公开(公告)号：DE112014001235T5

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：DE112014001235

申请日：2014-03-31

Applicant: AGENCY SCIENCE TECH & RES ,  IBM

Inventor： ENGLER AMANDA CATHERINE ,  HEDRICK JAMES LUPTON ,  CHIN WILLY ,  LEE ASHLYNN L Z ,  NG VICTOR W L ,  ONG ZHAN-YUIN ,  YANG YI YAN ,  COADY DANIEL JOSEPH ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY

IPC: A61K31/785 ,  A61K31/80

Abstract: Antimikrobielle kationische Polymere mit einer oder zwei kationischen Polycarbonatketten wurden durch organokatalysierte Ringöffnungspolymerisation hergestellt. Ein antimikrobielles kationisches Polymer weist eine Polymerkette auf, die im Wesentlichen aus kationischen Carbonat-Wiederholungseinheiten besteht, die mit einer oder zwei Endgruppen verknüpft sind. Die Endgruppen können eine kovalent gebundene Form einer biologisch aktiven Verbindung wie Cholesterin umfassen. Andere antimikrobielle kationische Polymere weisen eine statistische Copolycarbonatkette auf, die einen kleineren Molenbruch an hydrophoben Wiederholungseinheiten umfasst, die eine kovalent gebundene Form von einem Vitamin E und/oder Vitamin D2 tragen. Die kationischen Polymere weisen hohe Aktivität und Selektivität gegen Gram-negative und Gram-positive Mikroben und Fungi auf.

公开(公告)号：DE112010003408T5

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：DE112010003408

申请日：2010-08-03

Applicant: IBM

Inventor： DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  BROCK PHILLIP JOE ,  TRUONG HOA ,  ALLEN ROBERT DAVID

IPC: G03F7/039

Abstract: Fotolack-Zusammensetzungen umfassen ein Gemisch eines Phenolpolymers mit einem Copolymer auf (Meth)acrylatbasis, das frei ist von Ether-enthaltenden und/oder Carbonsäure-enthaltenden Einheiten. Das (Meth)acrylat-Copolymer umfasst ein erstes Monomer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Alkylacrylat, einem substituierten Alkylacrylat, einem Alkyl(meth)acrylat, einem substituierten Alkylmethacrylat und Gemischen davon, und ein zweites Monomer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Acrylat, einem (Meth)acrylat oder einem Gemisch davon mit einem säurespaltbaren Estersubstituenten; und einen Fotosäuregenerator. Es werden auch Verfahren zum Herstellen eines Fotolack-Bilds auf einem Substrat mit der Fotolack-Zusammensetzung offenbart.

公开(公告)号：DE112014001240T5

公开(公告)日：2016-01-21

申请号：DE112014001240

申请日：2014-03-27

Applicant: AGENCY SCIENCE TECH & RES ,  IBM

Inventor： COADY DANIEL JOSEPH ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ENGLER AMANDA CATHERINE ,  HEDRICK JAMES LUPTON ,  ONG ZHAN-YUIN ,  TAN JEREMY P K ,  YANG YI YAN ,  NG VICTOR W L

IPC: A61K38/10 ,  A61K31/337

Abstract: Antimikrobielle kationische Polymere mit einer oder zwei kationischen Polycarbonatketten wurden durch organokatalysierte Ringöffnungspolymerisation hergestellt. Ein antimikrobielles kationisches Polymer weist eine Polymerkette auf, die im Wesentlichen aus kationischen Carbonat-Wiederholungseinheiten besteht, die mit einer oder zwei Endgruppen verknüpft sind. Die Endgruppen können eine kovalent gebundene Form einer biologisch aktiven Verbindung wie Cholesterin umfassen. Andere antimikrobielle kationische Polymere weisen eine statistische Copolycarbonatkette auf, die einen kleineren Molenbruch an hydrophoben Wiederholungseinheiten umfasst, die eine kovalent gebundene Form von einem Vitamin E und/oder Vitamin D2 tragen. Die kationischen Polymere weisen hohe Aktivität und Selektivität gegen Gram-negative und Gram-positive Mikroben und Fungi auf.

公开(公告)号：GB2526953A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：GB201513172

申请日：2014-03-27

Applicant: IBM ,  AGENCY SCIENCE TECH & RES

Inventor： COADY DANIEL J ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ENGLER AMANDA C ,  HEDRICK JAMES LUPTON ,  NG VICTOR W L ,  ONG ZHAN-YUIN ,  TAN JEREMY P K ,  YANG YI YAN

IPC: A61K38/10 ,  A61K31/337 ,  C08G65/332

Abstract: Antimicrobial cationic polymers having one or two cationic polycarbonate chains were prepared by organocatalyzed ring opening polymerization. One antimicrobial cationic polymer has a polymer chain consisting essentially of cationic carbonate repeat units linked to one or two end groups. The end groups can comprise a covalently bound form of biologically active compound such as cholesterol. Other antimicrobial cationic polymers have a random copolycarbonate chain comprising a minor mole fraction of hydrophobic repeat units bearing a covalently bound form of a vitamin E and/or vitamin D2. The cationic polymers exhibit high activity and selectivity against Gram-negative and Gram-positive microbes and fungi.

