在真空或低压环境中操作高压腔室且供观测的方法及装置

    公开(公告)号:CN100511568C

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200510070170.8

    申请日:2005-05-09

    Inventor: 赵治宇 谢文俊

    CPC classification number: H01J37/20 H01J2237/2002

    Abstract: 本发明是有关一种在真空或低压环境中操作高压腔室且供观测的方法及装置,主要是于一壳体内部通过若干隔板由中央向外逐层形成一腔室,一蒸气室,一缓冲室或多缓冲室,并于该隔板上形成同轴的蒸气孔、内孔、外孔或缓冲孔,通过一加压装置对该腔室内注入较高压流体,而于该腔室外部则给予逐层气压降的环境,并通过控制该腔室与蒸气室间的压力差,以避免该腔室内的流体以液态形态自蒸气孔流出,可确保受高压的流体限制于该腔室内,通过此,可通过蒸气孔,内孔,外孔的同轴关是使探测源能够穿透腔室内的流体样品,以达到观测及分析的效果及目的。

    防污染阱以及真空应用装置

    公开(公告)号:CN105474348B

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201480045594.6

    申请日:2014-09-18

    Abstract: 本发明提供防污染阱以及真空应用装置,在现有构造中将双重的冷却罐之间真空隔热,通过与内侧容器连接的高导热率材料来对冷却部进行冷却。在这样的构造中,也有由于高导热率材料、针对冷却部的浸入热而造成的影响,但例如在制冷剂使用了液体氮的情况下,约需要30分钟到达-120℃。即使花费了时间的情况下,也就是-150℃前后的到达温度,远远不及液体氮温度的-196℃。因此,在本发明的防污染阱以及真空应用装置中,其特征在于,是在真空应用装置中冷却装置内冷却部(5)的构造,具有装有对冷却部(5)进行冷却的制冷剂(2)的冷却罐(1)、和从上述冷却罐(1)到冷却部(5)附近的冷却管(7),制冷剂(2)被供给到冷却部(5)前端。并且,其特征在于,将用于释放冷却管内气泡(10)的管(8)插入到冷却部(5)。

    托架及包括该托架的分析装置

    公开(公告)号:CN1580751B

    公开(公告)日:2010-05-12

    申请号:CN200410042072.9

    申请日:2004-04-30

    Inventor: 咸龙男

    Abstract: 本发明提供一种托架及包括该托架的分析装置。托架包括样品座、样品接收器和样品升降器。样品座容纳样品并具有导向槽。样品座固定于样品接收器上,且与导向槽互锁的导轨形成于样品座中。样品升降器上下提升样品接收器并接受和卸下样品座。样品升降器包括驱动样品接收器上下移动的驱动部分和包括驱动部分并维持封闭状态下的真空度的真空室。因此,托架屏蔽水分,这样通过分析装置能够实现精确的分析。

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