或支链烷基取代,R 1至R 3独立地是C1-C5的直链或支链烷基,X是 固定数量为1〜3。烷氧基铝化合物的制造方法是使化学式3的铝化合物,AlR 3 3 3和化学式4的醇HO-A-NR 1 1R 2。

    새로운 하프늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조 방법
    2.
    发明公开
    새로운 하프늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조 방법 有权
    新型高效烷氧化铝化合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020100054300A

    公开(公告)日:2010-05-25

    申请号:KR1020080113164

    申请日:2008-11-14

    Abstract: PURPOSE: A novel hafnium alkoxide compounds and a preparing method thereof are provided, in which compounds are thermally stable, have high volatility, and enhance reactivity with the ozone. CONSTITUTION: A novel hafnium alkoxide compound is represented as the chemical formula 1, HF(OCR^1R^2R^3)_4. In the chemical formula 1, R^1 and R2 are independently the linear or branched alkyl group of C1-C5, R^3 is linear alkenyl or alkynyl group of C2-C5. R^1 and R2 are independently selected from CH_3, C2H5, and CH(CH_3)2 or C(CH_3)3, and R^3 is C≡CH, CH_2C≡CH, CH_2CH_2C≡CH, C≡CCH_3, CH_2C≡CCH_3 or CH_2CH_2C≡CCH_3. The manufacturing method of the hafnium alkoxide compound of the chemical formula 1 is to react hafnium amide compound of the chemical formula 2, Hf(NR^4R^5)_4 and alcohol compound of the chemical formula 3, HOCR^1R^2R^3.

    Abstract translation: 目的:提供一种新型的铪醇盐化合物及其制备方法,其中化合物是热稳定的,具有高挥发性,并增强与臭氧的反应性。 构成:一种新的铪醇盐化合物以化学式1表示,HF(OCR 1 R 1 R 2 R 3)4。 在化学式1中,R 1和R 2独立地是C 1 -C 5的直链或支链烷基,R 3是C 2 -C 5的直链烯基或炔基。 R 1和R 2独立地选自CH 3,C 2 H 5和CH(CH 3)2或C(CH 3)3,R 3是C≡CH,CH 2C≡CH,CH 2 CH 2C≡CH,C≡CCH3,CH 2C≡CCH3 或CH 2 CH 2C≡CCH3。 化学式1的铪醇盐化合物的制造方法是使化学式2的铪酰胺化合物,Hf(NR 4 4R 5)4和化学式3的HO化合物HOCR 1 1R 2 2R 3 。

    신규의 티타늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조방법
    4.
    发明公开
    신규의 티타늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조방법 有权
    新型烷基氧化钛化合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020110006968A

    公开(公告)日:2011-01-21

    申请号:KR1020090064627

    申请日:2009-07-15

    CPC classification number: C07F7/28 C23C16/405 C23C16/45525 H01L21/205

    Abstract: PURPOSE: A method for preparing titanium alkoxide compound is provided to manufacture thermally stable titanium oxide thin film. CONSTITUTION: A titanium alkoxide compound is denoted by chemical formula 1(Ti(OCR^1R^2R^3)_4). In chemical formula 1, R1 and R2 are independently linear or branched alkyl group of C1-C5; and R3 is linear alkenyl or alkinyl group of C2-C5. A titanium alkoxide compound is prepared by reacting alcohol compound of chemical formula 3(HOCR^1R^2R^3) with titanium amide compound of chemical formula 4(Ti(NR^4R^5)_4). A titanium oxide thin film is manufactured using titanium alkoxide compound as a precursor by MOCVD(metal organic chemical vapor deposition) and ALD(atomic layer deposition).

    Abstract translation: 目的:提供一种制备钛醇盐化合物的方法,以制造热稳定的氧化钛薄膜。 构成:化学式1表示钛醇盐化合物(Ti(OCR,1R ^ 2R ^ 3))4)。 在化学式1中,R1和R2分别是C1-C5的直链或支链烷基; 并且R 3是C 2 -C 5的直链烯基或炔基。 通过使化学式3的醇化合物(HOCR 1 1R 2 2R 3)与化学式4的钛酰胺化合物(Ti(NR 4 4R 5)4))反应制备烷氧基钛化合物。 通过MOCVD(金属有机化学气相沉积)和ALD(原子层沉积)作为前体的钛醇盐化合物制造氧化钛薄膜。

    실리콘-실리콘 결합을 갖는 신규의 실리콘 알콕사이드 화합물 및 그 제조방법
    5.
    发明公开
    실리콘-실리콘 결합을 갖는 신규의 실리콘 알콕사이드 화합물 및 그 제조방법 失效
    含有硅 - 硅键的新型硅烷氧化铝复合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020100129591A

    公开(公告)日:2010-12-09

    申请号:KR1020090048234

    申请日:2009-06-01

    Abstract: PURPOSE: A method for preparing a novel silicon alkoxide compound is provided to ensure volatile characteristic at low temperature and to use as a silicon ingredient. CONSTITUTION: A silicon alkoxide compound is denoted by chemical formula 1. The silicon alkoxide compound is prepared by reacting alkali metal salt of chemical formulas 5(M^2O-A^2-OR^3) and 4(M^1O-A^1-OR^1) with a silicon compound of chemical formula 3([R^4]3-a-bX^1bX^2aSi-SiX^1nX^2m[R^2]3-n-m). A silicon-containing thin film is produced using the silicon alkoxide compound as a precursor. The silicon-containing thin film is formed by metal organic chemical vapor deposition(MOCVD) or atom layer deposition(ALD).

