公开(公告)号：KR1020170027282A

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：KR1020160106752

申请日：2016-08-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스에키히데히토 ,  미우라도모히사

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: (과제) 리프트핀의높이위치를단시간에정확하게위치맞춤할수 있는기판처리장치를제공한다. (해결수단) 제어부(50)의구동제어부(51)로부터, 리프트핀 장치의구동부에모터의구동지령을발한다. 이구동지령을받아, 모터가, 지령펄스에따른회전속도및 토크로회전구동하고, 리프트핀을상승구동시킨다. 맞닿음검지부(53)는, 서보앰프로부터의출력값을감시한다. 예컨대, 서보앰프내의편차카운터에있어서의지령펄스의적산값인축적펄스의절대값이임계값을넘은경우에, 리프트핀의선단이, 탑재물의하면에맞닿았다고판정한다.

公开(公告)号：KR1020150067057A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：KR1020140174955

申请日：2014-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 센바쇼헤이 ,  스에키히데히토

IPC: G02B1/11

Abstract: 본발명은기재상에얇은산화알루미늄막을균일하게형성하여균일한미세요철형상의반사방지구조를얻을수 있는반사방지기능을가지는부재및 그제조방법을제공한다. 반사방지기능을가지는부재(10)는기재(11)와, 기재(11)의표면에형성된반사방지막(13)을구비하고있다. 반사방지막(13)은원자층퇴적법에의해형성된산화알루미늄막을, 고온의열수또는수증기에의해수열처리하는것에의해, 미세요철구조가형성된것이다.

Abstract translation: 本发明提供一种具有防反射功能的部件及其制造方法，其可以通过在基材上均匀地形成薄的氧化铝膜而获得具有均匀微小凸起形状的防反射结构。 具有防反射功能的构件（10）包括：基材（11）; 以及形成在基材（11）的表面上的防反射膜（13）。 通过在原子层沉积形成的氧化铝膜上进行用热水或高温蒸汽的加热处理来形成防反射膜（13）的微小凸块结构。

公开(公告)号：KR100907109B1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：KR1020020058297

申请日：2002-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사사키가즈오 ,  스에키히데히토 ,  사토요시츠토무 ,  니시무라미치오

IPC: H05H1/26

Abstract: 고주파 안테나(112)와, 고주파 안테나에 접속된 고주파 전원(160)과, 피처리체를 설치하는 서셉터(106)와, 고주파 안테나와 서셉터의 사이에 설치된 유전체 커버(174)와, 고주파 안테나와 유전체의 사이에 설치된 도전체(170)와, 도전체에 접속된 접지 회로(180)와, 접지 회로 중에 설치된 인덕턴스가 가변적인 인덕터(302)와, 커패시턴스가 가변적인 커패시터(304)를 구비한 플라즈마 처리 장치(100)의 인덕턴스 또는 커패시턴스를 조정함으로써, 유전체 커버(174)로의 이물의 부착 속도와 유전체 커버(174)의 스패터 속도가 거의 동등해져, 이 결과 유전체 커버(174)로의 이물의 부착을 방지할 수 있다.

Abstract translation: 连接到高频天线的高频电源160，用于安装待处理物体的基座106，设置在高频天线和基座之间的介电盖174， 连接到导体的接地电路180，安装在接地电路中的具有可变电感的电感器302以及具有可变电容的电容器304。 通过调整处理装置100的电感或电容，异物对电介质盖174的附着速度和电介质盖174的溅射速度大致相同， 可以预防。

公开(公告)号：KR1020080087739A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：KR1020080027985

申请日：2008-03-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스에키히데히토 ,  오노요시히사 ,  나카야마히데키

IPC: H01L21/68

Abstract: A cable wiring structure and a substrate transfer mechanism are provided to suppress a load applied to each of filaments of a cable and predict easily a shape and a track of each of the filaments. A casing(110) includes a cable wiring space(116). A rotary member is rotatably arranged to observe the cable wiring space of the casing. A flat cable is formed by integrating and bonding a plurality of band-shaped filaments with each other. Each of the filaments is arranged in a vertical direction and is formed in the rotary member to be stored in the cable wiring space. One end of the flat cable is attached to a position apart from the center of the rotary member. The other end of the flat cable is attached to the casing. A wiring diameter of the flat cable is increased toward the cable wiring space.

Abstract translation: 提供了电缆布线结构和基板传送机构，以抑制施加到电缆的每个细丝上的负载，并且容易地预测每个长丝的形状和轨迹。 壳体（110）包括电缆布线空间（116）。 旋转构件可旋转地布置以观察壳体的电缆布线空间。 扁平电缆通过将多个带状长丝彼此结合并结合而形成。 每个灯丝沿垂直方向布置并形成在旋转件中，以被存储在电缆布线空间中。 扁平电缆的一端安装在离开旋转体中心的位置。 扁平电缆的另一端连接到外壳。 扁平电缆的布线直径增加到电缆布线空间。

公开(公告)号：KR1020070026263A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060084744

申请日：2006-09-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카베세이지 ,  스에키히데히토

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1309 ,  H01L21/683

Abstract: A transfer chamber, a substrate processing apparatus, and a method of detecting a defect of a substrate are provided to optically detect a defect on a substrate by placing optical sensors near an opening through which the substrate is loaded and unloaded. A transfer chamber(20) is located in proximity to a process chamber for processing a rectangular substrate(S) and includes a transfer device for transferring the substrate to the process chamber. The transfer chamber further includes an opening(22d) through which the substrate transferred by the transfer device is loaded and unloaded, and a pair of optical sensors(70) arranged near the opening at an interval narrower than the width of the substrate.

Abstract translation: 提供传送室，基板处理装置和检测基板的缺陷的方法，以通过将光学传感器放置在靠近基板的开口的位置来光学地检测基板上的缺陷。 传送室（20）位于用于处理矩形基板（S）的处理室附近，并且包括用于将基板传送到处理室的传送装置。 传送室还包括一个开口（22d），由传送装置传送的衬底通过该开口被装载和卸载;以及一对光学传感器（70），其以比衬底的宽度窄的间隔布置在开口附近。