FLÜSSIGKEITSAUSGABEEINHEIT MIT HYDROPHOBER OBERFLÄCHE

    公开(公告)号:DE112018002960B4

    公开(公告)日:2021-07-01

    申请号:DE112018002960

    申请日:2018-07-16

    Applicant: IBM

    Abstract: Flüssigkeits-Ausgabevorrichtung (200), die aufweist:ein erstes Substrat (210), das einen in dem ersten Substrat gebildeten Behälter (222) aufweist;eine in dem Behälter (222) aufgenommene Flüssigkeit (230);eine auf der Oberfläche des ersten Substrats angeordnete Membran (220), die eine Öffnung des Behälters (222) bedeckt;ein auf das erste Substrat (210) geklebtes zweites Substrat (209), wobei das zweite Substrat eine Behälterdichtung (206) aufweist;eine auf einer Innenfläche der Membran (220) angeordnete hydrophobe Schicht (224), wobei durch die hydrophobe Schicht (224) ein Luftpolster zwischen einer Oberfläche der Flüssigkeit und der Membran (220) gebildet ist;Elektroden, die in elektrischem Kontakt mit der Membran (220) stehen; undeine auf einer Oberfläche des Behälters (222) gegenüber der Membran (220) angeordnete hydrophile Schicht (232).

    FLÜSSIGKEITSAUSGABEEINHEIT MIT HYDROPHOBER OBERFLÄCHE

    公开(公告)号:DE112018002960T5

    公开(公告)日:2020-04-02

    申请号:DE112018002960

    申请日:2018-07-16

    Applicant: IBM

    Abstract: Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung betreffen eine Flüssigkeits-Ausgabevorrichtung. Ein nicht als Einschränkung zu verstehendes Beispiel der Vorrichtung beinhaltet ein Substrat mit einem in einer Oberfläche des Substrats gebildetem Hohlraum. Die Vorrichtung kann auch eine auf der Oberfläche des Substrats angeordnete Membran enthalten, die eine Öffnung des Hohlraums bedeckt. Die Vorrichtung kann auch eine auf der Membran angeordnete hydrophobe Schicht enthalten. Die Vorrichtung kann auch eine zwischen der Membran und dem Substrat angeordnete Dichtung enthalten, wobei die Dichtung die Öffnung des Hohlraums umgibt. Die Vorrichtung kann auch eine mit der Membran verbundene Elektrodenschicht enthalten.

    14.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE3686087T2

    公开(公告)日:1993-03-04

    申请号:DE3686087

    申请日:1986-05-07

    Applicant: IBM

    Abstract: A field effect transistor structure suitable for use in an array of such structures disposed on a common substrate (14) is formed with a source terminal (22), a drain (24) terminal, and a gate terminal (26) upon an upper surface of a semiconductor chip. The chip includes a first layer (18) and a second layer (20), the first layer being grown epitaxially upon the second layer. The first layer forms a part of the gate terminal and the second layer includes a charge conduction channel coupling the source region and the drain region. A pocket layer (16) is disposed in the second layer beneath the terminals of the transistor structure and is doped with either an donor dopant or an acceptor dopant for altering the electric field at the conduction channel to insert electrons or remove electrons therefrom so as to convert an operating mode from either an enhancement mode to a depletion mode or from a depletion mode to an enchancement mode. A substrate with a terminal on the backside thereof may be placed contiguous the bottom of said second layer, the back terminal being applied to a negative source of voltage for a transistor structure of n-channel format. The semiconductor material of the chip is a obtained from compounds of elements of the groups III and V of the periodic table.

    15.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE3686087D1

    公开(公告)日:1992-08-27

    申请号:DE3686087

    申请日:1986-05-07

    Applicant: IBM

    Abstract: A field effect transistor structure suitable for use in an array of such structures disposed on a common substrate (14) is formed with a source terminal (22), a drain (24) terminal, and a gate terminal (26) upon an upper surface of a semiconductor chip. The chip includes a first layer (18) and a second layer (20), the first layer being grown epitaxially upon the second layer. The first layer forms a part of the gate terminal and the second layer includes a charge conduction channel coupling the source region and the drain region. A pocket layer (16) is disposed in the second layer beneath the terminals of the transistor structure and is doped with either an donor dopant or an acceptor dopant for altering the electric field at the conduction channel to insert electrons or remove electrons therefrom so as to convert an operating mode from either an enhancement mode to a depletion mode or from a depletion mode to an enchancement mode. A substrate with a terminal on the backside thereof may be placed contiguous the bottom of said second layer, the back terminal being applied to a negative source of voltage for a transistor structure of n-channel format. The semiconductor material of the chip is a obtained from compounds of elements of the groups III and V of the periodic table.

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