Abstract:
Es wird ein Gegenstand (100) bereitgestellt, der mindestens eine erste Leiterstruktur (1), zumindest eine elektronische Einheit (5), mindestens eine zweite Leiterstruktur (2), die von der ersten Leiterstruktur (1) und/oder von der elektronischen Einheit (5) galvanisch getrennt, aber daran elektrisch ankoppelbar ist, und eine Trägerstruktur (15) mit zumindest einer ersten Trägerschicht (10), einem ersten Trägerschichtbereich (11) der ersten Trägerschicht (10) und mit einem zweiten Trägerschichtbereich (21) aufweist. Die Trägerstruktur (15) ist in einem Grundflächenbereich (G), der zumindest einen Teil der Grundfläche der Trägerstruktur (15) umfasst, als Schichtenstapel (16) ausgebildet. Der Schichtenstapel (16) umfasst zumindest den ersten Trägerschichtbereich (11) der ersten Trägerschicht (10) und den zweiten Trägerschichtbereich (21). Ferner ist zumindest ein Teil der ersten (1) und der zweiten Leiterstruktur (2) in dem Grundflächenbereich (G) angeordnet. Die erste Leiterstruktur (1) und/oder die elektronische Einheit (5) ist an den ersten Trägerschichtbereich (11) gelötet, gebondet oder auf sonstige Weise mit dem ersten Trägerschichtbereich (11) verbunden, wohingegen die zweite Leiterstruktur (2) an den zweiten Trägerschichtbereich (12; 21) gelötet, gebondet oder auf sonstige Weise mit dem zweiten Trägerschichtbereich (21) verbunden ist.
Abstract:
Eine Mehrschicht-Wirbelstromsonde (110) hat eine Vielzahl von spiralförmigen Flachspulen (S1–S4), die in unterschiedlichen Spulenschichten (114) einer Mehrschichtanordnung (112) angeordnet sind, wobei zwischen benachbarten Spulenschichten der Mehrschichtanordnung jeweils eine Isolierschicht (116) aus elektrisch isolierendem Material angeordnet ist. Jede der Flachspulen weist ein inneres Anschlussende (I1–I4) und ein äußeres Anschlussende (A1–A4) auf. Ausgewählte Anschlussenden von ausgewählten Flachspulen unterschiedlicher Spulenschichten sind mittels Durchkontaktierungen elektrisch miteinander verbunden. Die Flachspulen bilden mindestens eine Spulengruppe (200), die mindestens drei Flachspulen (S1–S4) aufweist, die in unterschiedlichen Schichten übereinander angeordnet sind, wobei die inneren Anschlussenden (I1–I4) der mindestens drei Flachspulen der Spulengruppe über eine gemeinsame innere Durchkontaktierung (VI) elektrisch leitend verbunden sind.
Abstract:
An electrical circuit structure (100) can include a first trace (105) formed using a first conductive layer and a second trace (110) formed using a second conductive layer. The first trace can be vertically aligned with the second trace. The electrical circuit structure can include a via segment (115) formed of conductive material in a third conductive layer between the first conductive layer and the second conductive layer. The via segment can contact the first trace and the second trace forming a first conductor structure configured to convey an electrical signal in a direction parallel to the first conductive layer.
Abstract:
Multichannel RF Feedthroughs. In some examples, a multichannel RF feedthrough includes an internal portion and an external portion. The internal portion includes a top surface on which first and second sets of traces are formed. Each set of traces is configured as an electrical communication channel to carry electrical data signals. The external portion includes a bottom surface on which the first set of traces is formed and a top surface on which the second set of traces is formed. A set of vias connects the first set of traces between the top surface of the internal portion and the bottom surface of the external portion.