公开(公告)号：DE602006012076D1

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：DE602006012076

申请日：2006-08-21

Applicant: IBM

Inventor： ALLEN ROBERT DAVID ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  TRUONG HOA ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SOORIYAKUMARAN RATNAM

IPC: G03F7/004 ,  C07J9/00 ,  C07J17/00 ,  G03F7/039

Abstract: A dissolution modification agent suitable for use in a photoresist composition including a polymer, a photoacid generator and casting solvent. The dissolution modification agent is insoluble in aqueous alkaline developer and inhibits dissolution of the polymer in the developer until acid is generated by the photoacid generator being exposed to actinic radiation, whereupon the dissolution modifying agent, at a suitable temperature, becomes soluble in the developer and allows the polymer to dissolve in the developer. The DMAs are glucosides, cholates, citrates and adamantanedicarboxylates protected with acid-labile ethoxyethyl, tetrahydrofuranyl, and angelicalactonyl groups.

公开(公告)号：GB2485470B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：GB201119373

申请日：2010-08-03

Applicant: IBM

Inventor： DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  TRUONG HOA

IPC: G03F7/039

Abstract: Photoresist compositions include a blend of a phenolic polymer with a (meth)acrylate-based copolymer free of ether-containing and/or carboxylic acid-containing moieties. The (meth)acrylate copolymer includes a first monomer selected from the group consisting of an alkyl acrylate, a substituted alkyl acrylate, an alkyl (meth)acrylate, a substituted alkyl methacrylate and mixtures thereof, and a second monomer selected from the group consisting of an acrylate, a (meth)acrylate or a mixture thereof having an acid cleavable ester substituent; and a photoacid generator. Also disclosed are processes for generating a photoresist image on a substrate with the photoresist composition.

公开(公告)号：GB2485470A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：GB201119373

申请日：2010-08-03

Applicant: IBM

Inventor： DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  BROCK PHILLIP JOE ,  TRUONG HOA

IPC: G03F7/039

Abstract: Photoresist compositions include a blend of a phenolic polymer with a (meth)acrylate-based copolymer free of ether-containing and/or carboxylic acid-containing moieties. The (meth)acrylate copolymer includes a first monomer selected from the group consisting of an alkyl acrylate, a substituted alkyl acrylate, an alkyl (meth)acrylate, a substituted alkyl methacrylate and mixtures thereof, and a second monomer selected from the group consisting of an acrylate, a (meth)acrylate or a mixture thereof having an acid cleavable ester substituent; and a photoacid generator. Also disclosed are processes for generating a photoresist image on a substrate with the photoresist composition.

公开(公告)号：SG52851A1

公开(公告)日：1998-09-28

申请号：SG1996010825

申请日：1996-10-07

Applicant: IBM

Inventor： BREYTA GREGORY ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  HOFER DONALD CLIFFORD ,  ITO HIROSHI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312

Abstract: A radiation sensitive resist compsn. comprises: (a) bis (lower alkyl phenyl) iodonium camphor sulphonate; and (b) a copolymer comprising hydroxystyrene and (meth)acrylate having an acid-clearable substituent.

公开(公告)号：SG11201508338VA

公开(公告)日：2015-11-27

申请号：SG11201508338V

申请日：2014-03-27

Applicant: IBM ,  AGENCY SCIENCE TECH & RES

Inventor： COADY DANIEL JOSEPH ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  ENGLER AMANDA CATHERINE ,  HEDRICK JAMES LUPTON ,  NG VICTOR W L ,  ONG ZHAN-YUIN ,  TAN JEREMY P K ,  YANG YI YAN

IPC: A61K38/10 ,  A61K31/337

Abstract: Antimicrobial cationic polymers having one or two cationic polycarbonate chains were prepared by organocatalyzed ring opening polymerization. One antimicrobial cationic polymer has a polymer chain consisting essentially of cationic carbonate repeat units linked to one or two end groups. The end groups can comprise a covalently bound form of biologically active compound such as cholesterol. Other antimicrobial cationic polymers have a random copolycarbonate chain comprising a minor mole fraction of hydrophobic repeat units bearing a covalently bound form of a vitamin E and/or vitamin D2. The cationic polymers exhibit high activity and selectivity against Gram-negative and Gram-positive microbes and fungi.

公开(公告)号：MY123980A

公开(公告)日：2006-06-30

申请号：MYPI9804156

申请日：1998-09-10

Applicant: IBM ,  SUMITOMO BAKELITE CO

Inventor： GOODALL BRIAN L ,  SHICK ROBERT S ,  RHODES LARRY F ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  DIPIETRO RICHARD ANTHONY ,  WALLOW THOMAS ,  SAIKUMAR JAYARAMAN

IPC: G03F7/004 ,  C08F2/46 ,  C08F32/00 ,  C08G61/08 ,  G03C1/72 ,  G03F7/039

Abstract: THE PRESENT INVENTION RELATES TO A RADIATION SENSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING A PHOTOACID INITIATOR AND A POLYCYCLIC POLYMER COMPRISING REPEATING UNITS THAT CONTAIN PENDANT ACID LABILE GROUPS. UPON EXPOSURE TO AN IMAGING RADIATION SOURCE THE PHOTOACID INITIATOR GENERATES AN ACID WHICH CLEAVES THE PENDANT ACID LABILE GROUPS EFFECTING A POLARITY CHANGE IN THE POLYMER. THE POLYMER IS RENDERED SOLUBLE IN AN AQUEOUS BASE IN THE AREAS EXPOSED TO THE IMAGING SOURCE.(FIGURE 1)