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    Aplicador de plasma de microondas con uniformidad de potencia mejorada
    11.
    发明专利
    Aplicador de plasma de microondas con uniformidad de potencia mejorada 未知

    公开(公告)号：ES2768714T3

    公开(公告)日：2020-06-23

    申请号：ES15715899

    申请日：2015-03-19

    Applicant: MKS INSTR INC

    Inventor： CHEN XING ,  JI CHENGXIANG ,  MADDEN ERIN ,  POKIDOV ILYA ,  WENZEL KEVIN

    IPC: H05H1/46

    Abstract: Un aparato (200,200A) para generar plasma, que comprende: un tubo de descarga de plasma (250A) sustancialmente transparente a la energía de microondas, el tubo de descarga de plasma que tiene un eje longitudinal (151); una bobina conductora (160) enrollada alrededor de una superficie externa del tubo de descarga de plasma, la bobina conductora que comprende un material eléctricamente conductor; una cavidad de microondas (252A) que rodea el tubo de descarga de plasma, una guía de ondas (272, 372) acoplada a la cavidad de microondas para guiar la energía de microondas hacia el tubo de descarga de plasma de manera que el plasma se genere en el tubo de descarga de plasma, la guía de ondas que tiene una sección transversal rectangular que define un lado más estrecho de la sección transversal rectangular y un lado más ancho de la sección transversal rectangular, un primer eje de sección transversal (170) de la sección transversal rectangular que es paralelo al lado más ancho de la sección transversal rectangular y un segundo eje de sección transversal (271) de la sección transversal rectangular que es paralelo al lado más estrecho de la sección transversal rectangular, la guía de ondas (272, 372) que se dispone de manera que el segundo eje de sección transversal (271), y por lo tanto, el campo eléctrico de microondas en uso forma un ángulo predeterminado con respecto al eje longitudinal del tubo de descarga de plasma de manera que, en uso, el campo eléctrico de microondas induce una corriente eléctrica en la bobina conductora, la corriente eléctrica que afecta la absorción de energía en el tubo de descarga de plasma, caracterizado porque el ángulo predeterminado puede seleccionarse de manera que la absorción de energía en el tubo de descarga de plasma es de acuerdo con un perfil predeterminado con respecto al eje longitudinal del tubo de descarga de plasma; y mediante un actuador (318A, 318B) para recibir una señal para ajustar el ángulo predeterminado mediante la rotación de la guía de ondas alrededor del eje longitudinal de la guía de ondas.

    MICROWAVE PLASMA APPLICATOR WITH IMPROVED POWER UNIFORMITY
    16.
    发明专利
    MICROWAVE PLASMA APPLICATOR WITH IMPROVED POWER UNIFORMITY 未知

    公开(公告)号：SG11201607824YA

    公开(公告)日：2016-10-28

    申请号：SG11201607824Y

    申请日：2015-03-19

    Applicant: MKS INSTR INC

    Inventor： CHEN XING ,  JI CHENGXIANG ,  MADDEN ERIN ,  POKIDOV ILYA ,  WENZEL KEVIN W

    IPC: H05H1/46

    Abstract: An apparatus for generating plasma includes a plasma discharge tube and a conductive coil helically wound around an outer surface of the plasma discharge tube. A waveguide is coupled to a microwave cavity surrounding the plasma discharge tube to guide the microwave energy into the plasma discharge tube such that the plasma is generated in the plasma discharge tube. The waveguide is positioned such that an electric field of the microwave energy is oriented at a predetermined angle with respect to the longitudinal axis of the plasma discharge tube. A resulting induced electric current in the conductive coil affects power absorption in the plasma discharge tube, the predetermined angle being selectable such that power absorption in the plasma discharge tube is according to a predetermined profile with respect to the longitudinal axis of the plasma discharge tube.

    Ringplasmakanal mit variierenden Querschnittsflächen entlang des Kanals
    17.
    发明专利
    Ringplasmakanal mit variierenden Querschnittsflächen entlang des Kanals 未知

    公开(公告)号：DE112012004749T5

    公开(公告)日：2014-11-06

    申请号：DE112012004749

    申请日：2012-11-14

    Applicant: MKS INSTR INC

    Inventor： HU CHAOLIN ,  CHEN XING

    IPC: H01J37/32 ,  C23C16/455 ,  G21B1/05 ,  H05H1/12

    Abstract: Anordnung zum Einstellen von Gasströmungsmustern und Gas-Plasma-Wechselwirkungen, wobei die Anordnung eine Ringplasmakammer (201) enthält. Die Ringplasmakammer weist ein Einspritzelement (213), ein Ausgangselement (217), ein erstes Seitenelement (205) und ein zweites Seitenelement (209) auf, die alle verbunden sind. Das erste Seitenelement (205) weist eine erste innere Querschnittsfläche in zumindest einem Teil des ersten Seitenelements und eine zweite innere Querschnittsfläche in zumindest einem anderen Teil des ersten Seitenelements auf, wobei die erste innere Querschnittsfläche und die zweite innere Querschnittsfläche verschieden sind. Das zweite Seitenelement (209) weist eine dritte innere Querschnittsfläche in zumindest einem Teil des zweiten Seitenelements und eine vierte innere Querschnittsfläche in zumindest einem anderen Teil des zweiten Seitenelements auf, wobei die dritte innere Querschnittsfläche und die vierte innere Querschnittsfläche verschieden sind.

    Methods and apparatus for downstream dissociation of gases
    20.
    发明专利
    Methods and apparatus for downstream dissociation of gases 未知

    公开(公告)号：GB2435581A

    公开(公告)日：2007-08-29

    申请号：GB0710106

    申请日：2007-05-25

    Applicant: MKS INSTR INC

    Inventor： HOLBER WILLIAM ,  CHEN XING

    IPC: B01J12/00 ,  C23C16/452 ,  H01J37/32

    Abstract: A method and apparatus for activating and dissociating gases involves generating an activated gas with a plasma located in a chamber. A downstream gas input is positioned relative to an output of the chamber to enable the activated gas to facilitate dissociation of a downstream gas introduced by the gas input, wherein the dissociated downstream gas does not substantially interact with an interior surface of the chamber.

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