    Abstract translation: 目的:提供一种制备新的硅烷氧化物化合物的方法,以确保低温下的挥发性特征并用作硅成分。 构成:硅烷氧化物化合物由化学式1表示。硅烷氧化物化合物通过使化学式5(M 2 O-A 2 2- OR 3)和4(M 1 O-A ^ 1-OR 1)与化学式3的硅化合物([R 4] 3-a-bX 1,1b 3)2 Si-SiX 1 1 X 2 2 [[R 2] 3-nm)反应。 使用硅醇盐化合物作为前体制造含硅薄膜。 含硅薄膜由金属有机化学气相沉积(MOCVD)或原子层沉积(ALD)形成。

    신규의 티타늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조방법
    7.
    发明授权
    신규의 티타늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조방법 有权
    新型烷氧基钛化合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR101093817B1

    公开(公告)日:2011-12-19

    申请号:KR1020090064627

    申请日:2009-07-15

    Abstract: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 티타늄 알콕사이드 화합물 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 티타늄 알콕사이드 화합물은 열적으로 안정한 티타늄 산화물 박막을 제조하는데 유용하게 사용될 수 있다.
    [화학식 1]
    Ti(OCR
    1 R
    2 R
    3 )
    4
    [상기 화학식 1에서 R
    1 및 R
    2 는 서로 독립적으로 C
    1 -C
    5 의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R
    3 은
    C
    2 -C
    5 의 선형 알케닐 또는 알키닐기이다.]
    티타늄, 티타늄 알콕사이드 화합물, 티타늄 산화물 박막, 화학기상 증착법(MOCVD), 원자층 증착법(ALD)

    신규의 알칼리 토금속 화합물 및 그 제조 방법
    8.
    发明公开
    신규의 알칼리 토금속 화합물 및 그 제조 방법 有权
    新碱性碱土金属化合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020110119191A

    公开(公告)日:2011-11-02

    申请号:KR1020100038772

    申请日:2010-04-27

    Abstract: PURPOSE: A novel alkaline earth metal compound using modified glycine derivatives is provided to ensure easy maintenance and excellent thermal stability. CONSTITUTION: An alkaline earth metal compound is denoted by chemical formula 1. The alkaline earth metal compound of chemical formula 1 is prepared by reacting alkaline earth metal halide compound of chemical formula 2(MX_2) with sodium(bis-(alkoxyalkyl))glycinate or sodium(bis-(dialkylaminoalkyl))glycinate of chemical formula 3(NaOCOCH_2N &(CH_2)nY R_2). An alkaline earth metal oxide thin film is formed by metal organic chemical vapor deposition.

    Abstract translation: 目的:提供使用改性甘氨酸衍生物的新型碱土金属化合物,以确保易于维护和优异的热稳定性。 化学式1的碱土金属化合物是通过使化学式2(MX_2)的碱土金属卤化物与(双 - (烷氧基烷基))甘氨酸钠或 化学式3(NaOCOCH 2 N&(CH 2)n Y R 2)的(双(二烷基氨基烷基))甘氨酸钠。 通过金属有机化学气相沉积形成碱土金属氧化物薄膜。

    신규의 알칼리 토금속 디알킬글리신 화합물 및 그 제조 방법
    10.
    发明授权
    신규의 알칼리 토금속 디알킬글리신 화합물 및 그 제조 방법 失效
    新型碱土金属二烷基甘氨酸化合物及其制备方法

    公开(公告)号:KR101124216B1

    公开(公告)日:2012-04-12

    申请号:KR1020090095757

    申请日:2009-10-08

    Abstract: 본 발명은 변형된 글리신을 사용한 신규의 알칼리 토금속 디알킬글리신 화합물 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 하기 화학식 1로 표시되는 알칼리 토금속 디알킬글리신 화합물에 관한 것이다.
    [화학식 1]

    [상기 화학식 1에서,
    M은 Be, Mg, Ca, Sr, Ba 또는 Ra에서 선택되는 알칼리 토금속이고, R
    1 및 R
    2 는 서로 독립적으로 할로겐이 하나 이상 치환되거나 치환되지 않은 C3-C7의 선형 또는 분지형의 알킬기이다.]
    본 발명에 따른 알칼리 토금속 디알킬글리신 화합물은 금속 산화물 박막 및 금속 산화물 나노입자 형성을 위한 전구체로 사용되며, 수분에 덜 민감하고 보관이 용이하며 열적 안정성이 우수한 특성이 있다.
    알칼리 토금속, 디알킬글리신, 전구체, 금속 산화물, 박막

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